【課題】傷がガラス基板上にあっても視認し難く、要求される表示品質を備えたＩＰＳ型液晶表示パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】互いに貼り合された二枚のガラス基板１１，２１の間に液晶１が封入されたＩＰＳ型液晶表示パネルＰである。二枚の基板１１，２１のうち視認側となる一方の基板１１の視認側の面に、第一層膜４及び第二層膜５が積層された下地層と、透明導電膜６と、偏光板１７と、が順次積層されている。第一層膜４の屈折率ｎ１，第二層膜５の屈折率ｎ２及び透明導電膜６の屈折率ｎ３は、ｎ２＜ｎ１＜ｎ３である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の割れおよび反りの発生を抑制して高品質の膜を成膜する。
【解決手段】３００℃以上かつガラスの歪点より低い第１加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して１層目の膜を形成する第１成膜工程と、第１加熱温度より高い第２加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して２層目の膜を形成する第２成膜工程とを備える。また、第２成膜工程後に、ガラス基材をガラスの徐冷点以上の温度下で保持する歪取工程と、歪取工程後に、ガラス基材を室温まで徐冷する徐冷工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】作業効率を高く維持しつつ、ガラスカレットが機能膜に付着することを確実に防止することが可能なフラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法は、ガラス基板１０に対して導電材料の液滴を吐出することによって導電膜を形成する。このフラットパネルディスプレイ用導電膜付ガラス基板の製造方法は、所望のサイズのパネル状に切断された複数のガラス基板１０を単一のシート状に配列するステップと、複数のガラス基板１０の配列状態に応じた所定パターンで導電材料の液滴を吐出するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】比較的安価な前駆体材料を使用して、フロートガラス製造過程中に大気圧化学気相堆積方法によって、酸化スズ膜を速い堆積速度で形成する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、基材上に酸化亜鉛コーティングを堆積させるための化学気相堆積方法であって、亜鉛含有化合物を含む第１の前駆体気体流と水を含む第２の前駆体気体流とを基材の表面に送達し、前記基材の表面上で前記第１及び第２の前駆体気体流を、酸化亜鉛コーティングが前記表面上に５ｎｍ／秒よりも速い堆積速度で形成されるための十分に短い時間で混合させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施す方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。 （もっと読む）

【課題】様々な有機溶媒や樹脂との相溶性に優れ、無機材料表面に対してケイ素−酸素結合を形成することができ、容易に精製できるトリアリールアミン誘導体、その製造方法、その中間生成物、当該トリアリールアミン誘導体を無機材料表面に結合させてなる無機複合材料、並びに当該無機複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるシラノール基を有するトリアリールアミン誘導体。


（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１１、Ｒ^１４中、少なくとも一つはＳｉＲ^１６Ｒ^１７ＯＨ（式中、Ｒ^１６、Ｒ^１７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、もしくは環状の一価炭化水素基を示す。）で表される置換基である。） （もっと読む）

【課題】赤外線の透過率を電気的に制御する調光素子を提供する。
【解決手段】第１透明部材１２を含む第１基体１０と、第２透明部材２２を含む第２基体２０と、電解質層３０とを備える電気制御調光素子１０００が提供される。典型的な電気制御調光素子においては、第１透明部材１２のある面１２が二酸化バナジウムを主成分として含む調光層１００により被覆され、第２透明部材２２のある面が透明電極膜により被覆され、そして電解質層３０が、第１基体１０の調光層１００と第２基体２０の透明電極膜とにより挟まれている。 （もっと読む）

【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機ＥＬ用透明導電性基材とその製造方法、有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜３を形成する有機ＥＬ用透明導電性基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス板とその上に形成された酸化錫膜とを備えた透明導電膜付きガラス板を改良し、可視域から近赤外域にかけての広い波長域において光を効果的に散乱させるに適した構造とする。
【解決手段】本発明による透明導電膜付きガラス板においては、ガラス板１の上に形成された透明導電膜３が、酸化錫を主成分とする層３１と、層３１の表面上に配置された酸化亜鉛または酸化インジウムを主成分とする島部３２とを有し、透明導電膜３の表面に、島部からなる第１凸部３２とともに、層の表面に存在する第２凸部３３が露出している。 （もっと読む）

