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Fターム[4G059DB02]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | 金属による被覆(プロセス) (272) | 気相法 (167) | 減圧下で行うもの (132)

Fターム[4G059DB02]に分類される特許

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【課題】電極を備えた透明基材を提供する。
【解決手段】特にはガラス製であり、特には太陽電池用の電極を備え、厚さが多くとも500nm、特には多くとも400nm、多くとも300nm、又は、多くとも200nmのモリブデンMoに基づいた導電層を含んで成る透明基材が提供される。 (もっと読む)


【課題】単板のガラス基板上に形成された銀系熱線反射膜が劣化、変質することなく耐久性をもって機能するように耐摩耗性と耐湿性を有するとともに、さらに熱遮蔽性が付与された断熱保護膜付き熱線反射ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス基板1の少なくとも片面に、銀を主成分とする層を有する熱線反射膜2を有し、さらにその表面に、酸化ケイ素を主成分とするマトリックス中に赤外線吸収剤が分散した構成の断熱保護膜3付き熱線反射ガラス10。 (もっと読む)


【課題】光学特性に優れた偏光素子を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の偏光素子の製造方法は、ガラス基板上に、金属ハロゲン化物の島状膜を形成する工程と、前記ガラス基板を加熱延伸することで前記島状膜を伸長させ、前記金属ハロゲン化物の針状粒子を形成する工程と、前記針状粒子の前記金属ハロゲン化物を還元することで金属からなる針状金属粒子を形成する工程と、を有し、前記金属ハロゲン化物は反応性物理蒸着法により前記ガラス基板上に堆積されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、複層ガラス窓を施工現場にて容易に組み立てることができるスペーサ付きガラス板及び複層ガラス窓の組立方法を提供する。
【解決手段】本発明のスペーサ付きガラス板10、40は、新規のガラス板16に対し、工場にてスペーサ20をブチルゴム18によって予め接着するとともに、スペーサ20にブチルゴム22を予め接着し、このブチルゴム22に離型紙テープ24、保護シート44を着脱自在に接着することで製造される。このスペーサ付きガラス板10、40を工場から施工現場へ搬入して複層ガラス窓を組み立てる際には、離型紙テープ24、保護シート44をブチルゴム22から取り外し、ブチルゴム22を既存のガラス窓14に接着する。 (もっと読む)


【課題】マスクブランク用基板の洗浄時に、超音波を印加した洗浄水を用いた洗浄方法を適用した場合でも、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマスクブランク用基板の製造方法は、ガラス材料からなる基板の表面に向かって、周波数が1.5MHzよりも高い超音波が印加された洗浄水を当てて基板の表面を洗浄する洗浄工程を有する。 (もっと読む)


【課題】空気接触面に付着した金属、金属合金、金属化合物、又は金属間化合物層から成る耐傷性を有する保護層を提供する。
【解決手段】この保護層の厚さは、通常、1〜3nmであり、酸化後、光学吸収を持つ。この層は、始めに主に未酸化又は未窒化状態で付着される。該金属、金属合金、金属化合物、又は金属間化合物層は、空気に曝された後、数日以内に完全に酸化する。この層を酸素又は窒素等の反応性ガスを含むプラズマ、放電、又はイオンビームに曝す場合は、この保護層の厚さは、2〜5nmであってもよい。 (もっと読む)


【課題】入射角の変化による色調変化を抑制する。
【解決手段】反射層3の積層膜における各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βに対して、可視光線透過率、遮蔽係数、青み指標および赤み指標の条件を満足する領域を抽出する。この領域に含まれる比率αおよび比率βに基づき、反射層3の積層膜における各層の膜厚を決定する。 (もっと読む)


