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強化ガラス及びその製造方法
【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO245〜75%、Al2O33〜15%、Li2O0〜12%、Na2O0.3〜20%、K2O0〜10%、MgO+CaO1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。
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真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター
【課題】フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等に好適に使用できる新たなリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び散乱中性子を1次中性子やX線から分離して測定することが可能な中性子検出用シンチレーターを提供する。
【解決手段】リチウムガラス材料20Al(PO3)3−80LiFに対してNdF3又はErF3が添加されたリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター。
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強化ガラス板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板(特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板)を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のSiO2の含有量を、ガラス板の表面から深さ1μmの内部領域に比べて、質量基準で1.03倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少
ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3
:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,S
rO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5
%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O
+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の
一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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強化ガラス、強化用ガラスおよび強化ガラスの製造方法
【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 0〜30%、Li2O+Na2O+K2O 0.1〜30%含有し、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。
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ガラス板の製造方法およびディスプレイ装置用化学強化ガラス
【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程(1)および(2)を含むガラス板の製造方法に関する。
(1)Al2O3を3モル%以上含有し、Li2OおよびNa2Oの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量R2Oに対するLi2OまたはNa2Oの含有量のモル比Li2O/R2OまたはNa2O/R2Oが、0.9以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
(2)工程(1)で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程
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半導体パッケージ用カバーガラス
【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。
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質量分析用途に用いる成形用セラミックス
【課題】質量分析用途に用いる成形用セラミックスを提供する。
【解決手段】RF部材のオーバーモールドに適した、アルカリ土類金属酸化物、例えばSrOを含むガラスセラミックは、良好なRF応答および良好な機械的強度を提供する。具体的には、SrOは、RFおよび機械的性能を維持しながら、セラミックの流動温度を低下させる。得られるガラス配合物は、10〜50モル%のSrO、5〜30モル%のAl2O3および20〜60モル%のB2O3を含有する。
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透明微小球
【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。
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ディスプレイ用カバーガラス
【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO2:50〜70、Al2O3:1〜22、ZrO2:0〜8、B2O3:0〜8、R2O:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はR2OとしてLi2Oを少なくとも1質量%有し、Al2O3とZrO2とを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを0〜9%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%である基板用ガラス。
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電気化学リアクター
【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター(20)は、固体電解質を備える電気化学セル(10)と導電性接続部材(24)との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材(30)を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成:
SiO2 60〜75質量%;
Al2O3 5〜15質量%;
Na2O及び/又はK2O 15〜25質量%;
CaO及び/又はMgO 1〜5質量%;
から実質的に構成されている。
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結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板
【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO240%〜60%、Al2O37%〜23%、TiO21〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P2O50%〜7%、B2O30%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO2+Al2O3)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。
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固体酸化物形燃料電池システム及び導電性接合材
【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池(SOFC)システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるSOFCシステム(110)に形成される接合部(120)は、以下の二つの成分:
(a)Ag;および、
(b)クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも1種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス;
が混在して形成されている。
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ガラス
【課題】本発明は、歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高温粘度が低いガラス(特にガラス板)を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜55%(但し、55%を含まず)、Al2O3 10.0超〜15%、B2O3 0〜15%、MgO 0〜3.7%未満、CaO 2.9超〜8%、SrO 4.0超〜15%、BaO 2.0超〜14%未満(但し、14.0%を含まず)、Li2O 0〜10%、Na2O 4.0超〜15%、K2O 0〜10%、ZrO2 0〜7%、Fe2O3 0.01〜1%を含有することを特徴とする。
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電極形成用ガラス及び電極形成材料
【課題】本発明は、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得ると共に、ブリスターやAlの凝集を発生させ難く、しかも熱水による電極の耐劣化性が良好な電極形成用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、モル%で、Bi2O3 1〜30%、B2O3 10〜66%、CaO 0.1〜25%を含有することを特徴とする。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 10〜48%、B2O3 3〜15%(ただし、15%は含まない)、Al2O3 2〜15%、Li2O 0〜20%、Na2O 0.1〜20%、K2O 0〜15%、CaO 0.1〜25%、SrO 0〜25%、BaO 0.1〜25%(ただし、25%は含まない)、La2O3 0〜4.5%、Nb2O5 0〜4.9%、ZrO2 0〜7%およびTiO2 0〜5%を含有し、かつ、Pb成分、P成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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強化板ガラス
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量%で、SiO2 50〜80%、Al2O3 5〜25%、Li2O+Na2O 3〜25%、CaO+MgO+ZnO+SrO+BaO 0〜10%を含有し、圧縮応力層の厚さが100μm以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。
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ガラスフリット複合材料
【課題】250℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−50℃〜200℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を1mm以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂3〜40重量%、1〜1000ppmのアルカリ金属を含有するシリカ1〜20重量%、鉛を含有しないガラスフリット1〜30重量%、コージライト30〜90重量%、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。
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