【解決手段】フォトマスクの保持部が位置する正方形形状の基板の表面の周縁をなす辺のうち対向する２辺の各々の辺から内側２ｍｍと１０ｍｍの間で、かつ各々の辺の長さ方向両端から２ｍｍの部分を除いた範囲に位置する二つの帯状領域において、任意の共通基準平面から各帯状領域内の各座標への距離に基づき算出される二つの最小自乗平面の法線同士がなす角度が１０秒以下であり、二つの帯状領域の高さが０．５μｍ以下であることを特徴とするフォトマスク用ガラス基板。
【効果】ＩＣ等の製造の際に重要な光リソグラフィ法で使用されるシリカガラス系等のフォトマスク用ガラス基板において、フォトマスク露光時のマスクステージにフォトマスクを真空チャック等により固定したときのフォトマスクの全体の表面形状変化が抑制されたガラス基板を、従来の検査工程と同様の工程で生産性よく提供することができる。 （もっと読む）

【課題】電磁波の放射損失を極小さくし、遠距離の電力送電を効率よく送電することが出来ることを特徴とする電力送電、及びその製造方法の提供。
【解決手段】電力送電を効率よく送電するために鉄管、セラミック管、又はガラス管（以下、略して、ガラス管とする）の内部、又は外部を金、又は銀、又は銅などの貴金属を使用して蒸着、又はメッキ加工をしたガラス管の内部を、直進性があり、指向性があり、単一波長の正弦波の電磁波を使用して電力送電する。 （もっと読む）

本発明は支持体（１）と機能性表面材料（２）とからなる機能性複合材料に関する。複合材料は、支持体が、下方境界（４）、上方境界（５）、下方境界と上方境界との間の架橋深さ（ｄ）、および機能性表面材料に面する表面上の上方と下方境界との間を交互する物質境界（６）を備える構造化境界層（３）を有することを特徴とする。物質境界（６）は、特に間に空間（８）を介して支持体の表面の成形された断面（７）の連続的な配列として設計され、各成形された断面は架橋深さに等しい高さ（ｈ）を有し、少なくとも１つの成形された断面および少なくとも１つの空間（８）が複数の架橋深さに相当する水平幅（ｂ）内に配置される。
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