【課題】一般ガラスに赤外線反射物質をコーティングされたガラスを使用して赤外線を一次的に反射した後、遮断されない残りの赤外線を二次的にLow−Eガラスまたは熱変色性物質がコーティングされたガラスで反射させて、室内に流入または室外に流出される熱エネルギーを遮断できる二重窓システムを提供する。
【解決手段】本発明は第1ガラス部材、第2ガラス部材及び第1ガラス部材と前記第2ガラス部材間に設けられて前記第1ガラス部材と前記第2ガラス部材の間隔を維持するスペース部材を有する赤外線遮断のための二重窓システムであって、第1ガラス部材の一表面には近赤外線反射用ナノ物質コーティング膜が形成されており、第2ガラス部材の一表面には熱変色性物質コーティング膜が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイス用基板の主表面上に薄膜を形成してマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、
前記薄膜を形成する側の主表面の表面形状が凸形状である基板に対し、クロムを主成分とする材料からなり、引張応力を有する前記薄膜をスパッタリング法で形成することにより、前記薄膜の成膜前よりも主表面の平坦度が高いマスクブランクを得ることを特徴とするマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】被覆した物を輸送でき、その後に加熱による曇った被覆を生じることなく加熱できるような機械的耐久性を有する低放射率の被覆物の提供。
【解決手段】本発明に係る被覆された物品は、(A)基体と、(B)基体上にスパッタリングにより堆積された第1の透明層であって、第1の透明層が、(i)10〜90質量%の亜鉛および90〜10質量%のスズを有する第1のスズ酸亜鉛を含む第1の透明膜と、(ii)60〜90質量%の亜鉛および40〜10質量%のスズを含有する酸化亜鉛酸化スズ膜を含む、第1の透明膜上に堆積された第2の電気的性質を向上させる膜とを含む第1の透明層と、(C)第1の透明層上に位置する赤外線反射層とを含む。 (もっと読む)


【課題】
低放射膜の可視光透過性を損ねることなくAg層の酸化を抑制し、なおかつ現行のスパッタ生産設備でも低コストで容易に生産が可能な、新たなバリア層と、該バリア層を含む低放射膜を得ること。
【解決手段】
基材上に蒸着プロセスによって形成される低放射膜において、基材上に下地層と、薄膜積層部とを有し、該薄膜積層部は金属層と、該金属層上にバリア層とを含有するものであり、該バリア層は該金属層上に接し窒化物または酸窒化物からなることを特徴とする低放射膜。 (もっと読む)


【課題】絶縁性基板を発熱プレートに接触させて加熱すると共に、基板を導電性のホットプレートから剥離する際に、基板の剥離帯電を抑制する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板は、ガラス基板である絶縁性基板11と、絶縁性基板11の一方の面上で外縁に沿って内側に形成された導電膜12とで構成される。加熱装置30は、薄膜トランジスタ基板10を加熱する際に発熱する発熱プレート31と、薄膜トランジスタ基板10の導電膜12を吸着して固定させる吸着穴32と、薄膜トランジスタ基板10と接触し、発熱プレート31上に載置させると共に、発熱プレート31から剥離させる基板支持部33と、基板支持部33を昇降させる昇降機構34と、により構成される。 (もっと読む)


【課題】反射率および耐熱性に優れた電子部品を提供する。
【解決手段】電子部品10は、基板11と、基板11上に形成された高反射性の金属薄膜層12と、金属薄膜層12上に形成されたSnO系の保護層13とを備える。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子の光学特性と電気的特性を向上させる為の下地構造付透明電極基板の透明下地構造形成のための金型を提供することにある。
【解決手段】光電変換素子に用いる下地構造付透明絶縁基板の下地構造の製造に用いる、金型基板の表面に印刷用テクスチャ構造を有する金型の製造方法であって、前記金型基板の表面に初期テクスチャ構造を形成する工程の後に、初期テクスチャ構造上にCVD製膜を行う工程を含むことを特徴とする金型の製造方法。 (もっと読む)


【課題】
【解決手段】本発明は、放射制御コーティングを提供する。このコーティングは、その上を酸素遮断膜で覆われた透明導電膜を含む。幾つかの実施の形態においては、透明導電膜は、酸化インジウムスズを含有し、酸素遮断膜は、窒化ケイ素を含有する。 (もっと読む)


