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Fターム[4G062DC01]に分類される特許
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歯科用修復物の調製のためのプロセス
【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび/またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。
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ドープ石英ガラスの製造方法
【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。
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チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
【解決手段】EUV光の反射面において、反射面の中心に位置する原点(O)及び複屈折測定点(A)を結ぶ直線と、測定点(A)における複屈折の進相軸とによりなす角度(θ)の平均値が45°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、EUVリソグラフィ用、特にEUVリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。
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伝熱性部材、積層体および電子部品
【課題】耐熱性に優れた伝熱性部材を提供する。
【解決手段】低軟化点を有する非晶質体(A)を含むバインダから少なくとも形成された基材と、前記基材中に含有された熱伝導性粒子(B)とを有する伝熱性部材。前記バインダは、有機高分子材料を実質的に含まないことが好ましい。
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強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス
【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が80nm以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法
【課題】 As2O3、Sb2O3を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度logηが4.0のときのガラス融液の電気抵抗が4.4Ω・cm以上、液相粘度がlogηで4.35以上、且つAs2O3及びSb2O3を実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。
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発光素子及び発光素子用基板材料
【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率(nEL)から前記基板層の屈折率(nsub)を減じた数(Δn)が0.2以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。
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ガラス繊維及びガラス繊維強化樹脂材
【課題】 樹脂と複合化した際に耐熱水性に優れたガラス繊維とさらにこのガラス繊維を用いたガラス繊維強化樹脂材を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のガラス繊維は、質量%で、SiO2 45〜65%、Al2O3 7〜18%、B2O3 3〜11%、R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量を表す) 0〜0.2%、MgO 0〜5%、CaO 5〜27%、SrO 0〜6%、BaO 0〜2%、の組成を含有し、質量比で、R2O/SiO2が0.0050以下、B2O3/SiO2が0.055〜0.160であることを特徴とする。
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TiO2含有石英ガラス基板
【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±10%以内の凹凸パターンを形成することができるTiO2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】15〜35℃における熱膨張係数が±200ppb/℃以内であり、TiO2濃度が4〜9wt%であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ50μmまでの表面近傍領域におけるTiO2濃度分布が、±1wt%以内であることを特徴とするTiO2含有石英ガラス基板。
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カバーガラス及びその製造方法
【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、SiO2:50〜70モル%、Al2O3:3〜20モル%、Na2O:5〜25モル%、Li2O:0モル%より多く、2.5モル%以下、K2O:0〜5.5モル%及びB2O3:0〜3モル%未満が含有されてなるカバーガラス及び(1)ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、(2)得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、(3)得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。
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磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。
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磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。
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ガラスおよび化学強化ガラス
【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を50〜75%、Al2O3を1〜15%、Na2Oを6〜21%、K2Oを0〜15%、MgOを0〜15%、CaOを0〜20%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜21%、ZrO2を0〜5%、Fe2O3を1.5〜6%、Co3O4を0.1〜1%含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
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生体溶解性無機繊維の製造方法
【課題】安定して繊維径の細い生体溶解性無機繊維を製造できる方法を提供する。
【解決手段】シリカを70重量%以上と、マグネシアとカルシアを合わせて10〜30重量%含む無機原料を、容器の中で加熱して溶融させて、溶融粘度15ポアズ以下の溶融液を製造し、前記溶融液を、70km/s2以上の加速度で回転するロータに供給し、前記ロータの回転による遠心力により、前記溶融液を引き延ばして繊維化し、前記ロータの周囲に空気を吹き付け、前記繊維化した繊維を飛ばし、前記繊維を集めて平均繊維径5μm以下の繊維を製造する、無機繊維の製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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近赤外線カットフィルタガラス
【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン%表示で、P5+ 25〜37%、Al3+ 16.2〜25%、 R+ 0.5〜40%(ただし、R+は、Li+、Na+、及びK+の合量を表す)、R2+ 0.5〜45%(ただし、R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、及びZn2+の合量を表す)、Cu2+ 2〜10%、Sb3+ 0〜1%を含有すると共に、アニオン%表示で、O2− 30〜85%、F− 15〜70%、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La2O3成分を0%より多く15.0%以下、及びNb2O5成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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ガラス基板の製造方法
【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ZrO2含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Zr源として、P2O5含有量が0.4質量%以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。
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光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子
【課題】本発明は、屈折率(nd)1.66〜1.72、アッベ数(νd)29〜34の光学恒数を有し、液相温度(LT)が850℃以下で、B2O3を実質的に含有せず、良好な精密プレス成型を可能にする光学ガラス、精密プレス成型用プリフォーム、及び光学素子の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量%で、P2O5:25〜40%、Nb2O5:20〜42%、Na2O:10〜25%、WO3:0〜25%、Li2O:0〜5%、K2O:0〜5%、CaO:0〜5%、ZnO:0〜7%、Al2O3:0〜5%、TiO2:0〜1%、を含有し、B2O3を含有せず、nd:1.66〜1.72、νd:29〜34の光学恒数を有することを特徴とする光学ガラスに関する。
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