説明

Fターム[4G062DB04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Al (5,897) | 10−30 (1,142)

Fターム[4G062DB04]に分類される特許

1,061 - 1,080 / 1,142


(a)シリカ10〜35重量%;(b)アルミナ10〜35重量%;(c)酸化亜鉛3〜30重量%;(d)P4〜30重量%;および(e)フッ化物3〜25重量%を含み、MO(ただし、MはLi、Na、および/またはKである)として計算されたアルカリ金属を最大3重量%含有し、酸化亜鉛およびフッ化物の合計の、Pに対する重量比が0.8から3.0であるアルミノシリケートガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、負に充分大きな熱膨張係数を有し、粒径によって熱膨張係数がほとんど変化しない複合材料を作製することができる多結晶粉末を提供することである。
【解決手段】本発明の多結晶粉末は、主結晶としてLi2O−Al23−SiO2系結晶を含有し、マイクロクラックを有する多結晶体からなり、平均粒径が55〜300μmであることを特徴とする。 (もっと読む)


レーザ光の照射によって加工されるレーザ加工用ガラスであって、その組成が以下の関係を満たすレーザ加工用ガラス。 40≦M[NFO]≦70 5≦(M[TiO])≦45 5≦M[NMO]≦40[式中、M[NFO]、M[TiO]およびM[NMO]は、それぞれ、網目形成酸化物の含有率(モル%)、TiOの含有率(モル%)、および網目修飾酸化物の含有率(モル%)を表す。]。この構成によれば、ガラス表面近傍のみならず、ガラス内部に至るレーザ加工が可能なレーザ加工用ガラスが得られる。
(もっと読む)


【課題】
低誘電率、高絶縁性で微細なスルホールを持つ絶縁層を形成可能にする感光性絶縁ペーストを提供を提供する。
【解決手段】
少なくともシリカ粉末、ガラス粉末および感光性有機成分からなるペーストであって、ガラス粉末が、軟化点が350〜550℃の低融点ガラスと軟化点が600〜900℃の高融点ガラスを含有し、高融点ガラスの比誘電率が8以下であることを特徴とする感光性絶縁ペースト (もっと読む)


繊維−サイズ組成物は、修飾ポリオレフィン、親水性カップリング剤、及び下記の少なくとも一つを備えたエンハンサを含んでいる:フッ素含有化合物、疎水性カップリング剤、環式脂肪酸、又は少なくとも一つの脂肪酸が二以上の酸基を有する少なくとも二つの飽和脂肪酸。該組成物をサイズ塗布された補強繊維材料が複合材製品を形成するために使用されるとき、該製品は強度及び色のような改善された特性を示す。 (もっと読む)


【目的】
多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する。
【構成】
ガラス基板の一方の側から、所定の細い孔径を有する孔を所定深さまで形成し、次に、前記ガラス基板の他方の側から、前記細い孔径を有する孔の中心軸と同様の中心軸を有する所定の太い孔径を有する孔を、前記細い孔径を有する孔の底部まで形成して貫通させて、多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する (もっと読む)


【課題】希土類イオンで高水準のドープを行うのに根本的に適しているガラスまたはガラスセラミックスを開示する。
【解決手段】少なくとも構成成分SiO2、Al23およびY23を含んでおり、好ましくは希土類イオンでドープされているガラスおよびガラスセラミックスを開示する。Y23の重量と、SiO2、Al23およびY23の全重量との重量比率は、少なくとも0.2、好ましくは少なくとも0.4以上である。希土類イオンが、前記ガラスから析出される高濃度のイットリウム含有量で、結晶相に取り込まれることができることが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、連続したガラス相及び正方晶系の白榴石を含む結晶相を含み、ガラスセラミックが割れのないガラス相及びガラス相に本質的に均質に分布する白榴石結晶を含む結晶相を有するガラスセラミックを包含する。結晶相は、約5%〜約70%の、1μm未満の粒度を有する第1群の白榴石結晶及び約30%〜約95%の、1μm以上の粒度を有する第2群の白榴石結晶から成る粒度分布を有する。ガラスセラミックにおけるLi2Oの比率は好ましくは0.5重量%未満である。ガラス相だけでなく結晶相も本質的に割れを含まないことが好ましい。相当するガラスセラミックは、歯科領域において、特に上塗りセラミックとしての使用に特に好適である。 (もっと読む)


