【課題】基板表面を加工する際に、裏面には加工が施されない基板表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空容器内の基板ステージに基板を載置する基板載置工程と、真空容器内を排気する排気工程と、基板ステージの基板保持面側から不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、真空容器内に処理ガスを供給してエッチングするエッチング工程と、エッチングの終了後に不活性ガスの供給を停止する不活性ガス供給停止工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高強度かつ低反射かつ高透過率を有する光学部材を提供する。
【解決手段】 透明基材と、透明基材の上に配置された、スピノーダル型の孔を有する多孔質ガラス層と、を有し、波長領域４５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下で５０％以上の透過率を有するように、多孔質ガラス層に形成された孔の平均孔径または多孔質ガラス層の骨格の平均骨格径が設定されていることを特徴とする光学部材。 （もっと読む）

【解決手段】（１）合成石英ガラス基板を、コロイド粒子、該コロイド粒子と同符号の電荷を帯びたイオン性有機化合物及び水を含む研磨液により研磨する工程と、（２）研磨した基板を、酸性溶液又は塩基性溶液に浸漬し、該基板表面を０．００１〜１ｎｍエッチングする工程とを含む合成石英ガラス基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィー法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板や、ナノインプリント用途向け等の合成石英ガラス基板の製造において、合成石英ガラス基板表面の高感度欠陥検査装置で検出される欠陥の生成が抑制され、良好な面粗度が得られることにより、半導体デバイス製造等において歩留まりの向上が期待され、かつ半導体工業の更なる高精細化につなげることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板表面に凹部を形成し、高精度で高アスペクト比の微細な凹凸部パターンを容易に形成できる微細加工方法および凹凸部パターンを有するガラス基板を提供する。
【解決手段】表面が平滑なガラス基板表面をパターン状にエッチングして凹凸部パターンを形成するガラス基板の微細加工方法であって、前記ガラス基板表面をエッチングして凹凸部パターンの凹部を所定の深さよりも浅く形成するとともに、前記ガラス基板表面の非エッチング部を凸部となし、次に、前記凸部に表面平滑で平坦な平面状の圧子を密着させ、前記圧子に圧力を印加して前記凸部に圧縮層を形成し、次いで、前記圧子を取り除き、前記圧縮層と前記圧縮層以外の非圧縮層とでエッチング速度が異なる酸性のエッチング液で前記ガラス基板をエッチングし、前記ガラス基板表面に所定の深さの凹部を有する凹凸部パターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下向き式ガラス薄型化装置及びこれを用いた薄型化システムを提供する。
【解決手段】少なくとも１枚の基板を垂直に固定させる固定部と、前記基板の垂直上部に設けられ、前記基板の表面に沿ってエッチング液を流下させるノズル部と、を備えてなる下向き式ガラス薄型化装置を提供する。ここで、前記ノズル部は、基板の垂直上部側に複数設置され、また、ノズル部から供給されるエッチング液があふれて流れながら基板の表面に沿ってエッチングがなされるように特有の収容部、エッチング液通過スリット及びガイド部を備え、エッチング液の過度な流出を防ぐための緩衝隔壁を備える。 （もっと読む）

【課題】光学素子の表面粗さを更に低減可能となり、光学素子の表面形状に依存することなくその表面を平坦化させるのに好適な表面平坦化方法を提供する。
【解決手段】光学素子構造体３表面に形成された凸部５１を平坦化する表面平坦化方法において、塩素系ガスが導入されてなるチャンバ１１内に上記光学素子構造体３を配置し、上記塩素系ガスのガス分子の吸収端波長よりも長波長からなる光を上記光学素子構造体３に照射することによって、当該光学素子構造体３表面の凸部５１の局所領域に近接場光を発生させ、上記凸部５１の局所領域に発生した近接場光に基づき、上記塩素系ガスを解離させて活性種を生成させ、当該生成された活性種と上記凸部とを化学反応させて反応生成物を生成させることによって、上記凸部５１をエッチングすること。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形から成膜に至るまで時間ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図る。
【解決手段】成膜機５０において成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）、成形機１０において成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、Ｔ１＞Ｔ２のときはＴ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１であり、Ｔ１＜Ｔ２のときはＴ２／Ｔ１≦Ｎ２，Ｎ１＝１とした。 （もっと読む）

本発明によるレーザーエッチングを用いたガラスクリシェの製造方法は、エッチングの対象になるガラスクリシェをエッチング液に浸漬する浸漬段階、前記エッチング液に浸漬されたガラスクリシェにレーザーを照射してパターンを形成するパターン形成段階、及び前記パターンの形成が完了したガラスクリシェを洗浄する洗浄段階を含む。本発明によれば、感光性素材を用いてエッチングする一般的な基板の製造方法に比べ、線幅が精密で縦横比の高いクリシェを製造でき、単独レーザーによるエッチング方法よりエネルギー消費効率及びエッチング効率が高いガラスクリシェの製造方法を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板表面へのビーム照射若しくはレーザ光照射を伴う方法で仕上げ加工されるガラス基板表面から異物を除去する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板表面から異物を除去する方法であって、前記ガラス基板表面に対して、加速電圧５〜１５ｋｅＶでガスクラスタイオンビームエッチングを施すことを特長とするガラス基板表面から異物を除去する方法。 （もっと読む）

【課題】複数の異なった分野での利点に使用可能な製品を生じさせる陽極処理された多孔質アルミナの助けを借りて行われたナノ構造化法の新しい適用を提案する。
【解決手段】ナノメータサイズのレリーフ又はキャビティの規則的で整然とした分布を示す表面を持った透明材料2からなる基板は、透明材料からなる基板上にアルミニウムの層を堆積することと、透明基板の表面上に転写されるパターンに従って気孔4が整然とした分布しているアルミナ構造体を得るために、その後にアルミニウムの陽極処理を行う操作と、を含む方法で得られる。当該方法は、反射防止特性を持った透明基板を与え、前記反射防止特性が現れる波長で透明基板によって伝えられた放射線のパーセンテージを増加させるために、寸法や配置の適正化されたキャビティ又はレリーフを得るようにして、あるいは、透明基板の金型成形に用いられる金属基板上で行われる。 （もっと読む）

【課題】流路などの表面に凹凸形状を安価にかつ高精度に形成することができ、微細凹凸構造のエッヂ部においても適切な加工形状が得られるガラス基板の加工方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 （もっと読む）