【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜５であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも６８％の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、３９％モル量までのＯ２−イオンがＦで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス（特に酸素）バブリング工程を含む方法で得られる。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式ＹＺを有し、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、５００℃以下で１０，０００ポアズ以下の粘度を有し、１０００〜１０，０００ｓ^-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。 （もっと読む）

【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ２〜５％、ＴｉＯ_２ ２．５〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜２．３％、ＳｎＯ_２ ０．２〜０．９％、Ｖ_２Ｏ_５ ０．００５〜０．０９％を含有し、Ａｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺、Ａｌ³⁺およびＲ²⁺（Ｒ²⁺は、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｓｒ²⁺およびＢａ²⁺からなる群から選ばれる少なくとも１つ）を含み、カチオン％表示で、Ｃａ²⁺の含有率が１４．０〜２４．０％、Ｒ²⁺の含有率が３２．０〜５８．０％であり、アニオン成分として、Ｆ^-およびＯ^2-を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．５０以上で、アッベ数（νｄ）が６５以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも１種の結晶を含み、厚さが６ｍｍ超１８ｍｍ以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Ａと、前記結晶化ガラス層Ａの片面および側面から選択される少なくとも１つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Ｂと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 （もっと読む）

【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、ＴｉＯ_２結晶、ＷＯ_３結晶、ＲｎＮｂＯ_３結晶、ＲｎＴａＯ_３結晶（ＲｎはＬｉ、Ｎａ及びＫから選択される１種以上）、ＲＮｂ_２Ｏ_６結晶、ＲＴａ_２Ｏ_６結晶（ＲはＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選択される１種以上）、ＺｎＯ結晶、ナシコン型結晶、Ｂｉ_２Ｏ_３結晶、Ｂｉ_２ＷＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｗ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｗ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２ＭｏＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_２Ｏ_７結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_４Ｏ_１１結晶、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_１２ＴｉＯ_２０結晶、ＢｉＮｂＯ_４結晶、Ｂｉ_２Ｆｅ_４Ｏ_９結晶、ＢｉＶＯ_４結晶、ＬｉＢｉＯ_３結晶、及びこれらの固溶体から選択される１種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２を１０〜３５、Ｂ_２Ｏ_３を１〜２０、ＺｎＯを０〜２０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選ばれる一種以上の合計）を２〜２０、Ｂi_２Ｏ_３を４０〜８０含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】１０^６ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度が６５０℃以下であり、Ｂ_２Ｏ_３が１５．５モル％以上の組成を有するＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をｐＨ３〜６の酸性溶液又はｐＨ８〜１２のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス転移点Ｔｇが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散（具体的には屈折率ｎｄが１．４８〜１．５４、アッベ数νｄが５９〜６７）の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ４５．５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜４４％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．２〜２０％、ＴｉＯ_２ ０〜７％、Ｎａ_２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜９％、Ｒ_２Ｏ ３〜３０％（Ｒ_２ＯはＮａ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合量）、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ）／（Ａｌ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が０．１６〜０．８０であり、実質的にＰｂＯを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．５６以上、アッベ数（ν_ｄ）が５８．０以上、屈伏点（Ａｔ）が５１０℃未満で、且つ成形時の耐失透性が良好で、精密モールドプレス成形等のモールド成形及び微細構造の転写に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５：３０．０〜４５．０重量％、Ｂ_２Ｏ_３：０．１〜５．０重量％、Ｌｉ_２Ｏ：０．１〜８．０重量％、Ｎａ_２Ｏ：２．０〜１０．０重量％、ＢａＯ：１５．０〜４０．０重量％、ＺｎＯ：２．０〜３０．０重量％、Ｙ_２Ｏ_３＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３：１．３〜８．０重量％含有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に３体積％以上、水素の場合には２体積％以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも３０ＭＰａであるとする方法。 （もっと読む）

【課題】特にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２及びＡｓ_２Ｏ_３を用いない、好ましくは弗素及びＧｄ_２Ｏ_３を用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ちＢｉ_２Ｏ_３５５−７０、ＧｅＯ_２１３−２１、ＳｉＯ_２０−９、Ｂ_２Ｏ_３０−１０、Ｌｉ_２Ｏ０−５、Ｎａ_２Ｏ０−５、Ｋ_２Ｏ０−５、Ｃｓ_２Ｏ０−６、ＭｇＯ０−１０、ＣａＯ０−１０、ＳｒＯ０−１０、ＢａＯ０−１０、ＺｎＯ０−１０、ＴｉＯ_２０−５、Ｌａ_２Ｏ_３０−７、Ｗｏ_３０−６、Ｎｂ_２Ｏ_５０−６、Σアルカリ金属酸化物０−５、Σアルカリ土類金属酸化物０−１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）０−８、通常の清澄剤０−２を含み、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを１９重量％以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして１９重量％〜５０重量％の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α（室温〜３００℃）が、（１０３±７）×１０^−７／℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに０．６をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２４５〜６０％；Ｎａ_２Ｏ１１．５〜１２．５％；Ｂ_２Ｏ_３１．２〜１．５％；Ｋ_２Ｏ５．５〜８．０％；ＣａＯ５．０〜８．５％；Ａｌ_２Ｏ_３２．０〜３．０％；Ｓｂ_２Ｏ_３０．２〜０．４％；ＺｎＯ２．０〜３．０％；ＢａＯ２．０〜３．０％；Ｆ_２０．０５〜０．１５％；Ｌｉ_２Ｏ０．２〜０．４；Ｍｇ０．２〜０．４；Ｆｅ_２Ｏ_３０．４〜０．８；ＴｉＯ_２０．２〜０．５；を含む前記褐色ガラスも提供される。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂ_２Ｏ_３成分及びＦ成分を含有し、アッベ数（νｄ）をｘ軸とし、屈折率（ｎｄ）をｙ軸としたｘｙ直交座標において、Ａ（５０，１．７０）、Ｂ（６０，１．６０）、Ｃ（６３，１．６０）、Ｄ（６３，１．７０）の４点にて囲まれる範囲のアッベ数及び屈折率を有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で（θｇ，Ｆ）≧−０．００１７０×ν_ｄ＋０．６３７５の関係を満たす。 （もっと読む）