【課題】 ＴＦＴ形成時や通常使用時の熱による寸法変化が小さく、且つ、透明性及び信頼性に優れた樹脂−ガラス複合透明基板を得ることが可能な樹脂−ガラス複合透明基板用ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ６０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜２５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜５％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜１０％を含有し、３０〜３８０℃における線熱膨張係数が４０×１０^−７／℃未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分なイオン強化が可能なガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１は、表層１ａ，１ｂにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率と、中央層１ｃにおけるＮａ_２Ｏ換算でのＮａイオンの含有率との差が、１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を７０．０％以上９０．０％以下、Ｂ_２Ｏ_３成分を６．０％以上２０．０％以下及びＳｉＯ_２成分を０％超２０％以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％表示で、
ＳｉＯ₂およびＢ₂Ｏ₃を合計で５〜３２％、
Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＹ₂Ｏ₃を合計で４５〜６５％、
ＺｎＯを０．５〜１０％、
ＴｉＯ₂およびＮｂ₂Ｏ₅を合計で１〜２０％、
ＺｒＯ₂を０〜１５％、
Ｔａ₂Ｏ₅ を０〜１２％、
ＧｅＯ₂を０〜５％、
含み、
Ｂ₂Ｏ₃の含有量に対するＳｉＯ₂の含有量の質量比（ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃）が０．３〜１．０、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＹ₂Ｏ₃の合計含有量に対するＧｄ₂Ｏ₃およびＹ₂Ｏ₃の合計含有量の質量比（Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）が０．０５〜０．６であり、
屈折率ｎｄが１．９０〜２．０、アッベ数νｄが３２〜３８、かつ着色度λ７０が４３０ｎｍ以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜４０％を含有し、且つ保護膜がＳｒ含有硫酸塩及び／又はＢａ含有硫酸塩を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜５５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３成分及びＦ成分をさらに含有する。この光学ガラスは、１．５７以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、５０以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０４５〜０．０５５であり、内部の残留応力が５ＭＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高効率、コンパクトで、均一な光分布を有する紫外線殺菌装置を提供する。
【解決手段】被処理気体および／または液体の流通する中空の内部空間４０、管内壁７０と管外壁６０を備える石英ガラスおよびホウケイ酸ガラスから選択される紫外線透過性のガラス管１０、リフレクタ３０、および少なくとも１つの紫外光源２０により紫外線殺菌装置を構成し、紫外線透過性ガラス管の少なくとも１つの個所に内部空間への湾入部２５を作成し、該湾曲部に紫外光源を配置する。 （もっと読む）

【課題】製造中にヒ素化合物およびアンチモン化合物が清澄剤として使用されない酸化チタン含有ホウケイ酸ガラスを提供する。
【解決手段】ヒ素化合物およびアンチモン化合物を使用することなく製造された、酸化チタン含有ホウケイ酸ガラス、更に酸素含有セレン化合物を清澄剤として使用することを含む、環境に優しい精製方法とする。ガラスは、赤外範囲において良好な透過率値を有し、邪魔な変色を示さないことから、ＩＲ光導体、光センサー用カバーガラスおよびＵＶフィルターの製造に特に適している。 （もっと読む）

【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化（収縮及び屈曲）を受ける傾向と７００℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル％で、ＳｉＯ₂ ７４〜８１、Ｂ₂Ｏ₃ ８．５〜１４．５、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜３．５、Ｎａ₂Ｏ １．５〜３．５、Ｋ₂Ｏ １．０〜２．０、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１．０、ＭｇＯ ０．５〜１．５、ＣａＯ ０．５〜１．５、ＢａＯ ０〜０．６、ＴｉＯ₂ ２．０〜３．５、ＺｒＯ₂ ０〜１．０、及び清澄剤として、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜０．１５、ＣｅＯ₂ ０〜０．５、ＳｎＯ₂ ０〜０．５を含み、かつ０．４＜Ｎａ₂Ｏ／（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）≦０．７２のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．１％未満、ＺｎＯ ３．１〜１４．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％およびＷＯ_３ ０〜１０％を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約７５重量％の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび／またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７８以上、アッベ数（ν_ｄ）が３０以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．６２４以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５を含有し、質量％の比率でＮｂ_２Ｏ_５が４０％より多いことを特徴とする光学ガラス。質量％の比率でＫ_２Ｏが２％未満、ＴｉＯ_２／（ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．３２未満、かつＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＺｎＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏの合計含有量が９０％より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１５％（ただし、１５％は含まない）、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＣａＯ ０．１〜２５％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０．１〜２５％（ただし、２５％は含まない）、Ｌａ_２Ｏ_３ ０〜４．５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜４．９％、ＺｒＯ_２ ０〜７％およびＴｉＯ_２ ０〜５％を含有し、かつ、Ｐｂ成分、Ｐ成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、ＺｎＯ ３．１〜２５％、ＺｒＯ_２ ０〜５．４％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％およびＬｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が１〜８０ｎｍのシリカ粒子を含有し、ｐＨが３．５〜５．５で電気伝導率が７ｍＳ／ｃｍ以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の表面を研磨処理しなくても、表面品位が良好な太陽電池用ガラス基板を得ることにより、太陽電池の品質向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ（Ｒａ）が２０Å以下、好ましくは１０Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。 （もっと読む）