【課題】走行するパネル端部近傍で均一な蒸着方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの支持体２上に配置された、少なくとも１つのパネル１の表面を処理する方法に関し、ガス、液体または微粉固体材料を吹き付けることにあり、この場合、上記支持体はパネル端部を超えて突き出し、吹付け材料の障壁として作用する。吹付け材料は、パネルに平行で、パネルの全端部の近傍で外側の方向に付勢される。このようにして、エッジ効果は打ち消され、この処理によって、パネル中心における効果と同一効果を端部に沿って生成する。この処理はさらに、例えば、ＳｎＯ_２：ＦなどのＣＶＤ蒸着の形態を取ることもできる。 （もっと読む）

【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な電子機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】電子機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板１の表面に印刷を施す印刷工程を含み、カバーガラス用ガラス基板１の全面に保護膜２を形成する工程と、前記印刷工程の前に、少なくとも印刷を施す領域に相当する前記保護膜２の表面を印刷が可能となるように改質処理する工程とを有する。前記印刷工程では、改質処理された領域のうち前記印刷を施す領域に印刷を施す。 （もっと読む）

【課題】基材の種類に関わらず、良好な電気特性及び光学特性を有する透明導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基材の一主面上に、透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒とを含むコーティング組成物を塗布して透明導電膜を形成する第１の工程と、上記透明導電膜を、温度１０〜５０℃でかつ相対湿度６０％以下の環境下で乾燥させることにより、上記透明導電膜中の溶媒量を減少させる第２の工程とを含み、上記コーティング組成物中の固形分濃度は、８０％以下であり、上記第２の工程後の上記透明導電膜の乾燥膜厚をａ（μｍ）とし、上記第２の工程後の上記透明導電膜中の溶媒量をｂ（ｍｇ／ｍ²）としたとき、ｂ／ａ［ｍｇ／（ｍ²・μｍ）］が１０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い熱的耐久性を有する熱線反射ガラス板を提供する。
【解決手段】熱線反射ガラス板１は、ガラス基板１０と、金属膜１１と、透明導電膜１３とを備えている。ガラス基板１０は、第１及び第２の主面１０ａ、１０ｂを有する。金属膜１１は、第１の主面１０ａの上に形成されている。金属膜１１は、相互に間隔をおいて配置されている。透明導電膜１３は、平面視において金属膜１１と重なるように、第１及び第２の主面１０ａ、１０ｂのうちの少なくとも一方の上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜での光線の吸収を減少させ、光電変換効率を向上させることができる透明導電膜基板およびその製造方法、ならびにこの基板を用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】ガラス基板１８上に第一酸化物構造層１２、第二酸化物層１４及び導電性酸化物層１６がその順に形成された光電変換デバイス用透明導電膜基板であって、第一酸化物構造層１２には、ガラス基板１８の面から突出した複数の凸部が設けられ、前記凸部のガラス基板１８の面からの高さは２００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であり、第二酸化物層１４は、ＳｉとＳｎとの混合酸化物で構成され、該混合酸化物における、ＳｉとＳｎとの合計に対するＳｎのモル比（Ｓｎ／（Ｓｉ＋Ｓｎ））が０．０５〜０．３であり、第二酸化物層１４の膜厚は２〜１０ｎｍであり、導電性酸化物層１６は、Ｆを含有したＳｎＯ₂で構成されている。 （もっと読む）

