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Fターム[4G062EA03]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Li (6,847) | 1−10 (1,426)

Fターム[4G062EA03]に分類される特許

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【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 (もっと読む)


【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Biを含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi−B−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB、5〜90%のBi、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/Bの比の値が0.2以上かつZnO/Biの比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、FeOとFeを重量基準で合計1〜1000ppmの範囲内含み、FeOとFeの含有量の合計に対するFeOの含有量の比が重量基準で0.40〜0.95の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。 (もっと読む)


【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率(nd)が1.75〜1.95、アッベ数(νd)が15〜35のSiO−Nb−TiO系ガラスからなり、作業温度範囲(ΔT)=(100.5ポイズでの温度−液相温度)が20℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量%で、SiO 15〜45%、Nb 15〜40%(ただし、40%を含まない)、TiO 1〜30%を含有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)及び酸化チタン(TiO)を含有し、さらに酸化リチウム(LiO)、酸化ナトリウム(NaO)及び酸化カリウム(KO)の少なくとも1種を含有する。各成分の含有量は質量%で表して、45≦SiO≦65、0.1≦Al≦15、9≦(LiO+NaO+KO)≦25及び15≦TiO≦25である。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】フツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスを作製したり、得られたガラスを熔融状態でパイプから流出してガラス成形体に成形する場合に、ガラス成分の揮発を抑制し、ガラス組成の変動に伴う品質のばらつきを抑制し得る低分散の光学ガラスを提供する
【解決手段】アッベ数(νd)が70を超え、P5+の含有量に対するO2-の含有量のモル比O2-/P5+が3.5以上であるフツリン酸塩ガラスからなる光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiOを50〜70質量%、Alを5〜20質量%、NaOを6〜30質量%、および、LiOを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 (もっと読む)


【課題】多数回の重ね塗りを行っても厚膜高精細パターンが実現可能な絶縁パターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】絶縁ペーストを基板上にパターン印刷して露光する工程を2回以上繰り返した後、焼成する工程を含む絶縁パターンの形成方法であって、絶縁ペーストが絶縁性の無機粉末および感光性有機成分を含み、該絶縁ペースト中の有機溶剤の含有量が5質量%以下であることを特徴とする絶縁パターンの形成方法とする。 (もっと読む)


【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜73%、Al 17〜25%、LiO 2〜5%、TiO 2.5〜5.5%、ZrO 0〜2.3%、SnO 0.2〜0.9%、V 0.005〜0.09%を含有し、AsおよびSbを実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜75%、Al 3〜15%、LiO 0〜12%、NaO 0.3〜20%、KO 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも68%の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、39%モル量までのO2−イオンがFで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス(特に酸素)バブリング工程を含む方法で得られる。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+およびR2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)を含み、カチオン%表示で、Ca2+の含有率が14.0〜24.0%、R2+の含有率が32.0〜58.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量%で、SiOを10〜35、Bを1〜20、ZnOを0〜20、RO(LiO、NaO、KOから選ばれる一種以上の合計)を2〜20、Biを40〜80含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。 (もっと読む)


【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】10dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、Bが15.5モル%以上の組成を有するSiO−B−RO系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 (もっと読む)


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