【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】ＬｉＲ（Ｒは、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルキル基、炭素数４〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数３〜２０のシクロアルコキシ基、炭素数４〜２０のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数４〜２０のアルコキシシクロアルキル基である）と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される１以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】固体酸化物形燃料電池セル用無アルカリガラス系シール材を提供する。
【解決手段】７００〜１２００℃程度のＳＯＦＣ１２の作動温度域で軟化或いは溶融し難い高融点或いは高軟化点とするようにバリウムシリケート結晶ＢａＳｉ_４Ｏ_９、Ｂａ_２Ｓｉ_３Ｏ_８、およびＢａ_３Ｓｉ_５Ｏ_１３の少なくとも１つをガラスマトリックス中に有し、且つ、アルカリ成分を含まないで９〜１３×１０^−６／Ｋの熱膨張係数を有し且つ７００〜９００℃程度の接合温度でＳＯＦＣ１２とその周辺部材であるガス管２４などとを接合可能な接合可能となるように、無アルカリガラス系シール材１０は、５０〜８５wt％のＢａＯと４〜２０wt％のＳｉＯ_２と１〜１５wt％のＡｌ_２Ｏ_３とを必須構成要素として含み、且つ、０〜２０wt％のＢ_２Ｏ_３と０〜３０wt％のＴｉＯ_２との少なくとも一方を含むガラス組成物を備えている。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン％表示にて、
Ｐ⁵⁺を14〜36％、
Ｂｉ³⁺を12〜34％、
Ｎｂ⁵⁺を12〜34％、
Ｔｉ⁴⁺を5〜20％、
Ｗ⁶⁺を0〜22％
含み、
Ｂｉ³⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｔｉ⁴⁺およびＷ⁶⁺の合計含有量が50％以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 断熱性を確保しつつ、耐熱性に優れた構造体、及び、構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属からなる基材と、上記基材の表面上に形成された表面被覆層とを備えた構造体であって、上記表面被覆層は、上記基材の表面上に形成され、非晶質無機材を含む第１層と、上記表面被覆層の最外層として形成され、９５０℃以上の軟化点を有する結晶性無機材を含む第２層とを含むことを特徴とする構造体。 （もっと読む）

【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル％で、ＳｉＯ_２ ３０超〜５０％未満、ＭｇＯ １０〜５０％、ＢａＯ ５〜４０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＺｎＯ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、ＳｎＯ_２ ０〜３％からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機ＥＬ素子パッケージを利用した有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともＳｎＯ含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、（ＳｎＯ含有ガラス粉末の平均粒径Ｄ_５０）／（耐火性フィラーの平均粒径Ｄ_５０）比が０．６〜４であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 （もっと読む）

【課題】セラミックメタルハライドランプにおいて、シール部材であるガラスフリットに発生する気泡が原因となる接合部の折れやリークを抑制するセラミックメタルハライドランプ用ガラスフリットを提供すること。
【解決手段】ガラスフリットの製造工程において、１１００℃以上の温度で１０時間以上保持する炭素除去工程を設けることにより、シール工程における一酸化炭素や二酸化炭素などのガスの発生を抑え、気泡を抑制する。またガラスフリットに発生した気泡が原因となるリークの発生も抑制する。 （もっと読む）

【課題】フツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスを作製したり、得られたガラスを熔融状態でパイプから流出してガラス成形体に成形する場合に、ガラス成分の揮発を抑制し、ガラス組成の変動に伴う品質のばらつきを抑制し得る低分散の光学ガラスを提供する
【解決手段】アッベ数（ν_d）が７０を超え、Ｐ⁵⁺の含有量に対するＯ^2-の含有量のモル比Ｏ^2-／Ｐ⁵⁺が３．５以上であるフツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．９５、アッベ数（νｄ）が１５〜３５のＳｉＯ_２−Ｎｂ_２Ｏ_５−ＴｉＯ_２系ガラスからなり、作業温度範囲（ΔＴ）＝（１０^０．５ポイズでの温度−液相温度）が２０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １５〜４５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ １５〜４０％（ただし、４０％を含まない）、ＴｉＯ_２ １〜３０％を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）及び酸化チタン（ＴｉＯ_２）を含有し、さらに酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）、酸化ナトリウム（Ｎａ_２Ｏ）及び酸化カリウム（Ｋ_２Ｏ）の少なくとも１種を含有する。各成分の含有量は質量％で表して、４５≦ＳｉＯ_２≦６５、０．１≦Ａｌ_２Ｏ_３≦１５、９≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２５及び１５≦ＴｉＯ_２≦２５である。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜５であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】４００℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％表示で、２９％〜３３％のＰ_２Ｏ_５、４３％〜５８％のＳｎＯ、１１％〜２５％のＺｎＯ、０．１％〜２％のＧａ_２Ｏ_３、０．５％〜５％のＣａＯ、ならびに０〜１％のＳｒＯを含み、酸化物基準のｍｏｌ％表示で、ＺｎＯ、Ｇａ_２Ｏ_３、およびＣａＯの総和Ｘが１３％〜２７％の範囲である、ガラス。 （もっと読む）

【課題】カレットとしてＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜８％、Ｎａ_２Ｏ ５〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０．１〜１０％、ＭｇＯ ０．１〜１５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０．００１〜５％を含有し、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＺｒＯ_２）が０．３〜１．５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式ＹＺを有し、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、５００℃以下で１０，０００ポアズ以下の粘度を有し、１０００〜１０，０００ｓ^-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。 （もっと読む）

【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ２〜５％、ＴｉＯ_２ ２．５〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜２．３％、ＳｎＯ_２ ０．２〜０．９％、Ｖ_２Ｏ_５ ０．００５〜０．０９％を含有し、Ａｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）