【課題】電磁波の放射損失を極小さくし、遠距離の電力送電を効率よく送電することが出来ることを特徴とする電力送電、及びその製造方法の提供。
【解決手段】電力送電を効率よく送電するために鉄管、セラミック管、又はガラス管(以下、略して、ガラス管とする)の内部、又は外部を金、又は銀、又は銅などの貴金属を使用して蒸着、又はメッキ加工をしたガラス管の内部を、直進性があり、指向性があり、単一波長の正弦波の電磁波を使用して電力送電する。 (もっと読む)


本発明は、表面を構造化するための方法、言い換えれば、サブミクロンの高さHと、ミクロン又はサブミクロンの幅と称される少なくとも1つの横方向の特性寸法とを有する凹凸又はパターン(2)の少なくとも一組を、基材(1)、特にガラスの表面に、任意選択的に中和されたイオンビームを用いるイオンビームエッチングにより形成するための方法であって、次の工程、すなわち、厚さが少なくとも100nmの材料を供給し、この材料は混成且つ固体の材料であって、1以上の元素の単一の酸化物又は混合酸化物であり前記材料中の酸化物のモル百分率が少なくとも40%、とりわけ40%と94%の間であるもの、及び前記酸化物の元素と別の少なくとも1つの種、特に金属であって、当該材料中における種のモル百分率が6〜50%の範囲であって前記酸化物の百分率よりも小さく、当該種の少なくとも大部分は50nmより小さい最大特性寸法を有するもの、を含み、前記混成材料は特に、前記エッチングの前において準安定性である工程と、前記エッチングの前に前記混成材料を任意選択的に加熱する工程と、前記混成材料の表面の1cm2より大きいエッチング表面を1時間未満のエッチング時間で、前記パターンの組が形成されるまで構造化する工程を含み、この構造化工程は前記混成材料を加熱することを任意選択的に含むことを特徴とする。
(もっと読む)


本発明は、処理室と一つのVHV/HF変成器を含む、フィラメント状プラズマの発生を可能にする誘電体バリア放電によって基板の表面を被覆するための装置であって、処理室が、プラズマと接触すると分解して基板上にほとんど又は完全に膜として蒸着されることができる種を発生するような組成を有する混合物を含み、処理室では少なくとも二つの電極が置かれ、そして基板の各側上に配置され、それらの電極の一つに高AC電圧が付与され、これらの少なくとも二つの電極の間に少なくとも一つの誘電体バリア(DBD)が置かれ、VHV/HF変成器が二次回路を含み、二次回路にはDC電流の電源が、電気的に正又は負のイオンの形態のプラズマ中に発生される化学種が、処理室に導入されかつ少なくとも二つの電極の間に置かれるターゲット基板によって選択的に誘引され、対応する電荷を持つ電極によって反発されるように、二次回路に直列に挿入されることを特徴とする装置に関する。 (もっと読む)


【課題】電磁波の透過特性を維持しつつ、曲げ成形時に歪みを抑制することのできる熱線反射ガラス板、及び熱線反射ガラス板の曲げ成形方法を提供すること。
【解決手段】熱線反射膜112と、該熱線反射膜112に少なくとも一辺114で隣接し、熱線反射膜のメッシュパターン130によりなり、複数の開口線132を有する周波数選択表面111とをガラス板の少なくとも片面に設けた熱線反射ガラス板において、少なくとも一辺114のガラス板の中央に近い部分と交差する開口線132は、一辺114との交差角が5°以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ZnO膜等の金属膜の成膜を行う際、ターゲットに生じるノジュールや屑の堆積等の問題を改善した熱線遮蔽積層膜を提供すること。
【解決手段】基体上に蒸着プロセスを経て形成される熱線遮蔽積層膜であり、該熱線遮蔽積層膜は、基体上に、少なくとも透明酸化物膜層、貴金属膜層、貴金属保護膜層、が順次積層されて成り、上記透明酸化物膜層はZnSn膜(x、y、zは正の有理数)を有し、該ZnSn膜は該膜に含まれるSnとZnとのSn/(Zn+Sn)で表される値が5〜20wt%であり、上記貴金属膜層はAg膜もしくはAgを主成分とする膜から成ることを特徴とする。 (もっと読む)


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