Fターム[4G062DE03]の内容
Fターム[4G062DE03]に分類される特許
121 - 140 / 1,313
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を60.0%以下、及び、Ta2O5成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
(もっと読む)
光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率特性を達成しやすい、(4)可視光透過率に優れている、(5)モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、(6)耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、SnO 43.5〜90%、P2O5+B2O3+SiO2 0.1〜56.5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
(もっと読む)
磁気ディスク用ガラスブランク
【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が4μm以下であり、厚さのばらつきが6μm以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。
(もっと読む)
蓄電デバイス用負極活物質の製造方法
【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。
(もっと読む)
化学強化用ガラスおよびディスプレイ装置用ガラス板
【課題】傷がついても破壊しにくい化学強化ガラスに用いるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を65〜77%、Al2O3を3〜15%、Na2Oを8〜15%、K2Oを0〜2%未満、MgOを3〜15%、ZrO2を0〜1%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3が85%以下であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であり、かつ、各成分の含有量を用いて下記式により算出されるRが0.66以上である化学強化用ガラス。
R=0.029×SiO2+0.021×Al2O3+0.016×MgO−0.004×CaO+0.016×ZrO2+0.029×Na2O+0×K2O−2.002
(もっと読む)
導電性ペースト及び該導電性ペーストを用いた太陽電池素子
【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%で
SiO2を1〜20、B2O3を5〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、R2O(Li2O、Na2O、及びK2Oからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Bi2O3を10〜60、を含むことを特徴とする導電性ペースト。
(もっと読む)
光学ガラス、ガラス成形体、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】 耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスおよび該光学ガラスからなるガラス成形体と光学素子を提供する
【解決手段】 質量%表示で、B2O3とSiO2を合計量で12〜30%、La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、ZrO2、Nb2O5およびWO3を合計量で55〜80%、ZrO2を2〜10%、Nb2O5を0〜15%、ZnOを0〜15%、Ta2O5を0%以上13%未満含み、La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、ZrO2、Nb2O5およびWO3の合計含有量に対するTa2O5含有量の比が0.23以下、B2O3とSiO2の合計含有量に対するLa2O3、Gd2O3、Y2O3およびYb2O3の合計含有量の比が2〜4であり、かつ屈折率ndが1.86以上で、アッベ数νdが38以上である光学ガラス、および該光学ガラスからなる棒状のガラス成形体と光学素子である。
(もっと読む)
強化ガラス板
【課題】圧縮応力層の圧縮応力値が高く、且つ所望の色合いを有する強化ガラス板を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラス板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板であって、ガラスの組成として、下記酸化物換算の質量%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 5〜20%、B2O3 0〜5%、Na2O 8〜18%、K2O 2〜9%、Fe2O3 30〜1500ppmを含有し、波長400〜700nmにおける板厚1.0mm換算の分光透過率が85%以上、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるxが0.3095〜0.3120、xy色度座標(C光源、板厚1mm換算)におけるyが0.3160〜0.3180であることを特徴とする。
(もっと読む)
磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。
(もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、酸化物換算組成の質量比La2O3/(La2O3+Gd2O3)が0.690以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
(もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点(Tg)を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、Ta2O5成分の含有量が20.0%以下である。
(もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながらも、高価な材料の使用が低減され、且つ耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜30.0%、及びLa2O3成分を15.0〜50.0%を含有し、且つ、Nb2O5成分の含有量が10.0%以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
(もっと読む)
高膨張結晶性ガラス組成物
【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル%で、SiO2 30超〜50%未満、MgO 10〜50%、BaO 5〜40%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、B2O3 0〜15%、ZnO 0〜15%、Al2O3 0〜6%、ZrO2 0〜3%、SnO2 0〜3%からなることを特徴とする。
(もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を1.0〜31.0%及びLn2O3成分を40.0〜65.0%を含有し、TiO2成分の含有量が30.0%以下、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。
(もっと読む)
封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
(もっと読む)
ガラス組成物
【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Bi2O3を含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi2O3−B2O3−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB2O3、5〜90%のBi2O3、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/B2O3の比の値が0.2以上かつZnO/Bi2O3の比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。
(もっと読む)
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。
(もっと読む)
ガラスペースト、それを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、FeOとFe2O3を重量基準で合計1〜1000ppmの範囲内含み、FeOとFe2O3の含有量の合計に対するFeOの含有量の比が重量基準で0.40〜0.95の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。
(もっと読む)
強化板ガラスの製造方法
【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。
(もっと読む)
光学ガラス、プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法
【課題】フツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスを作製したり、得られたガラスを熔融状態でパイプから流出してガラス成形体に成形する場合に、ガラス成分の揮発を抑制し、ガラス組成の変動に伴う品質のばらつきを抑制し得る低分散の光学ガラスを提供する
【解決手段】アッベ数(νd)が70を超え、P5+の含有量に対するO2-の含有量のモル比O2-/P5+が3.5以上であるフツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスである。
(もっと読む)
121 - 140 / 1,313
[ Back to top ]