【課題】内部の気孔を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック複合材料を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜６０％、ＢａＯ １０〜４０％、ＣａＯ ０〜３０％、ＭｇＯ ０〜３０％を含有し、質量比で、１＜ＳｉＯ_２／ＢａＯ＜３の関係を満たすガラス粉末と、Ａｌ成分を含有するセラミック粉末と、を含有するガラスセラミック複合材料であって、熱処理によって、主結晶としてセルジアン結晶を析出することを特徴とするガラスセラミック複合材料。 （もっと読む）

【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を３％以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが０．４〜２．０ｍｍ、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σ_Ｃが４００ＭＰａ〜１ＧＰａ、前記圧縮応力層の深さＤ_Ｃが１５〜３０μｍであることを特徴とする化学強化ガラス板。 （もっと読む）

【課題】電池の充放電電圧をより高めることができ、且つ、電池の充放電特性をより高めることが可能なリチウムイオン伝導性無機物質を提供する。
【解決手段】リチウムイオン伝導性無機物質は、酸化物基準の質量％で、ＺｒＯ_２成分を２．６〜５２．０％含有する。このリチウムイオン伝導性無機物質は、正極層及び負極層と、これら正極層及び負極層の間に介在する固体電解質を含んだ固体電解質層と、を備えるリチウムイオン二次電池に用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜３である。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】超伝導結晶の臨界温度を高め得る材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】組成として、モル％表記で、Ｂｉ₂Ｏ₃１０〜３０％、ＳｒＯ２０〜５０％、ＣａＯ１０〜３０％、ＣｕＯ２０〜４５％、アルカリ金属酸化物０．１〜１０％を含有する超伝導性を有するＢｉ系非晶質材料であることを特徴とする。また、超伝導材料とするための製造方法は、上記のＢｉ系非晶質材料を熱処理することにより、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１が、ガラス基板１の一方及び他方の主表面１１，１２のそれぞれからエッチングされることにより、所望の形状に切り抜かれてなるとともに、主表面１１，１２の面方向外側へ突出する頂部１４が端面１３に形成された携帯機器用カバーガラスのガラス基材１であって、端面１３の頂部１４には、丸みが形成され、主表面１１，１２と端面１３との間の面取り寸法が１０〜１００μｍであるガラス基材１。 （もっと読む）

【課題】画素−レンズ間の距離が短く、且つ適正な透明導電膜等を有する３Ｄディスプレイの視域制御部を得ることができる板厚が小さい、撓み難い液晶レンズ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１５％、ＭｇＯ０〜１５％、ＣａＯ０〜１５％を含有し、且つ板厚が４００μｍ以下であり、且つ板厚が４００μｍ以下であることをことを特徴とする液晶レンズ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜３％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を７５．０％以上、酸化物基準の質量％でＭｇＯ成分、ＣａＯ成分、ＳｒＯ成分及びＢａＯ成分のうちいずれか１種以上を１０．０％未満、酸化物基準の質量％でＺｎＯ成分を１０．０％未満、酸化物基準の質量％でＴｅＯ_２成分を１０．０％未満の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜１５％、ＭｇＯを１〜１２％、ＣａＯを０〜３％、ＺｒＯ_２を０〜３％、Ｌｉ_２Ｏを１０〜２０％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが２５％以下、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．５〜１．０である化学強化用ガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率かつ高分散である、（４）可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、（５）プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が１．８５以上、アッベ数が３０以下、ガラス転移点が４５０℃以下であり、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ４０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｅＯ_２ ０．１％〜１９％を含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯがそれぞれ１％未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、ＧｅＯ_２を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２を４０〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２０重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ_２を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１０％、ＭｇＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜２５％、ＢａＯ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＺｒＯ_２０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする太陽電池用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量％表示にて、SiO₂を2〜37％、B₂O₃を0〜25％、GeO₂を0〜10％、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55％、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計で27〜55％含み、SiO₂とB₂O₃の合計含有量に対するSiO₂含有量の質量比（SiO₂／（SiO₂+B₂O₃））が0.1〜1の範囲であり、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi₂O含有量の質量比（Li₂O／（Li₂O+Na₂O+K₂O+CaO+SrO+BaO）が0〜0.4の範囲であり、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計含有量に対するTiO₂含有量の質量比（TiO₂／（TiO₂+Nb₂O₅+WO₃））が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび／またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、４１〜７９の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）