【課題】１枚のガラス母材から多数の電子装置用のガラス基板を効率よく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】複数の使用領域に区分されているガラス基板について、その表裏面の一方又は双方に薄膜層を形成する第１工程（ＳＴ２）と、第１工程を終えたガラス基板を内包するようガラス基板の全体を保護フィルムで覆う第２工程（ＳＴ４）と、保護フィルムで覆われた状態で、ガラス基板を保護フィルムと共に、複数の使用領域毎に機械的に切断分離する第３工程（ＳＴ５〜ＳＴ６）と、切断分離された個々のガラス基板から保護フィルムを剥離する第４工程（ＳＴ７）と、保護フィルムを剥離したガラス基板について、その表裏面の一方又は双方にシート材を貼着する第５工程（ＳＴ８）と、を有して構成される。 （もっと読む）

【課題】マザー基板の透明導電膜が形成されている側の主面に、透明導電膜にキズをつけることなくスクライブラインを形成でき、部材の汚染を抑制できる、透明導電膜を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、光学ガラス基板であるマザー基板１の一主面を少なくとも２つの領域１ａ、１ｂに分割する未塗布部１ｃが形成されるように、マザー基板１の一主面上に導電性無機粒子、樹脂、及び溶剤を含むコーティング組成物を塗布し、乾燥させることにより、マザー基板１の一主面上に透明導電膜３を形成する工程と、未塗布部１ｃにスクライブライン１ｄを形成する工程と、スクライブライン１ｄに沿ってマザー基板１を切断し、一主面に透明導電膜３を有するガラス基板４を得る工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 光透過性と異方導電性とを高いレベルで両立し、種々の電気機器に好適に用いることができる透明異方導電性膜、及び、そのような透明異方導電性膜を簡易かつ安価に製造することができる透明異方導電性膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 導電物質を含む導電性線部が間隔を空けて複数並ぶ透明異方導電性膜であって、該透明異方導電性膜は、導電性線部の長軸方向における電気抵抗率が、１×１０^−２Ω・ｃｍ以下であり、導電性線部の長軸方向と直交する方向における電気抵抗率が、１×１０^２Ω・ｃｍであり、全光線透過率が５０％以上である透明異方導電性膜。 （もっと読む）

【課題】可視光の波長領域のみならず、赤外光の波長領域において高透明性を示す導電膜を形成するための酸化インジウム系粒子を提供すること。
【解決手段】本発明のスズ・アンチモンドープ酸化インジウム粒子は、Ｓｎ／Ｉｎのモル比が０．１〜０．３で、Ｓｂ／Ｉｎのモル比が０．０３〜０．４である。この粒子は、インジウム塩及びスズ塩を含む水溶液にアルカリを添加し、次いでこの液に、アンチモン塩及び酸を含む水溶液を添加し、それによって生成した沈殿物を大気中で焼成して得られたものである。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１と、ガラス板１１上に形成された透明導電膜１５と、を備え、透明導電膜１５が透明導電層（透明導電層Ａ）１３と透明導電層（透明導電層Ｂ）１４を有し、透明導電層Ｂ１４が透明導電層Ａ１３の上に形成され、透明導電膜１５が複数の空孔１３ａ（１３ｂ）を含み、複数の空孔１３ａ（１３ｂ）の各々が、透明導電層Ａ１３の表面における凹部１３ｈを透明導電層Ｂ１４塞いだものである、透明導電膜付きガラス板１０、を提供する。透明導電膜ガラス板１０は、透明導電層Ａ１３の表面の一部の領域をエッチングによって膜厚方向に後退させるとともに、当該一部の領域を塞ぐように透明導電層Ａ１３の上に透明導電層Ｂ１４を形成することで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程で、帯電防止機能が高く且つ透明性に優れる透明導電膜を透明基板上に形成する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、導電性粒子と、樹脂と、前記樹脂を溶解可能で且つ沸点が１２０℃以上の溶剤とを含むコーティング組成物を作製する工程と、透明基板の上に、前記コーティング組成物をスプレーコーターにより塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を乾燥して透明導電膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。また、本発明の透明導電膜は、上記本発明の透明導電膜の製造方法によって形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）