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Fターム[4G059AC03]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | 機能 (3,660) | つや出し、平滑化、薄化 (482)

Fターム[4G059AC03]に分類される特許

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【課題】リン酸塩含有ガラスの表面変質を抑制しつつ、前記ガラスを精密加工または洗浄するガラスの処理方法を提供する。
【解決手段】リン酸塩含有ガラスの表面に液体を接触させて前記表面を研磨するなどの精密加工工程または液体を用いてリン酸塩含有ガラスを洗浄する洗浄工程の少なくとも一方の処理工程を備えるガラスの処理方法において、予め前記液体にリン酸塩を溶解することにより、前記ガラス中のリン成分の前記液体への溶出を抑制しつつ、前記処理工程を行うガラスの処理方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ガラス等の研磨性を確保しつつ、酸化セリウム量を低減できる研磨材を提供する。
【解決手段】本発明の研磨材は、酸化ジルコニウムからなる基粒子により形成されたコア部と、該基粒子よりも粒径が小さく酸化セリウムからなる微粒子が該基粒子の外表面上に結合または生成して形成されたシェル部とにより構成された複合砥粒を含むことを特徴とする。この複合砥粒は、研磨性に影響するシェル部に酸化セリウムからなる微粒子を有し、研磨性に直接影響しないコア部はそれより比重の小さい酸化ジルコニウム粒子(基粒子)からなる。このため、酸化セリウムによる研磨性の確保と酸化セリウムの低減が両立されることに加えて、複合砥粒のスラリー中における分散安定性も高まり、さらなる研磨性の向上も図られる。 (もっと読む)


【課題】研磨手段の姿勢制御に着目することにより、近年要求が高まっている曲面を多用した建築物の外装材や内装に利用可能な、種々の曲面を有する結晶化ガラスを工業的に製造する技術を提供する。
【解決手段】曲面を有するガラス板Gを研磨するガラス板研磨装置であって、ガラス板Gを保持する保持手段10と、ガラス板Gを研磨する研磨手段20と、ガラス板Gに対して研磨手段20を押し付ける押圧手段30と、ガラス板Gと研磨手段20とが実質的に面接触する状態を維持しながら、保持手段30を回転させる回動手段40と、保持手段30を水平方向にスライドさせるスライド手段50と、を備え、ガラス板Gと研磨手段20との面接触領域において、ガラス板Gに対する研磨手段20の押圧軸aがガラス板Gの曲面の法線bと一致するように、回動手段40、及びスライド手段50が調整される。 (もっと読む)


【課題】樹脂板とガラス板とを積層一体化させた積層体の切断面を、効率良く仕上げ可能とする。
【解決手段】樹脂板2の表裏両面にガラス板3,4を積層一体化させた積層体1の加工方法であって、積層体1を切断する切断工程と、この切断工程により形成された積層体1の切断面1aを仕上げる仕上げ工程とを有する。仕上げ工程は、研削加工によりガラス板3,4の切断面3a,4aを加工し、かつ、樹脂板2の切断面2aの少なくとも一部を未加工の状態で残す第1段階と、未加工の状態で残した樹脂板2の切断面2aのみを加工する第2段階とを有する。未加工の状態で残された樹脂板2の切断面2aは、主に切削加工で加工される。 (もっと読む)


【解決手段】基板に接触され、多数の空孔を有するナップ層が、エーテル樹脂を含む少なくとも3種類の樹脂を有するベース樹脂にて形成された研磨布を用い、これに研磨スラリーを同伴させて基板表面を研磨する工程を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、基板表面の欠陥数が少なく、かつ高平滑性化された基板を製造することが可能となる。また、研磨布の使用時間を延長することができることから、コストダウン及び生産性の向上につながる。 (もっと読む)


【課題】端縁部が高精度に面取り加工され、高い強度を付与された板ガラス並びにその製造方法、研磨方法及び研磨装置を提供することを課題とする。
【解決手段】上面、下面及びその両面の間に端面を有する矩形の板ガラスであって、前記上面又は前記下面と前記端面との境界にある稜部のうち少なくとも1辺の稜部又は少なくともひとつの端面が研磨テープで研磨され仕上がり面に形成された板ガラスであって、該仕上がり面の平均表面粗さRaが20nm以下であり且つ最大谷深さRvが200nm以下である板ガラス。 (もっと読む)


