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Fターム[4G062DB04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Al (5,897) | 10−30 (1,142)

Fターム[4G062DB04]に分類される特許

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【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を25.0%以上55.0%以下、Ln成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb成分を0%超25.0%以下含有し、ZrO成分の含有量が10.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。 (もっと読む)


【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも1つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも1つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 (もっと読む)


【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B23:5〜20%,Al23:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0.001〜0.5%,Na2O:0.01〜0.5%,K2O:0.002〜0.5%,Cl:0%を超え1.0%以下,を含む。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB成分を25.0%以上55.0%以下、Ln成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb成分を0より多く25.0%以下含有し、ZrO成分の含有量が15.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。 (もっと読む)


【課題】 特に、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能な圧粉磁心及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 軟磁性粉末5及び絶縁性結着材6を有する混合物を圧縮成形し、熱処理して得られる圧粉磁心であって、前記絶縁性結着材6は、バインダー樹脂と、ガラスとを有してなり、前記ガラスのガラス転移温度(Tg)は前記熱処理の温度よりも低いことを特徴とするものである。本発明の圧粉磁心及びその製造方法によれば、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能になる。また、絶縁性結着材にガラスのみならず軟磁性粉末よりも粒径の小さい磁性微粒子を添加することで、初透磁率(初期)を高めることができ、また初透磁率のみならず鉄損の熱安定性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したSiO濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をTg(℃)としたとき、前記熱処理温度がTg〜Tg+100(℃)の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを50〜75%、Alを1〜15%、NaOを6〜21%、KOを0〜15%、MgOを0〜15%、CaOを0〜20%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜21%、ZrOを0〜5%、Feを1.5〜6%、Coを0.1〜1%含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La成分を0%より多く15.0%以下、及びNb成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びKO成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ZrO含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Zr源として、P含有量が0.4質量%以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン%表示で、P5+ 25〜37%、Al3+ 16.2〜25%、 R 0.5〜40%(ただし、Rは、Li、Na、及びKの合量を表す)、R2+ 0.5〜45%(ただし、R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、及びZn2+の合量を表す)、Cu2+ 2〜10%、Sb3+ 0〜1%を含有すると共に、アニオン%表示で、O2− 30〜85%、F 15〜70%、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)及び部分分散比(θg,F)が小さく、可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く20.0%以下、La成分を0%より多く15.0%以下、及びNb成分を0より多く19.5%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びKO成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】熱的耐久性および機械的強度に優れ、かつ、外観として高級感があり、優れた意匠性を付与することが可能な結晶化ガラス物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶性ガラス小体を集積し、熱処理により融着一体化かつ結晶化させてなる結晶化ガラス物品であって、LiO−Al−SiO系結晶を20〜70質量%を含み、かつ、RO−Al−SiO系結晶(R=Mg、Ca、Sr、Ba)またはR’O−Al−SiO系結晶(R’=Na、K)を1〜75質量%を含むことを特徴とする結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品10は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向けて針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体11と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体12と、を備え、第一焼結体11が、第二焼結体12の一の面の一部に融着一体化されてなる。 (もっと読む)


【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を60.0%以下、及び、Ta成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.00160×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×ν+0.75573)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.00250×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×ν+0.70000)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす100μm以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が10〜200μmのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、(徐冷点+200℃)〜(徐冷点+50℃)の温度範囲における平均冷却速度を300〜2500℃/分の範囲に調節することを特徴とする。 (もっと読む)


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