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Fターム[4G059AC20]の内容

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Fターム[4G059AC20]に分類される特許

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【課題】ガラス基材の割れおよび反りの発生を抑制して高品質の膜を成膜する。
【解決手段】300℃以上かつガラスの歪点より低い第1加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して1層目の膜を形成する第1成膜工程と、第1加熱温度より高い第2加熱温度下で、ガラス基材上に酸化物前駆体を溶質として含む水溶液を噴霧して2層目の膜を形成する第2成膜工程とを備える。また、第2成膜工程後に、ガラス基材をガラスの徐冷点以上の温度下で保持する歪取工程と、歪取工程後に、ガラス基材を室温まで徐冷する徐冷工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】可視光透過性、遮熱係数、耐擦傷性および鉛筆硬度の良好な熱線遮蔽材の提供。
【解決手段】少なくとも1種の金属粒子およびバインダーを含有する金属粒子含有層を有し、前記金属粒子含有層の厚みが10nm〜80nmであり、前記金属粒子が、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を60個数%以上有し、前記金属平板粒子含有層中のバインダーが架橋剤由来の架橋構造を有し、架橋基密度比が0.3〜30である熱線遮蔽材。 (もっと読む)


【課題】ガラス基材積層体の搬送時における位置精度の悪化、ニップや挟み込み時における搬送不良、ガラス基材の損傷などを防ぐことができるガラス基材積層体を提供する。
【解決手段】ガラス基材11と、粘着層12と、前記粘着層12を介して前記ガラス基材11に積層されたプラスチック基材13とを備えているガラス基材積層体10である。前記プラスチック基材13にスリット14が設けられたガラス基材積層体によって解決した。 (もっと読む)


【課題】フィルム状ガラスの両面上に膜が形成されており、反りが抑制された膜付フィルム状ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム状ガラス1をターゲット2の表面2aに対して垂直に保持した状態でターゲット2の上を通過させながらフィルム状ガラス1の両面1a、1bの上に成膜する。とくに、フィルム状ガラスを、スパッタリング法、CVD法または真空蒸着法により成膜を行うことが好ましく、さらにターゲット上を通過する軌道に沿って旋回させながらフィルム状ガラスの両面の上に成膜することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ガラスフィルムの端部から支持フィルムがはみ出した場合であっても、ゴミ付着の問題やハンドリング時の貼り付きの問題を低減でき、露光マスクに接触したり現像液が溜まったりする段差部分がなく、搬送直進性とパターン形成時等の位置精度を向上させることができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】ガラスフィルム3と、粘着層2と、ガラスフィルム3の幅Aよりも大きい幅Bのフィルムであって前記したガラスフィルム3の両側端部3a,3bからはみ出すように、粘着層2を介してガラスフィルム3に設けられている支持フィルム1とを有し、支持フィルム1の幅方向Xの各端部1a,1bからその各端部1a,1b側におけるガラスフィルム3の幅方向Xの各端部3a,3bまでの距離a,bを、支持フィルム1の幅方向Xの端部1a,1bから内方に向かって0.5mm以上1mm以下にして、上記課題を解決した。 (もっと読む)


【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な電子機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】電子機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板1の表面に印刷を施す印刷工程を含み、カバーガラス用ガラス基板1の全面に保護膜2を形成する工程と、前記印刷工程の前に、少なくとも印刷を施す領域に相当する前記保護膜2の表面を印刷が可能となるように改質処理する工程とを有する。前記印刷工程では、改質処理された領域のうち前記印刷を施す領域に印刷を施す。 (もっと読む)


【課題】可視光透過性及び日射反射率が高く、耐久性及び耐候性に優れ、更に紫外線による経時的な変色を低減した熱線遮蔽材の提供。
【解決手段】少なくとも1種の金属粒子を含有する金属粒子含有層と、紫外線吸収層とを有する熱線遮蔽材であって、前記金属粒子が、略六角形状乃至略円盤形状の金属平板粒子を60個数%以上有し、前記金属平板粒子の主平面が、前記金属粒子含有層の一方の表面に対して平均して0°〜±30°の範囲で面配向していることを特徴とする熱線遮蔽材である。 (もっと読む)


