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Fターム[4G062DB01]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Al (5,897) |  (1,641)

Fターム[4G062DB01]に分類される特許

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【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La成分を0%より多く15.0%以下、及びNb成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びKO成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B23、La23、Gd23およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B23 45〜65%、La23 5〜22%、Gd23 1〜20%(ただし、La23とGd23の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb23 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、屈折率(n)1.66〜1.72、アッベ数(ν)29〜34の光学恒数を有し、液相温度(L)が850℃以下で、Bを実質的に含有せず、良好な精密プレス成型を可能にする光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量%で、P:25〜40%、Nb:20〜42%、NaO:10〜25%、WO:0〜25%、LiO:0〜5%、KO:0〜5%、CaO:0〜5%、ZnO:0〜7%、Al:0〜5%、TiO:0〜1%、を含有し、Bを含有せず、n:1.66〜1.72、ν:29〜34の光学恒数を有することを特徴とする光学ガラスに関する。 (もっと読む)


【課題】600℃〜900℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を提供する。
【解決手段】モル%で、20〜30%のSiO2、0〜15%のSrO、0〜8%のK2O、0〜6%のMgO、20〜30%のCaO、0〜10%のAl23、35〜45%のB23の組成を有し、アルカリの総量が10モル%未満であるガラスフリットを含む封止材料。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を60.0%以下、及び、Ta成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.00160×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×ν+0.75573)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.00250×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×ν+0.70000)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜21%、B 6.5〜30%、ZnO 0〜15.5%、ZrO 0〜8%、La 36.6〜65%、Gd 0〜16%、Ta 1〜18%、Nb 0〜8%未満、WO 0.1〜25%、LiO 0.1〜5%を含有し、屈折率が1.86以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率特性を達成しやすい、(4)可視光透過率に優れている、(5)モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、(6)耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、SnO 43.5〜90%、P+B+SiO 0.1〜56.5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】 酸化ケイ素の含有割合が多くても相分離を起し、強度が高い多孔質ガラスを製造することができるホウケイ酸塩ガラスおよびそれを用いた多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ケイ素60重量%以上72重量%以下、酸化ホウ素18重量%以上30重量%以下、酸化ナトリウム9.5重量%以上15重量%以下、酸化セリウム0.1重量%以上5.0重量%以下を含有するホウケイ酸塩ガラス。前記ホウケイ酸塩ガラスを加熱による分相処理をしてシリカリッチ相と非シリカリッチ相に相分離させる工程、前記非シリカリッチ相を溶液によるエッチングにより溶出させる工程を有する多孔質ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】リチウムイオン二次電池等の電池用材料、電解コンデンサ、電気二重層キャパシタ等の蓄電材料や表示素子等の電気化学デバイスへの応用が期待される高いイオン伝導性、熱的・電気化学的に安定性が高い固体電解質の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫化リチウムおよびその他の硫化物を必須成分として含む無機材料原料から得られる無機固体電解質の製造方法において、該無機材料原料を混合粉砕する機械的処理工程および加熱処理工程を含み、各工程を交互に複数回繰り返すことを特徴とする、無機固体電解質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 低温での加熱処理により相分離処理を行い、孔径、空孔率の制御が可能な多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 SiOの濃度が50wt%以上70wt%以下、Bの濃度が15wt%以上40wt%以下、LiOの濃度が1.0wt%以上8.0wt%以下、NaOの濃度が2.0wt%以上8.0wt%以下、KOの濃度が0.3wt%以上5.0wt%以下であり、LiOとNaOとKOの濃度の合計が3.5wt%以上15wt%以下であり、KOの濃度がLiOとNaOとKOの濃度の合計に対して0.10以上0.30以下の比率である母体ガラスを、300℃以上500℃以下の温度、3時間以上50時間以下で加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、相分離ガラスをエッチングして多孔質ガラスを形成する工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiOを62〜84%、Bを10〜25%、Alを0〜5%、NaOおよびKOのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiOとAlの含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。 (もっと読む)


【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が4μm以下であり、厚さのばらつきが6μm以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 (もっと読む)


【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSr、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するFPであるCs又はSrを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Feを必須成分とし、モル%で表して、Feが1〜50、Pが50〜80、かつ、Al、B、TiO、CoO、NiO、CeO、Cr、La、MoO、Nb、WOから選択される1種以上の合計が1〜40のFe−P系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSrを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が450℃以上である特徴も持つ。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、盗撮防止対象物上の画像の盗撮を防止することができる盗撮防止シートを提供する。
【解決手段】赤外蛍光体粒子14Bを含む赤外発光層14を備えた盗撮防止シート10を、表示装置等の表示画面等の盗撮防止対象物上に設置すると、表示画面から放射された可視光や自然光に含まれる可視光によって赤外発光層14中の赤外蛍光体粒子14Bが赤外光を発光する。このため、表示画面上に表示された画像を、この盗撮防止シート10を介して撮像装置によって撮像すると、CCDは赤外波長領域にも感度を有するため、赤外蛍光体粒子14Bによる赤外光が撮像されることとなる。このため、赤外蛍光体粒子14Bの発光による赤外光によって、表示画面に表示された画像が撮像装置によって撮像されることが阻害され、盗撮を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを75.5〜85.5%、MgOを1〜8%、CaOを0〜7%、Alを0〜5%、NaOを10〜22.5%を含有し、MgOの含有量がCaOの含有量より多く、MgOおよびCaOの含有量の合計(MgO+CaO)が8%以下、MgO、CaOおよびNaOの含有量の合計が24.5%以下、(MgO+CaO)をNaO含有量で除して得られた比が0.45以下である化学強化用板ガラス。 (もっと読む)


【課題】ArFリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたArFリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記(1)〜(5)を満たし、22℃における熱膨張係数(CTE)が0±200ppb/℃であるArFリソグラフィ用光学部材。
1mm≦λ(空間波長)≦10mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (1)
10μm≦λ(空間波長)≦1mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (2)
250nm≦λ(空間波長)≦10μmにおけるRMSが0.05nm以上1.0nm以下 (3)
100nm≦λ(空間波長)≦1μmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (4)
50nm≦λ(空間波長)≦250nmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (5) (もっと読む)


【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量%表示で、BとSiOを合計量で12〜30%、La、Gd、Y、Yb、ZrO、NbおよびWOを合計量で55〜80%、ZrOを2〜10%、Nbを0〜15%、ZnOを0〜15%、Taを0%以上13%未満含み、La、Gd、Y、Yb、ZrO、NbおよびWOの合計含有量に対するTa含有量の比が0.23以下、BとSiOの合計含有量に対するLa、Gd、YおよびYbの合計含有量の比が2〜4であり、かつ屈折率ndが1.86以上で、アッベ数νdが38以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。 (もっと読む)


【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】200℃以下のいわゆる常温において、ステンレス鋼等の金属の表面に塗布し、耐候性、防汚性及び難燃性に優れた金属を容易に得ることのできる常温ガラスコーティング剤を提供する。
【解決手段】酸化物化に必要な触媒としてホウ素イオン及びハロゲンイオンを含み、アルコールに溶融した加水分解可能な有機金属化合物の単一組成もしくは複合組成からなる常温ガラスコーティング剤である。該ガラスコーティング剤を金属板の表面に塗布することで200℃以下のいわゆる常温で乾燥させることができ、かつ、耐候性、防汚性及び難燃性に優れたものとできる。 (もっと読む)


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