本発明は、広い波長範囲において発光機能や光増幅機能を示すガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、ビスマス酸化物、酸化アルミニウム、およびガラス網目形成体を含み、ガラス網目形成体の主成分が酸化シリコン以外の酸化物であり、ビスマス酸化物に含まれるビスマスが発光種として機能し、励起光の照射により赤外波長域で蛍光を発する。好ましいガラス網目形成体はBまたはPである。このガラス組成物は、さらに1価または2価の金属の酸化物を含んでいてもよい。
(もっと読む)


【課題】 リブ流れが起こりにくくなる隔壁用ペーストおよび隔壁付きガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 アルカリ含有ガラス粉末、アクリル重合体および有機溶剤を含有する隔壁用ペーストであって、アクリル重合体のアミン価をA、水酸基価をBとして、Aが4以上かつBが18以上、Aが34以上62以下、または、Aが62超かつBが4以上である隔壁用ペーストおよび該ペーストを用いた隔壁付きガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 例えば1MΩ/□以上の超高抵抗値を有し、抵抗値のばらつきを抑え、且つTCR特性及びSTOL特性を良好なものとすることができる抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物を含有する。前記希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物は、R(2−x)(x)Ru(Rは元素番号57〜71の希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、AはCa、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種である。また、0<x≦1.0である。)で表される。前記Rは、Nd、Sm、Gd、Dy、Er、Luから選ばれる少なくとも1種類である。 (もっと読む)


【課題】 モリブデン部品を有し且つ650℃より高いバルブ温度を有するランプバルブ用として使用される材料に要求される諸特性を有するアルカリ土類金属含有アルミノケイ酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】 アルミノケイ酸塩ガラスは、酸化物基準の質量%表示で以下の組成:SiO >58〜62%、Al 15〜17.5%、MgO 0.1〜<1%、CaO 5.5〜14%、SrO 0〜8%、BaO 6〜17%、ZrO 0〜1%、CeO 0〜0.3%、TiO 0〜5%、MoO 0〜2%、Bi 0〜4%、但し、ΣRO(アルカリ土類金属酸化物) 11.6〜29%を有する。 (もっと読む)


【課題】 例えば10kΩ/□以上の高い抵抗値を有し、TCR特性及びSTOL特性の両立を図ることができ、さらには熱的な安定性にも優れる抵抗体を実現する。
【解決手段】 ガラス組成物、導電性材料及び任意成分としての添加物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる抵抗体ペーストである。ガラス組成物は、3価のイオン半径が0.70Å〜1.00Åである元素を含有する。3価のイオン半径が0.70Å〜1.00Åである元素は、例えばSc、In、Er、Gd、Dyである。 (もっと読む)


【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したとき(基板肉厚が0.1mm以上の場合)、或いはそれぞれ肉厚の1/3除去したとき(基板肉厚が0.1mm未満の場合)の透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが10nm〜30μmであり、またSiO2含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、固体セラミック部品と、少なくとも1つの他の固体部品とを接合する際に有用なガラスセラミック材料およびその製造方法である。この材料は、M1-M2-M3-M4を配合したもので、M1は、BaO、SrO、CaO、MgO、またはそれらの組み合わせであり、M2は、Al2O3であり、配合物中に2〜15 mol%の量で存在し、M3は、50 mol%以下のB2O3を有するSiO2であり、かつLa2O3、Y2O3、Nd2O3、もしくはその組み合わせからなる群より選択される金属酸化物、または0.1〜7.5 mol%のK2Oである。La2O3、Y2O3、Nd2O3またはそれらの組み合わせの群からの金属酸化物の場合には、組成物は、0.1〜3 mol%のCuOをさらに含有することが好ましい。全ての場合において、結晶相のガラスセラミック材料は、25℃〜1000℃で測定した時に、熱膨張係数が12 x 10-6-1である固体電解質の熱膨張係数と実質的に一致し、この熱膨張係数は、熱サイクルを繰り返しても低下しない。本発明に従って、M1-Al2O3-M3-M4系の一連のガラスセラミックを、筒状および平面状両方の固体酸化物燃料電池、酸素電気分解装置、および合成ガス、汎用化学製品および他の製品を製造するための膜反応装置を接合またはシールする際に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】 表面の研磨を容易に行うことができ、またUやThを含む研磨剤が表面に付着することに起因するカバーガラスのα線放出量の増大を防ぐことが可能な半導体パッケージ用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 大板ガラスの表面を研磨加工した後、その周縁部を除去すると共に、内側部分を細断加工することによって、α線放出量が0.01c/cm2・hr以下のガラス小片を作製する。 (もっと読む)


