説明

Fターム[4G060CA00]の内容

ガラス繊維又はフィラメントの表面処理 (2,260) | 被覆材料に含有される無機成分 (86)

Fターム[4G060CA00]の下位に属するFターム

Fターム[4G060CA00]に分類される特許

1 - 16 / 16


【課題】ハフニウムおよび/もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 (もっと読む)


【課題】 エンボス加工されたローラー付きの散布機を用いて、無機繊維積層体上にバインダーを散布する工程において、低散布量でも散布量のバラツキを低減し、均一で優れた機械強度を有し、柔軟な無機繊維不織布を与えるバインダーを提供する。
【解決手段】 微粒子状表面処理剤(A)で被覆されてなる熱可塑性樹脂粒子(B)を含有してなり、(B)の比表面積が0.3〜4m2/g、かつ雪崩角が35.0〜37.5°であることを特徴とする無機繊維不織布用バインダー。 (もっと読む)


【課題】分離が簡便かつ迅速な分離回収が可能なポリピロール−パラジウムナノコンポジット触媒担持材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】繊維の存在下で、パラジウム錯体を重合酸化剤として使用してピロールの重合反応を行い、該パラジウム錯体の還元により生成したパラジウムを該重合で生成されたポリピロールに1段階の工程で担持させてポリピロール−パラジウムナノコンポジットを生成させると共に、該ポリピロール−パラジウムナノコンポジットによって該繊維を被覆させることを特徴とする、ポリピロール−パラジウムナノコンポジット被覆繊維の製造方法。上記製造方法により製造された、ポリピロール−パラジウムナノコンポジット被覆繊維。 (もっと読む)


【課題】耐熱性を有するとともに、ガスバリア性や発塵抑制能力に優れ、高い柔軟性を有する複合シートを提供する。
【解決手段】無機繊維層5上に粘土含有層4が形成されてなる複合シートSであって、前記粘土含有層4は、その構成成分の少なくとも一部が無機繊維クロス3に含浸して被覆層を構成し、前記無機繊維層5は、前記無機繊維クロス3において粘土含有層4の構成成分が含浸されずにベース層を構成してなり、前記粘度含有層4の平均厚みが5〜100μm、前記無機繊維層5の平均厚みが100〜2000μmであることを特徴とする複合シートSである。 (もっと読む)


本発明方法は、溶融ガラス繊維コアを提供することと、ガラス繊維コアがその軟化温度以上で、溶融ガラス繊維コア上に遷移金属酸化物を含む複数のナノ粒子を配置することと、これによって、ナノ粒子を含んだガラス繊維を形成することを含んで構成した。前記複数のナノ粒子は、前記ガラス繊維コアの表面に埋め込まれている。本発明方法は、溶融ガラスと複数のナノ粒子との混合物を提供することを含んで構成した。前記複数のナノ粒子は、遷移金属を含む。前記方法は、複数のナノ粒子がガラス繊維の至るところに埋め込まれたナノ粒子を含んだガラス繊維を形成することを、更に、含んで構成した。 (もっと読む)


本発明は、合成または天然ナノ粒子およびナノ複合材料の分散方法、並びにセラミック、コーティング、高分子、建設、塗料、触媒、製薬および一般的な粉末状物質などの種々の分野におけるそれらの使用に関する。 (もっと読む)


【課題】金属被覆の比抵抗が小さく緻密な膜質となり、さらに伝送損失が小さく、機械強度が強い金属被覆光ファイバを提供する。
【解決手段】光ファイバ4と、その光ファイバ4の表面に、金属酸化物微粒子を還元剤に分散してなるスラリーを加熱還元して形成される金属被覆層5とを備えるものである。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、一度の浸漬処理でケイ素化合物とアルミニウム化合物とを同時にガラス繊維に付与してゼオライトの生成反応を行わせることができるガラス繊維の製造方法及びその繊維構造物を提供する。
【解決手段】 本発明のゼオライト被覆ガラス繊維の製造方法は、ケイ素化合物とアルミニウム化合物と水酸化ナトリウムが溶解している水溶液であって、ケイ素化合物を酸化ケイ素、アルミニウム化合物を酸化アルミニウムにそれぞれ換算した場合、その合計量(Y)として0.0703〜1.6403質量%が前記水溶液中に溶解していると共に、前記水溶液中における水酸化ナトリウム濃度(X)が4〜15質量%であり、前記酸化ケイ素と酸化アルミニウムに換算した合計量(Y)と水酸化ナトリウム濃度(X)の関係が下式(I)で表される水溶液でガラス繊維を処理したことを特徴とする。
Y≦0.1427X−0.5006 (I) (もっと読む)


本発明は、25から90%の少なくとも1種のフィルム形成剤;3から25%の少なくとも1種のカップリング剤;および2から18%のナノ粒子を質量%単位で含むサイジング組成物でコートされたガラスストランドに関する。本発明はまた、前記ストランドをコートできるサイジング組成物、これを得る方法およびこのようなストランドを組込むコンポジットに関する。本発明のガラスストランドは高い耐湿潤エージング性を有する。 (もっと読む)