【課題】露光量が小さくても薄膜を形成することができる薄膜形成用組成物、塗布液、及び薄膜形成方法を提供すること。
【解決手段】金属化合物粒子と、前記金属化合物粒子の表面を修飾する化学式1〜4のいずれかで表される、エチルマルトール等の配位子と、を含む薄膜形成用組成物。その薄膜形成用組成物と、前記薄膜形成用組成物を分散させる分散媒と、を含むことを特徴とする塗布液。その塗布液を、基体の表面に塗布して、塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜に、前記配位子の光吸収帯、又は前記配位子で表面を修飾された前記金属化合物粒子の光吸収帯に属する波長の電磁波を照射する露光工程と、を備えることを特徴とする薄膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiOを62〜84%、Bを10〜25%、Alを0〜5%、NaOおよびKOのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiOとAlの含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。 (もっと読む)


【課題】基板の貼合面に湾曲部やうねりなどがある場合でも、機能性シートなどの貼合対象を密着貼合して、貼合製品の生産性を向上できる基板貼合装置を提供する。
【解決手段】第1ワークW1と第2ワークW2を上下に正対させ、第1ワークW1をローラー機構6で第2ワークW2に押し付けて貼合を行なう基板貼合装置である。ローラー機構6は、往復移動する駆動台20と、メインローラー22と、2個の中間ローラー32と、押圧構造などを含む。押圧構造は、メインローラー22の中心軸に沿って配置した5個の押圧台33と、各押圧台33に設けられて中間ローラー32を支持する3個の矯正ローラー34・35と、個々の押圧台33を押し上げ操作する複数個のエアーシリンダー36とを含む。メインローラー22を複数個のエアーシリンダー36で、矯正ローラー34・35と中間ローラー32を介して浮動支持した状態で貼合を行なう。 (もっと読む)


【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、基板の主表面における実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状とマスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第1の方向に沿う断面形状に近似する第1近似曲線を算出し、第1近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、所定閾値以下であるものを選定する。 (もっと読む)


【課題】ガラス−セラミックプレート、特に発熱体を覆うためのガラス−セラミックプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発熱体を覆うための、少なくとも1つの面上に少なくとも1つのエナメルパッチ及び/又は少なくとも1つの塗料被膜を、適切な場合には、機能及び/又は装飾領域を除いて設けたガラス−セラミックプレートに関する。該プレートを製造する方法、及び該プレートを含んで成る調理器具に関し、とりわけ、該調理器具の天板に関連する下の発熱体が、例えば、ハロゲン、放射又は誘導加熱タイプの熱源であるガラス−セラミックプレートに関する。 (もっと読む)


【課題】
ガラスライニング機器の補修に際して、補修部分の接着性に優れ、長期間の使用に耐えられること、また、ガラスライニング層の欠損などにより母材が減肉されてしまった部分の補修の際に、母材の機械的強度を回復させ、かつ補修時に母材の減肉部分周辺にあるガラスライニング層に亀裂を生じさせない補修方法を提供することである。
【解決手段】
ガラスライニング機器のガラス欠損またはガラスが欠損したことにより母材が減肉してしまった部分の補修において、補修部分の近傍に断熱材を設けると共に、断熱材の外周部分のガラスライニングの表面温度を60℃以下に維持しながら、補修部分に耐腐食性のある金属を溶射または溶接することを特徴とするガラスライニング機器の補修方法。 (もっと読む)


【課題】フロート法で製作されたPDP用のガラス基板などのように、微少な表面研磨が要求されるガラス物品の研磨量を高精度に測定する。
【解決手段】ガラス基板1の表面の一部を保護膜で保護した状態で、研磨パッド6によりガラス基板1の表面を研磨した後、研磨後にガラス基板1の表面に残存する保護膜2を除去し、保護膜2が除去されたガラス基板1の未研磨面1bと、保護膜2が形成されていなかったガラス基板1の研磨面1aとの段差Dから研磨量を測定する。 (もっと読む)