【課題】スクライブ後の脆性材料基板の割断面の品質(端面強度)が高くなるようにした、マザー脆性材料基板からの脆性材料基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマザー脆性材料基板からの脆性材料基板の製造方法は、マザー脆性材料基板からスクライビングホイールを用いて形成された脆性材料基板20の端面22に向けて複数の研磨材粒子が凝集し水分を含有する多数の研磨材23を吹き付け、脆性材料基板の端面を研磨する。研磨時に脆性材料基板20の端面22のみが露出するように治具21a、21bに保持すると端面22のみを良好に研磨することができる。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクの読取不良及び書込不良の発生を抑制した、磁気ディスク用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の全表面に存在するセリウム量が0.020ng/mm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】治具を使用することなくガラス基板に対して化学研磨処理を施すことが可能な枚葉式の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】化学研磨装置10は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。搬送部は、ガラス基板100の底面を支持しつつ水平方向に搬送するように構成された複数の搬送ローラ50を備える。研磨処理部は、第1〜第4の処理チャンバ16,18,20,22、第1〜3の中継部28,30,32を備える。第1〜第4の処理チャンバ16,18,20,22は、それぞれがガラス基板に対して同一組成の化学研磨液を噴射するように構成される。第1〜3の中継部28,30,32は、各処理チャンバを連結するように構成される。第1〜第4の処理チャンバ16,18,20,22のそれぞれは、ガラス基板100の搬送方向に直交する方向に揺動可能な噴射ノズルを有する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり(nWq)を測定したとき、一の評価領域と、これに隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値(ΔnWq)は、前記一の評価領域の微小うねりに対する比率が10%以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】半導体用ガラス基板の少なくとも一方の面に非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差の側面と基板の非貫通の穴、溝又は段差を有する面との間に第1の面取り部が存在し、上記非貫通の穴、溝又は段差の側面及び底面が鏡面であると共に、上記第1の面取り部が鏡面である、半導体用ガラス基板。
【効果】本発明によれば、IC等の製造に重要な光リソグラフィ法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板やナノインプリント用モールド基板等の非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用ガラス基板おいて、形状精度が高く、底面及び側面が鏡面である非貫通の穴、溝又は段差を有し、非貫通の穴、溝又は段差において割れ及び欠けが発生しにくく、高い強度及び清浄度を有する半導体用合成石英ガラス基板を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程は、研磨パッドとコロイダルシリカを含有する研磨液を用いて、ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有しており、主平面研磨工程は、ガラス基板の洗浄工程後に得られる磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも一方の主平面であって、記録再生領域となる領域の全面を含む主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり(nWq)を測定したとき、一の評価領域と、隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値の、一の評価領域の微小うねりに対する比率(変化率)が10%以下となるように主平面を研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造(M)とテトラゴナル結晶構造(T)を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 (もっと読む)


【課題】極めて平坦度が高く、かつ、微小欠陥(凹状欠陥、凸状欠陥)を低減したマスクブランク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッド21,11が貼り付けられ上下に対向して設けられた上定盤20と下定盤10との間に、複数のガラス基板を挟持し、ガラス基板に上定盤側20より研磨液を供給しながら、ガラス基板の両主表面を両面研磨する。ガラス基板の形状は四角形で、そのコーナー部においてノッチマークを少なとも1以上有する。ガラス基板の上記両面研磨は、ノッチマークが形成されていない一方の主表面を上定盤20側にセットして行う。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】外周端部まで主表面の平面度が良好であり、かつ取り代の大きい研削工程を省くことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を一対の金型を用いてプレス成形してガラスブランクを成形する成形工程と、成形されたガラスブランクをディスク形状のガラス基板に形状加工する形状加工工程と、上記ディスク形状のガラス基板の少なくとも外周端部に面取り面を形成する面取り面形成工程と、面取り面が形成されたガラス基板の主表面を研磨する研磨工程とを含む。成形工程では、一対の主表面の中央部が凹んでおり、かつ中心部から外周端部に向かって板厚が大きくなるガラスブランクを成形し、面取り面形成工程では、主表面と面取り面に隆起部が介在するガラス基板を形成し、研磨工程では、隆起部が主表面と同じ高さとなるようにガラス基板の研磨を行う。 (もっと読む)


【課題】両面研磨装置を用いたガラス基板の磁気薄膜層形成予定面のみに研磨を行なった場合であっても、磁気薄膜層形成予定面に微小な凹凸の発生を抑制することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第1キャリア205aに保持されるガラス基板1Gの磁気薄膜層形成予定面14とは反対側の面15と補助プレート206の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をF1、前記予定面14と第1研磨部材203との間の水平方向に生じる摩擦力をF2とし、第2キャリア205bに保持されるガラス基板1Gの磁気薄膜層形成予定面14とは反対側の面15と補助プレート206の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をF3、この予定面14と第2研磨部材204との間の水平方向に生じる摩擦力をF4とした場合、F1/F2およびF3/F4の値が、0.8以上1.75以下となる条件の下で、磁気薄膜層形成予定面14の研磨を行なう。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】ガラス板の表面に固着したカレットを除去する。
【解決手段】フッ化水素及び水蒸気を含む反応ガスを大気圧近傍下でガラス板90に接触させて、ガラス板90の表面部分91e,92eを構成するSiOのエッチング反応を起こさせる。エッチング反応の度合いを、カレット93,94の表面部分93e,94eがエッチングされるとともに表面部分93e,94eより内側の部分93a,94aが残留する程度に調節する。その後、ガラス板90を洗浄流体43にて洗浄する。 (もっと読む)


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