【課題】浮上量が10nm以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は0.1重量%以上とし、フッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。 (もっと読む)


実質的に透明なガラスセラミック、およびアルミノガレート尖晶石結晶相を示し、かつSiO2−Al23−ZnO−K2O−Ga23−Na2O系内に入り、特に、酸化物基準の重量パーセントで表して、25〜50%のSiO2、0〜26%のAl23、15〜45%のZnO、0〜25%のK2O、0〜10%のNa2O、0〜32%のGa23から実質的になり、K2O+Na2O>10%、かつAl23+Ga23>10%であるガラスセラミック組成を有するガラスセラミックであって、その微小構造が、少なくとも15重量%の六方晶ZnO結晶を有してなる結晶相を示すものであるガラスセラミックを製造する方法が開示されている。開示された別の態様は、光ファイバ、利得またはレーザ媒体、増幅成分、および可飽和吸収体からなる群より選択される光学素子であって、該素子が、前記と同じ組成の透明ガラスセラミックを有してなり、少なくとも約15重量%の結晶度の六方晶ZnO結晶を含有する光学素子である。
(もっと読む)


【課題】緻密で、素体との接着強度が高く、且つ、耐めっき液性が極めて優れ、薄膜化にも対応可能な端子電極を形成することのできる導体ペースト、並びに、この導体ペーストに好適に用いられるガラス粉末を提供することにある。
【解決手段】SiO、Al、RO(Rはアルカリ金属)及びR’O(R’はアルカリ土類金属)、又はこれらの成分に更にBを含有するガラス粉末であって、該ガラス粉末中における前記各成分の重量%による含有率が下記式(1)を満たすと共に、該ガラス粉末の軟化点Ts〔℃〕及びガラス転移点Tg〔℃〕が、130≦(Ts−Tg)≦280を満たすことを特徴とするガラス粉末、酸化物換算で下記の組成からなる成分を含有し、下記式(1)を満たすことを特徴とするガラス粉末、及び該ガラス粉末用いた導体ペースト。
(RO+R’O+B)/SiO≦0.95 ・・・・・ (1) (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、熱膨張係数が小さい基板を用いても割れやリークが発生しにくいとともに、パネル内部のガスの排気から希ガスを導入密封するに至る工程で軟化変形せず、短時間で熔断・封止しやすいディスプレイ用排気管ガラスおよびそのガラスを用いて作製したディスプレイ用排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用排気管ガラスは、SiO2−Al23−B23系ガラスであって、含有するホウ素をB23として換算し、含有するR(RはLi、NaおよびKから選ばれる1種以上)をR2Oとして換算した時の質量比(B23/R2O)が0.88〜4.0であることを特徴とし、本発明のディスプレイ用排気管は、SiO2−Al23−B23系ガラスであって、含有するホウ素をB23として換算し、含有するR(RはLi、NaおよびKから選ばれる1種以上)をR2Oとして換算した時の質量比(B23/R2O)が0.88〜4.0であるガラスからなることを特徴とする。 (もっと読む)


1,061 - 1,080 / 1,142