【課題】端末加工の際に簡単に金属膜を除去できると共に金属膜の厚さを増すことが出来る金属コート光ファイバおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】コア(1a)およびクラッド(1d)から成る光ファイバ(1)の外周面に、金,銀等またはその合金の金属膜(2)を形成し、クラッド(1d)と金属膜(2)の間に微小空隙(3)を形成する。
【効果】端末加工の際に、金属膜(2)に円周状に切込みを入れてやれば、光ファイバ(1)と金属膜(2)の間に微小空隙(3)を形成しているため、簡単に金属膜(2)を除去できる。金属膜(2)の熱膨張による光ファイバ内部歪の増加を微小空隙(3)が緩和するため、金属膜(2)の厚さを従来より厚くでき、耐熱性を向上できる。曲げたときの金属膜(2)の応力が光ファイバ(1)に伝わるのを微小空隙(3)が緩和するため、曲げ強度を向上できる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性および引張強度に優れた耐熱光ファイバを提供する。
【解決手段】コア(1a)およびクラッド(1d)から成る石英またはガラス製の光ファイバ(1)の外周面に金属膜(2)を形成し、その金属膜(2)の外周面に、シリコンアルコキシドと加水分解反応を促進する活性アルコールとアルコールと水の混合液からゾル−ゲル法により合成したシリカミクロ多孔体溶液を塗布し、焼付けして、珪素を主成分とするシリカミクロ多孔体膜(3)を形成する。
【効果】金属膜(2)が耐熱性を有すると共に、シリカミクロ多孔体膜(3)が光ファイバ(1)自身と同様の高い耐熱性を有するため、優れた耐熱性が得られる。金属膜(2)がシリカミクロ多孔体膜(3)により光ファイバ(1)に押圧される結果、密着度が上がり、優れた引張強度が得られた。 (もっと読む)


珪質材料(好ましくは光ファイバー)用の硬化コーティングは、酸化物粉末を分散して有する熱硬化ポリオルガノシルセスキオキサンを含む。酸化物粉末は、約1.2〜約2.7の屈折率を有し、かつ約100ナノメートル未満の粒度を有する粒子を含む。硬化コーティングは、珪質材料に対して接着性を有し、かつ紫外線に対して透過性である。 (もっと読む)


金属/誘電体構造(10、20、30、50、62)は、その中を通して光を導くのに適している透光基体(12、54)又は誘電体基体(65)のいずれかと、基体の表面上に堆積された少なくとも1種の金属又はメタロイドの酸化物形態を含む任意の接着促進層(18、56、66)と、接着促進層(18、56、66)の上に配置されている高反射金属(14、58)及び/又は導電性金属(68)/電磁金属から成る層と、及び金属層(14)の上に形成されたパリレンポリマーフィルム(17、19)から成る保護層(16、60、70)とを含む。
(もっと読む)


【課題】極めて耐熱性に優れた耐熱光ファイバを提供する。
【解決手段】コア(1a)およびクラッド(1d)から成る石英またはガラス製の光ファイバ(1)の外周面に、シリコンアルコキシドと加水分解反応を促進する活性アルコールとアルコールと水の混合液からゾル−ゲル法により合成したシリカミクロ多孔体溶液を塗布し、焼付けして、珪素を主成分とするシリカミクロ多孔体膜(2)を形成する。次いで、有機金属液または有機金属ペーストをシリカミクロ多孔体膜(2)の外周に塗布し、焼き付けして、金属被膜(3)を形成し、耐熱光ファイバ(100)を製造する。
【効果】極めて高い耐熱性が得られ、火山のマグマ付近岩盤などの高温環境下でも使用できる。 (もっと読む)


半導体回路基板としての一次元半導体基板とその製造方法、および該一次元半導体基板を用いた素子、素子アレー、モジュール、ディスプレイ、太陽電池及び太陽電池モジュールとその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の一次元半導体基板1あるいは2は、幅又は厚さ、あるいは径に対して10倍以上の長さを持つ線状の基材3に所望の薄膜4を1層以上形成している。薄膜4に半導体を適用ことで一次元半導体薄膜が形成される。本発明の一次元半導体基板1あるいは2は、光ファイバの製造技術である線引技術を応用して製造される。 (もっと読む)


本発明は、ヤーンの織成強化ファブリックを有する強化積層板をプリント回路基板に提供し、このヤーンは、ポリマーマトリクス材料に適合するコーティングを有するE−ガラス繊維を含有する。ヤーンは約0.01〜約0.6重量%の範囲の強熱減量、およびヤーン1グラム質量あたり約1グラム重より大きいエアジェット搬送抵抗力を有し、このエアジェット搬送抵抗力は、2ミリメートルの直径を有する内部エアジェットチャンバー、および20センチの長さを有するノズル出口チューブを備えるニードルエアジェットノズルユニットを使用して、約274メートル(約300ヤード)/分のヤーン送り速度、および約310キロパスカル(約45ポンド/平方インチ)ゲージの空気圧で評価される。積層板はファブリックの充填方向において、約3×107キログラム/平方メートル(約42.7kpsi)より大きい曲げ強さを有する。ヤーンのコーティングは、ポリエステル、ならびにビニルピロリドンポリマー、ビニルアルコールポリマー、デンプンおよびそれらの混合物から選択されるポリマーを含み得る。あるいは、積層板は、288℃の温度において、約4.5%より小さいz方向の熱膨張係数を有する。 (もっと読む)


1 - 16 / 16