【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量％で
ＳｉＯ_２を１〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を５〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを５〜３５、ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を５〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を０．１〜６、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜６０、を含むことを特徴とする導電性ペースト。 （もっと読む）

【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】ＬｉＲ（Ｒは、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルキル基、炭素数４〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数３〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数４〜２０のアルコキシシクロアルキル基である）と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される１以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン％表示にて、
Ｐ⁵⁺を14〜36％、
Ｂｉ³⁺を12〜34％、
Ｎｂ⁵⁺を12〜34％、
Ｔｉ⁴⁺を5〜20％、
Ｗ⁶⁺を0〜22％
含み、
Ｂｉ³⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｔｉ⁴⁺およびＷ⁶⁺の合計含有量が50％以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 断熱性を確保しつつ、耐熱性に優れた構造体、及び、構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属からなる基材と、上記基材の表面上に形成された表面被覆層とを備えた構造体であって、上記表面被覆層は、上記基材の表面上に形成され、非晶質無機材を含む第１層と、上記表面被覆層の最外層として形成され、９５０℃以上の軟化点を有する結晶性無機材を含む第２層とを含むことを特徴とする構造体。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、且つ、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が１０．０％以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、酸化物換算組成の質量比Ｌａ_２Ｏ_３／（Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．６９０以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点（Ｔｇ）を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が２０．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１．０〜３１．０％及びＬｎ_２Ｏ_３成分を４０．０〜６５．０％を含有し、ＴｉＯ_２成分の含有量が３０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機ＥＬ素子パッケージを利用した有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともＳｎＯ含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、（ＳｎＯ含有ガラス粉末の平均粒径Ｄ_５０）／（耐火性フィラーの平均粒径Ｄ_５０）比が０．６〜４であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル％で、ＳｉＯ_２ ３０超〜５０％未満、ＭｇＯ １０〜５０％、ＢａＯ ５〜４０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＺｎＯ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、ＳｎＯ_２ ０〜３％からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下であるガラス組成物。Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル％表示で、５〜５０％のＢ_２Ｏ_３、５〜９０％のＢｉ_２Ｏ_３、５〜７０％のＺｎＯの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル％表示でＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３の比の値が０．２以上かつＺｎＯ／Ｂｉ_２Ｏ_３の比の値が０．２以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、ＦｅＯとＦｅ_２Ｏ_３を重量基準で合計１〜１０００ｐｐｍの範囲内含み、ＦｅＯとＦｅ_２Ｏ_３の含有量の合計に対するＦｅＯの含有量の比が重量基準で０．４０〜０．９５の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．９５、アッベ数（νｄ）が１５〜３５のＳｉＯ_２−Ｎｂ_２Ｏ_５−ＴｉＯ_２系ガラスからなり、作業温度範囲（ΔＴ）＝（１０^０．５ポイズでの温度−液相温度）が２０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １５〜４５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ １５〜４０％（ただし、４０％を含まない）、ＴｉＯ_２ １〜３０％を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜５であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】４００℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％表示で、２９％〜３３％のＰ_２Ｏ_５、４３％〜５８％のＳｎＯ、１１％〜２５％のＺｎＯ、０．１％〜２％のＧａ_２Ｏ_３、０．５％〜５％のＣａＯ、ならびに０〜１％のＳｒＯを含み、酸化物基準のｍｏｌ％表示で、ＺｎＯ、Ｇａ_２Ｏ_３、およびＣａＯの総和Ｘが１３％〜２７％の範囲である、ガラス。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式ＹＺを有し、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、５００℃以下で１０，０００ポアズ以下の粘度を有し、１０００〜１０，０００ｓ^-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。 （もっと読む）

【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を２回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が５質量％以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ２０〜６５％、ＣａＯ ３〜２５％、ＭｇＯ ７〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＢａＯ ５〜４０％を含有し、かつ質量比で、１≦ＳｉＯ_２／ＢａＯ≦４の関係を満たすことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％表示で、ガラス組成として、ＳｉＯ₂ １０〜３５％、ＰｂＯ ５５〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％を含有し、且つ厚さ１０ｍｍについての波長４００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上である放射線遮蔽ガラス。 （もっと読む）