【課題】光線の反射により、対応する明晰な光の図案を出現させる曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法を提供する。
【解決手段】曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法は、ガラス１本体外表の滑らかな面１２上に、複数の圧力区域１３を配列して組成する予定図案Pを設置し、各圧力区域１３の圧力値は50Mpa以上で、こうして滑らかな面１２上には予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成し、ガラス１面の製造方法は、表面ラフ度(Ra)が約0.12μm以下のガラス１滑らかな面１２上にカバー２を設置し、カバー２上には複数の中空部２１を配列して組成する予定図案Pを設置し、ガラス１滑らかな面１２に対して化学イオン強化プロセスを行い、滑らかな面１２上にはカバー２の中空部２１に対応する複数の圧力区域１３を形成し、カバー２を除去し、滑らかな面１２を洗浄し、こうしてガラス１滑らかな面１２上にカバー２の予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成する。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ用の投影露光ツール（１００）で使用するための配置構成は、反射光学素子（１０；１１０）と放射検出器（３０；３２；１３０）を備える。反射光学素子（１０；１１０）は、光学素子（１０；１１０）の機械的強度を保証するキャリア要素（１２）と、キャリア要素（１２）上に配設された、使用放射（２０ａ）を反射するための反射コーティング（１８）とを備える。キャリア要素（１２）は、使用放射（２０ａ）と相互作用して二次放射（２４）を放出する材料からなり、二次放射（２４）の波長は、使用放射（２０ａ）の波長とは異なり、放射検出器（３０；３２；１３０）は、二次放射（２４）を検出するように構成される。 （もっと読む）

本発明は、処理室と一つのＶＨＶ／ＨＦ変成器を含む、フィラメント状プラズマの発生を可能にする誘電体バリア放電によって基板の表面を被覆するための装置であって、処理室が、プラズマと接触すると分解して基板上にほとんど又は完全に膜として蒸着されることができる種を発生するような組成を有する混合物を含み、処理室では少なくとも二つの電極が置かれ、そして基板の各側上に配置され、それらの電極の一つに高ＡＣ電圧が付与され、これらの少なくとも二つの電極の間に少なくとも一つの誘電体バリア（ＤＢＤ）が置かれ、ＶＨＶ／ＨＦ変成器が二次回路を含み、二次回路にはＤＣ電流の電源が、電気的に正又は負のイオンの形態のプラズマ中に発生される化学種が、処理室に導入されかつ少なくとも二つの電極の間に置かれるターゲット基板によって選択的に誘引され、対応する電荷を持つ電極によって反発されるように、二次回路に直列に挿入されることを特徴とする装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 透明かつ低比抵抗の薄膜積層体を提供すること。
【解決手段】 基板上に成膜したＺｎＯ薄膜層、その上に成膜した金属ナノ粒子層、更にその上に成膜したＺｎＯ薄膜層からなる薄膜積層体であって、結晶質である２つのＺｎＯ薄膜層が挟んだ金属ナノ粒子層は金属ナノ粒子を連結した金属ナノ層からなる構造をしており、比抵抗が８．０×１０^-４Ωｃｍ以下であり、かつ可視光透過率が７０％以上の薄膜積層体を得た。本発明の薄膜積層体は、透明導電膜、太陽光発電電極、電磁波シールド材等として使用できる。 （もっと読む）

【課題】滑り性に優れるフレーク状ガラスを提供する。
【解決手段】フレーク状ガラスを、ガラスを腐食可能な液体で処理することを含む、エッジ部の角の取れたフレーク状ガラスの製造方法によってフレーク状ガラスを製造することにより、上記課題は解決される。また、厚み方向に沿った断面を見た場合に、エッジ部の曲率半径が０．０８μｍ以上であるフレーク状ガラスとすることによって、上記の課題は解決される。さらに、フレーク状ガラスに、当該フレーク状ガラスの平均厚みの少なくとも１／６以上の厚みの金属酸化物又は金属の被覆層を設けることにより、エッジ部を丸くしたフレーク状ガラスによっても、上記課題は解決される。 （もっと読む）

【課題】酸素存在雰囲気下において熱処理した後であっても酸化せず低抵抗で、熱線反射性および電磁波シールド性がより高くなり、さらに耐擦傷性に優れる透明導電ガラス基板が得られる製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に、透明導電性金属酸化物からなる層（Ａ）、金属および／または金属窒化物からなる厚さ０．２５〜１０ｎｍの層（Ｂ）および金属酸化物からなる厚さ１０ｎｍ以上の層（Ｃ）をこの順で形成してコーティング付きガラス基板を得るコーティング工程と、前記コーティング付きガラス基板を、５５０〜７５０℃の大気中で１〜３０分間熱処理する熱処理工程とを具備する、透明導電ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形から成膜に至るまで時間ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図る。
【解決手段】成膜機５０において成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）、成形機１０において成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、Ｔ１＞Ｔ２のときはＴ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１であり、Ｔ１＜Ｔ２のときはＴ２／Ｔ１≦Ｎ２，Ｎ１＝１とした。 （もっと読む）

【課題】優れた防曇性を有し、かつ、強度も高い防曇膜の形成方法を提供する。
【解決手段】無機酸化物を主成分とする防曇膜を気相成膜法によって形成するに際し、防曇膜を形成する基板１２の法線と、防曇膜の材料粒子が前記基板に入射する入射方向とが成す角度を２０〜８５°として、防曇膜の形成を行う。さらに基板と材料源との距離を１００〜２０００ｍｍとし、成膜圧力を５ｘ１０-4〜５ｘ１０1Ｐａとし、基板温度を６００℃以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】 被転写体へのパターン転写に影響の大きな主表面近傍の内部欠陥を含む、ガラス基板の全ての領域の内部欠陥を良好に検出できること。
【解決手段】 合成石英ガラス基板４の端面２に対し離間して設置され、導入面２８が平坦で鏡面研磨され、屈折率が上記ガラス基板と略同一である透光性を有する光導入補助部材２５と、上記ガラス基板の端面２と光導入補助部材との間に介在され、屈折率が上記ガラス基板と略同一な超純水２６と、光導入補助部材の導入面から、この光導入補助部材及び超純水を介し上記ガラス基板内へ、波長が２００ｎｍ以下の短波長光を導入するレーザー照射装置２１と、この短波長光により上記ガラス基板の内部欠陥１６が発する、上記短波長光よりも長い波長の光１５、１７を受光するＣＣＤカメラ２３と、このＣＣＤカメラが受光した光の光量に基づき、上記ガラス基板の内部欠陥を検出するコンピューター２７とを有するものである。 （もっと読む）