【課題】ガラスが脆弱性を示す限界値より低い中央張力を有する強化ガラス物品を提供する。
【解決手段】強化ガラス物品は、厚さｔを有し、以下を含む：物品の表面から物品内の層の深さＤＯＬまで伸長する外側領域であって、圧縮応力ＣＳ下の外側領域；および中央張力ＣＴ下の内側領域であって、−１５．７ｔ＋５２．５＜ＣＴ≦−３８．７ｌｎ（ｔ）＋４８．２であり、ＣＴがメガパスカル（ＭＰａ）で示されｔがミリメートル（ｍｍ）で示される内側領域を有する。 （もっと読む）

【課題】従来のように熱処理を必要とせず柔軟性、耐衝撃性及びガスバリア性に加えて耐熱性、透明性に優れた積層体を提供する。
【解決手段】籠型シルセスキオキサン構造を含有する硬化性樹脂と硬化触媒とを含む硬化性樹脂組成物を硬化させてなる樹脂層が接着層または粘着層を介してガラスの片面または両面に設けられている積層体であって、ガラスの厚みが０．７mm以下であり、樹脂層の合計厚みとガラスの厚み比率（樹脂層の合計厚み／ガラスの厚み）が０．０１以上４．０未満であることを特徴とする積層体である。 （もっと読む）

【課題】ハウジングの強度を高めることができるハウジングの強化方法及びこの方法を用いて製造したハウジングを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るハウジングの強化方法は、サファイア材質のハウジングを準備するステップと、硝酸カリウム、ケイ酸カリウム、珪藻土及び水を含有する噴霧液を使用して、温度が４８０〜５５０℃のハウジングに対してスプレーすることによって、該ハウジングの表面にカリウムイオンを含有する強化膜層を形成するステップと、ハウジングの温度が室温まで下がるまで、該ハウジングに対して持続的にスプレーするステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンＦが設けられ、該パターンＦは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高圧応力領域１２と低圧応力領域１３を包含し、低圧応力領域１３によりこれら高圧応力領域１２相互間が隔離設置される。該ガラス基板の高圧応力領域１２はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低圧応力領域１３は加工性を保持し、ガラス基板を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】化学強化の作業を長時間停止することなく処理液を交換することができると共に、板ガラス全体を均一に強化処理することができるガラス強化装置の提供。
【解決手段】板ガラスを、処理剤の融点〜融点+70℃の温度範囲に調節された処理液に浸漬して化学強化するガラス強化装置。該装置は、少なくとも、前記板ガラスを前記処理液の温度近辺まで加熱する予熱炉、処理液の温度を保持するための制御手段、ヒーター及び処理液を排出するドレンバルブを有する化学処理槽、化学処理された板ガラスの温度を120〜80℃に冷却する徐冷炉、冷却された板ガラスを洗浄する水洗槽、乾燥手段；前記板ガラスを前記予熱炉、化学処理槽、徐冷炉、水洗槽、乾燥手段の順に搬送する手段、及び、前記化学処理槽に処理液を供給する供給槽を有すると共に、前記化学処理槽が処理液を攪拌する手段を有し、前記供給槽が、処理剤を融解する手段及び該手段によって得られた処理液を前記化学処理槽に供給する手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも一方の主平面（記録再生面）全体に設定される、格子状の評価領域ごとに表面粗さＲａを測定した場合、その最大値が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板及び該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で測定した表面粗さＲａの最大値が、前記表面粗さＲａの平均値の１．７倍以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板及び該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラスを等方性エッチングすることにより、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板に加工する形状加工工程と、ガラス基板を化学強化する化学強化工程と、を含み、形状加工工程における、板状ガラスの板厚とエッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第１の対応関係と、化学強化工程における、化学強化条件と化学強化条件で化学強化を行った場合におけるガラス基板の寸法の伸びとの第２の対応関係とを予め把握しておき、化学強化工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、第１および第２の対応関係を参照して、化学強化工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板を化学強化する。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１００を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板１００の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンよりも大きなイオン半径である化学強化処理液中のイオンとイオン交換することによりガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程前のガラス基板１００の寸法に基づいて、化学強化工程後のガラス基板１００の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板１００を化学強化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分なイオン強化が可能なガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１は、表層１ａ，１ｂにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率と、中央層１ｃにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率との差が、１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造（Ｍ）とテトラゴナル結晶構造（Ｔ）を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】剥離性ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性ガラス基板を得る表面処理工程と、剥離性ガラス基板上に未硬化の硬化性樹脂組成物層を形成する硬化性樹脂組成物層形成工程と、キャリア基板を未硬化の硬化性樹脂組成物層上に積層する積層工程と、未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化し、樹脂層を有する硬化後積層体を得る硬化工程と、硬化後積層体中のキャリア基板の外周縁に沿って、樹脂層および剥離性ガラス基板を切断する切断工程と、剥離性ガラス基板上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から電子デバイスを分離して得る分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】可視光透過性、遮熱係数、耐擦傷性および鉛筆硬度の良好な熱線遮蔽材の提供。
【解決手段】少なくとも１種の金属粒子およびバインダーを含有する金属粒子含有層を有し、前記金属粒子含有層の厚みが１０ｎｍ〜８０ｎｍであり、前記金属粒子が、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を６０個数％以上有し、前記金属平板粒子含有層中のバインダーが架橋剤由来の架橋構造を有し、架橋基密度比が０．３〜３０である熱線遮蔽材。 （もっと読む）

