【課題】ガラスが脆弱性を示す限界値より低い中央張力を有する強化ガラス物品を提供する。
【解決手段】強化ガラス物品は、厚さｔを有し、以下を含む：物品の表面から物品内の層の深さＤＯＬまで伸長する外側領域であって、圧縮応力ＣＳ下の外側領域；および中央張力ＣＴ下の内側領域であって、−１５．７ｔ＋５２．５＜ＣＴ≦−３８．７ｌｎ（ｔ）＋４８．２であり、ＣＴがメガパスカル（ＭＰａ）で示されｔがミリメートル（ｍｍ）で示される内側領域を有する。 （もっと読む）

【課題】ハウジングの強度を高めることができるハウジングの強化方法及びこの方法を用いて製造したハウジングを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るハウジングの強化方法は、サファイア材質のハウジングを準備するステップと、硝酸カリウム、ケイ酸カリウム、珪藻土及び水を含有する噴霧液を使用して、温度が４８０〜５５０℃のハウジングに対してスプレーすることによって、該ハウジングの表面にカリウムイオンを含有する強化膜層を形成するステップと、ハウジングの温度が室温まで下がるまで、該ハウジングに対して持続的にスプレーするステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラスを等方性エッチングすることにより、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板に加工する形状加工工程と、ガラス基板を化学強化する化学強化工程と、を含み、形状加工工程における、板状ガラスの板厚とエッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第１の対応関係と、化学強化工程における、化学強化条件と化学強化条件で化学強化を行った場合におけるガラス基板の寸法の伸びとの第２の対応関係とを予め把握しておき、化学強化工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、第１および第２の対応関係を参照して、化学強化工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板を化学強化する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造（Ｍ）とテトラゴナル結晶構造（Ｔ）を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、磁気ディスク装置に搭載された場合に使用時にイオン溶出による後発エラーの発生頻度が少ないＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが１００μｍを超え１８０μｍ以下であるＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラスの主表面に、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板を形成するためのレジストマスクとガラスが露出した領域とからなるレジストパターンを形成するパターン形成工程と、露出した領域の板状ガラスを等方性エッチングすることで、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板を形成する形状加工工程と、を含み、板状ガラスの板厚と形成されるガラス基板の寸法との対応関係を予め把握しておき、パターン形成工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、対応関係を参照して、形状加工工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になるように、板状ガラスの主表面に形成されるレジストマスクの形状が調整されたレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理において溶融塩の寿命を長く保つことができ、安定した特性の強化ガラス製品が得られるイオン交換ガラス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｌｉ含有組成のガラス物品を、当該ガラスに含まれるＬｉよりもイオン半径が大きいアルカリ金属元素を含む溶融塩融解液と接触させることにより、前記ガラス物品中のＬｉと前記溶融塩融解液中のアルカリ金属とをイオン交換するイオン交換工程を含むイオン交換ガラス物品の製造方法である。ここで、上記溶融塩融解液には、ＮａＦ、ＫＦ、Ｋ_３ＡｌＦ_６、Ｎａ_２ＣＯ_３、ＮａＨＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、ＫＨＣＯ_３、Ｎａ_２ＳＯ_４、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＡｌ(ＳＯ_４)_２、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４からなる群より選ばれる少なくとも１種類の添加物を添加して、当該添加物が固体状態で上記イオン交換工程を行う。 （もっと読む）

【課題】薄型、軽量、大画面（大面積）であっても充分な強度を持つ、とくにタッチパネル式の携帯機器に好適にカバーガラスを提供する。
【解決手段】たとえばタッチパネルの携帯電話等の携帯機器に用いられるカバーガラス１は、その板厚が０．３ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲である。また、携帯機器の表側から見たときに文字または図形として認識しうる、或いは携帯機器の表側から触れたときに認識しうる凹部２が、カバーガラス１の対向する主表面１１、１２の少なくとも一方の表面に形成されている。この凹部２の表面２ａはエッチングで処理されたエッチング面である。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、フロート法で成形されているにもかかわらず、反り量が小さい強化ガラス基板及びその製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、フロート法で成形されてなる強化ガラス基板において、ボトム面の圧縮応力値が、トップ面の圧縮応力値より大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程（１）および（２）を含むガラス板の製造方法に関する。
（１）Ａｌ_２Ｏ_３を３モル％以上含有し、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量Ｒ_２Ｏに対するＬｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏの含有量のモル比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２ＯまたはＮａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが、０．９以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
（２）工程（１）で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】携帯機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板の表面に印刷を施す印刷工程を含む。この印刷工程の前に、上記ガラス基板１の印刷面１Ａを除く領域に保護膜２を形成する。たとえば印刷工程に使用する印刷機における位置決め部材と接触するガラス基板の領域に少なくとも保護膜２を形成する。そして印刷工程では、この保護膜２を形成した状態のガラス基板１の印刷面１Ａに対して印刷を施す。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料に対して金属などの微粒子を分散させる際に、破壊、溶解を行わず、特に、従来技術における、分散濃度の制限、ガラス表面での偏析性という問題を解決できる、微粒子のガラス材料への分散方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料中に分散させる微粒子の原料を気化させて蒸気とするとともに、気化した蒸気がガラス表面で凝集しない温度以上にガラスを加熱しながら、気化した蒸気を該ガラスに吸蔵させることにより、ガラス材料中へ微粒子を分散させる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を３％以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが０．４〜２．０ｍｍ、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σ_Ｃが４００ＭＰａ〜１ＧＰａ、前記圧縮応力層の深さＤ_Ｃが１５〜３０μｍであることを特徴とする化学強化ガラス板。 （もっと読む）

【課題】化学強化後のガラス基板の平坦度のばらつきを抑制できる電子機器用カバーガラスの製造方法およびガラス基板保持具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる電子機器用カバーガラスの製造方法は、四角形状のガラス基板１００を、化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液に浸漬させることにより、ガラス基板を化学強化処理する化学強化工程と、化学強化工程後に、ガラス基板を化学強化処理液から取出した後、ガラス基板の温度を下げる冷却工程と、を含み、冷却工程では、化学強化処理液がガラス基板表面で固化しないように、ガラス基板表面から排出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２を４０〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２０重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ_２を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、ＳｉＯ₂：５０〜７０モル％、Ａｌ₂Ｏ₃：３〜２０モル％、Ｎａ₂Ｏ：５〜２５モル％、Ｌｉ₂Ｏ：０モル％より多く、２．５モル％以下、Ｋ₂Ｏ：０〜５．５モル％及びＢ₂Ｏ₃：０〜３モル％未満が含有されてなるカバーガラス及び（１）ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、（２）得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、（３）得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。 （もっと読む）