【課題】ハフニウムおよび／もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 （もっと読む）

【課題】残留捻れが少なく偏波モード分散が小さい光ファイバを安定して製造できる光ファイバの製造方法を提供すること。
【解決手段】光ファイバ母材の先端部を溶融して光ファイバを引き出す引き出し工程と、前記引き出した光ファイバの外周を被覆する被覆工程と、回転軸が平行になるように段違いに配置された少なくとも一対の捻れ付与ローラによって前記被覆した光ファイバを挟み、前記一対の捻れ付与ローラを前記回転軸の回りに回転させて前記被覆した光ファイバを所定の方向に送るとともに、前記一対の捻れ付与ローラを回転軸に沿って互いに逆方向に往復移動させることによって、前記被覆した光ファイバに捻れを付与する捻れ付与工程と、を含み、前記捻れ付与工程は、前記一対の捻れ付与ローラの各回転軸を、前記送り方向と垂直の方向に対して所定の角度だけ傾斜させた状態で、前記被覆した光ファイバに捻れを付与する。 （もっと読む）

【課題】 優れた被膜密着性とともに良好な被覆除去性を備える、信頼性に優れたファイバグレーティング用光ファイバ素線の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス光ファイバ裸線（２）上に一次被覆層（３）及び二次被覆層（４）が設けられてなる光ファイバ素線であって、グレーティングの書き込みの際に前記光ファイバ素線の中間部の被覆が除去されるように、該一次被覆層（３）として、シランカップリング剤を０．０５〜５質量％含有し、ガラスとの密着力が５〜２０Ｎ／ｍであり、伸び率５０％時の引っ張り強度が０．５ＭＰａ以上である樹脂組成物をガラス光ファイバ裸線上に被覆するファイバグレーティング用光ファイバ素線（１）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高速化、長尺化された光ファイバ素線の製造においても、二次被覆装置のニップルへの付着物の付着を防いで、被覆工程を円滑化し、かつ高品位の光ファイバ素線を得る光ファイバ素線の製造方法および光ファイバ素線の製造装置を提供する。
【解決手段】 光ファイバ裸線３の外周に一次被覆樹脂５を被覆し、一次被覆樹脂５を硬化して一次被覆層を形成して一次被覆光ファイバ７とし、一次被覆光ファイバ７の外周に二次被覆装置８により二次被覆樹脂９を被覆し、二次被覆樹脂９を硬化し二次被覆層を形成して光ファイバ素線１１とする被覆工程を備えた光ファイバ素線の製造方法において、被覆工程にて、二次被覆装置８に導入する前の一次被覆光ファイバ７に対して、一次被覆樹脂５に含まれる揮発分が固化したものを溶融する温度のパージガスを吹き付ける。 （もっと読む）