【課題】巻き取り時の破断を効果的に抑制しつつ、良好にロール状に巻き取ることが可能なガラスフィルムを提供する。
【解決手段】ガラスフィルム１の巻き取り方向Ａに平行な一対の端面１ａとこれらの端面１ａにそれぞれ連なる表裏面の縁部１ｂとに化学処理を施し、機械的強度を向上させたことで、ガラスフィルム巻き取り時の破断を効果的に抑制しつつ、良好にロール状に巻き取ることが可能となった。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないＨＤＤ用ガラス基板およびＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が５０〜２００μｍである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び／又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが２〜３０μｍであることを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、磁気ディスク装置に搭載された場合に使用時にイオン溶出による後発エラーの発生頻度が少ないＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが１００μｍを超え１８０μｍ以下であるＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】本発明は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして利用可能な強度及び視認性を有する抗菌性ガラスを供給することを目的とした。
【解決手段】表層に抗菌物質を有する抗菌性ガラスであって、該抗菌性ガラスは表層において、ガラス表面から深さ３０μｍ以内に銀イオンの拡散層と、ガラス表面から深さ方向に厚み１５μｍ以上の圧縮層とを有し、表面圧縮応力が４８０ＭＰａ以上であり、前記表層において、蛍光Ｘ線分析法によって測定されたカリウムのＸ線強度（Ｋ）と銀のＸ線強度（Ａｇ）との比（Ａｇ／Ｋ）が０．０００５〜０．５であることを特徴とすることを特徴とする抗菌性ガラス。 （もっと読む）

【課題】熱水や高温の水蒸気処理に付しても傷付き防止機能を維持でき，摩耗・脱落に起因する搬送ラインの汚染を低減でき，さらに超高速充填ラインにも対応可能で，安定なラベリングと易剥離性とを表面に与えることのできる，ガラス用の水性コーティング組成物，及び当該組成物でコーティングしたガラス製品の提供。
【解決手段】塩基の存在下，水中に樹脂（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを分散した状態で含有させてなる水性コーティング組成物であって，樹脂（Ａ）が，軟化点１１０℃以上のポリエチレンワックスであり，樹脂（Ｂ）が，α−オレフィン／無水マレイン酸共重合体及び該共重合体の部分反応物のうちの少なくとも１種であることを特徴とする水性コーティング組成物，及び当該組成物を表面にコーティングしたガラス製品。 （もっと読む）