【課題】シリコーンオイルの光酸化による膜形成において、電気絶縁に富み、全波長域で透明で、かつ耐熱性や耐水性に優れた大面積薄膜を短時間に作成する方法を提供する。
【解決手段】シリコーンオイル内部に酸化剤を過不足なく貯蔵または補給するために、光励起中の光酸化反応を常時モニターして、酸化剤の飽和蒸気圧を制御する方法と光酸化反応を効果的に行うための真空紫外光源を提供することで解決する。試料や反応雰囲気を冷却し、シリコーンオイル内部の酸化剤を飽和蒸気圧以下に抑え、さらに真空紫外光源の発熱や反射鏡あるいは電極の酸化を共に防止する目的で、反射鏡と電極を一体化してその内部を冷却すると同時に、当該反射鏡とランプ放電管外壁をシリコーンオイルで光接着し、かつ試料の背面に真空紫外線波長域に感知する蛍光剤層を置くことにより、その発光強度に応じて光酸化反応の進行過程を監視して酸化剤の投入制御や励起光の制御を行なう。 (もっと読む)


本発明の対象は、30nm以下の物理的厚みの、金属Mの酸化物の少なくとも1つの膜で、その表面の少なくとも一部をコーティングした基板を得るための方法であって、前記酸化物膜が、少なくとも1つの銀膜を含む多層の一部ではなく、前記方法が、金属M、金属Mの窒化物、金属Mの炭化物、及び酸素が化学量論組成未満の金属Mの酸化物から選択される材料の少なくとも1つの中間膜が、スパッタリングによって堆積される工程であって、前記中間膜が、チタン酸化物ベースの膜の上または下に堆積されず、前記中間膜の物理的厚みが30nm以下である、工程;並びに前記中間膜が、酸化雰囲気、特に空気に、直接、接する際に、前記中間膜の表面の少なくとも一部が熱処理を用いて酸化される工程であって、前記熱処理の際の前記基板の温度は150℃を超えない、工程、を含む方法である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、絶縁信頼性に優れたガラスフィラー、及びその製造方法、並びに該ガラスフィラーを含む電子材料用途のプリプレグを提供すること。
【解決手段】CaO含量が0.1質量%以上である組成の原料ガラスを水溶媒中で湿式粉砕してスラリーを作製する工程、pH8以上を保ちながらシランカップリング剤を該スラリーに添加する工程、及び得られたスラリーを80℃以上400℃以下で加熱乾燥する工程を含むガラスフィラー製造方法。 (もっと読む)


【課題】平板部と枠部とで囲まれた凹部をウェットエッチングで形成する際、アンダーカットの発生を小さくすることで、段差部のエッチングダレに起因する光ノイズを可及的に小さくし、これにより小型実装が可能な光学用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】平板部とその下面縁部に一体的に構成された枠部とを備え、前記平板部と前記枠部とで囲まれた凹部をウェットエッチングで形成する、光学用カバーガラスの製造方法であって、前記ウェットエッチングは、前記凹部を形成する箇所以外にレジストを形成するレジスト形成工程と、エッチング液を接触させることにより非レジスト部をエッチングするエッチング工程とからなる化学研磨処理を複数回繰り返すものであり、少なくとも最後の化学研磨処理後に前記レジスト形成工程にて形成されたレジストを除去するレジスト除去工程を行うことを特徴とする光学用カバーガラスの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】基板の温度を低温に保ってSOG膜をキュア処理することができ、かつキュア処理時の膜のクラックの発生を低減させることが可能なSOG膜の形成方法を提供する。
【解決手段】シリコン及び/又はシリコン化合物と有機溶媒を含有するスピンオングラス材料を基板に塗布した後に、酸素を主成分とするガスにより形成されたプラズマ中で結晶化が生じない条件下で、前記スピンオングラス材料塗膜を高密度化することによりアモルファススピンオングラス膜を形成する。 (もっと読む)


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