【課題】リン酸塩含有ガラスの表面変質を抑制しつつ、前記ガラスを精密加工または洗浄するガラスの処理方法を提供する。
【解決手段】リン酸塩含有ガラスの表面に液体を接触させて前記表面を研磨するなどの精密加工工程または液体を用いてリン酸塩含有ガラスを洗浄する洗浄工程の少なくとも一方の処理工程を備えるガラスの処理方法において、予め前記液体にリン酸塩を溶解することにより、前記ガラス中のリン成分の前記液体への溶出を抑制しつつ、前記処理工程を行うガラスの処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 （もっと読む）

【課題】表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンＦが設けられ、該パターンＦは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高圧応力領域１２と低圧応力領域１３を包含し、低圧応力領域１３によりこれら高圧応力領域１２相互間が隔離設置される。該ガラス基板の高圧応力領域１２はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低圧応力領域１３は加工性を保持し、ガラス基板を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式の化学研磨装置において１枚のシート状のガラス母材を複数のガラス基板に分割することを可能にするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 この発明は、連続的に搬送される複数のガラス基板に対して化学研磨処理を行うように構成された化学研磨装置に適用されるガラス基板の製造方法である。化学研磨装置は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。この化学研磨装置において、上側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量と、下側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量とをそれぞれ調整することによって、第１の主面に形成される区画溝および第２の主面に形成される区画溝を、ガラス母材の厚み方向の中心から所定量ズレた位置にて貫通させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題はサンドブラスト法とエッチング法を用いたガラス基材の穴形成工程を含むガラス基板の製造方法において、穴の内壁に微細なクラックの無いガラス基板を生産性良く製造することを可能とするガラス基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】ガラス基材の少なくとも片面に樹脂層を形成する工程、樹脂層を露光し現像する工程、サンドブラスト処理することでガラスに穴を形成する工程、樹脂層を加熱する工程、エッチング処理する工程をこの順に含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクの読取不良及び書込不良の発生を抑制した、磁気ディスク用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の全表面に存在するセリウム量が０．０２０ｎｇ／ｍｍ^２以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラスを等方性エッチングすることにより、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板に加工する形状加工工程と、ガラス基板を化学強化する化学強化工程と、を含み、形状加工工程における、板状ガラスの板厚とエッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第１の対応関係と、化学強化工程における、化学強化条件と化学強化条件で化学強化を行った場合におけるガラス基板の寸法の伸びとの第２の対応関係とを予め把握しておき、化学強化工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、第１および第２の対応関係を参照して、化学強化工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板を化学強化する。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１００を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板１００の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンよりも大きなイオン半径である化学強化処理液中のイオンとイオン交換することによりガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程前のガラス基板１００の寸法に基づいて、化学強化工程後のガラス基板１００の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板１００を化学強化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】剥離性ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性ガラス基板を得る表面処理工程と、剥離性ガラス基板上に未硬化の硬化性樹脂組成物層を形成する硬化性樹脂組成物層形成工程と、キャリア基板を未硬化の硬化性樹脂組成物層上に積層する積層工程と、未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化し、樹脂層を有する硬化後積層体を得る硬化工程と、硬化後積層体中のキャリア基板の外周縁に沿って、樹脂層および剥離性ガラス基板を切断する切断工程と、剥離性ガラス基板上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から電子デバイスを分離して得る分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および／またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。 （もっと読む）

【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なガラス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すガラス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきガラス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する炭化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたガラス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の２価イオンとを含む洗浄液７を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる２価の鉄イオンが酸化されて生成した３価の鉄イオンを紫外線照射２により還元する操作を行う。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高い光ファイバを製造可能な光ファイバ用母材の製造方法、及び、それを用いる光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 光ファイバ用母材１０Ｐの製造方法は、ＭＣＶＤ法を用いて光ファイバ用母材を製造する光ファイバ用母材の製造方法であって、ガラス管１５Ｇを回転しながら加熱すると共に、ガラス管１５Ｇの貫通孔Ｈ内にガスを供給する工程を備え、この工程の少なくとも一部において、ガラス管１５Ｇの外径が大きくなるように、貫通孔Ｈ内を加圧することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】長期間の使用においても劣化し難いエチレン−酢酸ビニル共重合体を主成分として含む接着層を有するウィンドウフィルムで、透明基板に貼り付ける際に、外観不良が生じ難いウィンドウフィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルム１２、及びその一方の表面に接着層１１を有するウィンドウフィルム２０であって、接着層１１が、エチレン−酢酸ビニル共重合体、光重合開始剤及び溶剤を含む接着層形成用液の塗工層であり、且つ接着層１１の透明フィルム１２側と反対側の表面に、算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ−Ｂ０６０１（２００１））が０．１〜１０．０μｍの凹凸形状１９を有することを特徴とするウィンドウフィルム２０。 （もっと読む）

【課題】フィルム状ガラスの両面上に膜が形成されており、反りが抑制された膜付フィルム状ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム状ガラス１をターゲット２の表面２ａに対して垂直に保持した状態でターゲット２の上を通過させながらフィルム状ガラス１の両面１ａ、１ｂの上に成膜する。とくに、フィルム状ガラスを、スパッタリング法、ＣＶＤ法または真空蒸着法により成膜を行うことが好ましく、さらにターゲット上を通過する軌道に沿って旋回させながらフィルム状ガラスの両面の上に成膜することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材積層体の搬送時における位置精度の悪化、ニップや挟み込み時における搬送不良、ガラス基材の損傷などを防ぐことができるガラス基材積層体を提供する。
【解決手段】ガラス基材１１と、粘着層１２と、前記粘着層１２を介して前記ガラス基材１１に積層されたプラスチック基材１３とを備えているガラス基材積層体１０である。前記プラスチック基材１３にスリット１４が設けられたガラス基材積層体によって解決した。 （もっと読む）

【課題】ガラスや他の酸化シリコンをベースとする又は窒化シリコンをベースとする系、及びそれらの厚さが変化する層に対して高い潜在処理量を有する技術的に簡単で、液体又はガス相での慣用の湿式又は乾式エッチング方法よりも著しく低コストである、エッチング方法に使用できるエッチング媒体を提供する。
【解決手段】上記課題は、無機のガラス状又は結晶性の表面をエッチングするための、非ニュートン流動性を有する、均質な、粒子を含まない、プリント可能なエッチング媒体により達成できる。 （もっと読む）

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、耐指紋性、膜と基材表面との密着性がともに良好な耐指紋性被膜を形成するための処理剤、また、さらに該膜の耐摩耗性が良好な耐指紋性被膜を形成するための処理剤、さらに指滑り性を向上させた耐指紋性被膜を形成する処理剤、並びにそれら処理剤からなる被膜を有する耐指紋性ガラス基材の提供。
【解決手段】エチレンオキサイド鎖、プロピレンオキサイド鎖及びブチレンオキサイド鎖からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造を繰り返し単位として含有するモノオール又はポリオールの水酸基がケイ素化合物によって変性された化合物Ａを被膜形成成分とすることを特徴とする耐指紋性被膜形成処理剤及び該処理剤によって形成された耐指紋性被膜を有する耐指紋性ガラスを提供する。また、コロイダルシリカ等の微粒子によって基材表面に凹凸を付与し、指滑り性を向上させた耐指紋性ガラス基材についても提供する。 （もっと読む）

【課題】クラックの進行を抑制するために有利な構成を有する光透過性部材を提供する。
【解決手段】第１主面、第２主面および側面を有する光透過性部材は、前記第１主面、前記第２主面および前記側面には現れないように前記第１主面と前記第２主面との間に形成された複数の変質部を有する。 （もっと読む）