【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないＨＤＤ用ガラス基板およびＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が５０〜２００μｍである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び／又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいＨＤＤ用ガラス基板および該ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたＨＤＤ用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが２〜３０μｍであることを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末であり、軟化点が５００℃以下で、熱的に安定で、かつ耐水性に優れた低軟化点ガラス粉末を提供することである。
【解決手段】本発明に係るガラス粉末は、実質的に鉛、アンチモン、テルル、ビスマスの酸化物を含有しないガラス粉末において、重量％でV₂O₅を25〜55%、BaOを30〜35%、SrOを6〜8%、MgOを0〜1%、ZnOを4.5〜5.5%含有し、更にB₂O₃の2〜8%もしくはP₂O₅の10〜25%のどちらか一方を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして利用可能な強度及び視認性を有する抗菌性ガラスを供給することを目的とした。
【解決手段】表層に抗菌物質を有する抗菌性ガラスであって、該抗菌性ガラスは表層において、ガラス表面から深さ３０μｍ以内に銀イオンの拡散層と、ガラス表面から深さ方向に厚み１５μｍ以上の圧縮層とを有し、表面圧縮応力が４８０ＭＰａ以上であり、前記表層において、蛍光Ｘ線分析法によって測定されたカリウムのＸ線強度（Ｋ）と銀のＸ線強度（Ａｇ）との比（Ａｇ／Ｋ）が０．０００５〜０．５であることを特徴とすることを特徴とする抗菌性ガラス。 （もっと読む）

【課題】無機繊維ブロック間に生じる目地開きを抑制できる無機繊維ブロックを提供する。
【解決手段】無機繊維からなるブランケット状物を積層して形成される無機繊維ブロック１において、無機繊維の組成が下記の条件を満たす無機繊維ブロック１。ＳｉＯ_２：６６〜８２質量％、ＣａＯ：１０〜３４質量％、ＭｇＯ：３質量％以下、Ａｌ_２Ｏ_３：５質量％以下、他の酸化物２質量％未満 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、プリフォームの生産性、モールドプレス性が良好な光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％でＢｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、屈折率［ｎｄ］が１．７０以上、アッベ数［νｄ］が１０以上の光学恒数を有し、液相温度における粘性が０．４Ｐａ・ｓ以上である光学ガラスである。さらに、ガラスの屈伏点［Ａｔ］が６００℃以下、液相温度が９５０℃以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い熱的耐久性および機械的強度を有するとともに、表面平滑性にも優れた結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】バルク状の結晶性ガラスを熱処理により結晶化させてなる結晶化ガラス物品であり、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶を２０〜７０質量％を含み、かつ、ＲＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）またはＲ’_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶（Ｒ’＝Ｎａ、Ｋ）を１〜７５質量％を含むことを特徴とする結晶化ガラス物品。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎｄ）が１．７８〜２．２、アッベ数（νｄ）が１６〜４０未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％でＢ_２Ｏ_３を２５〜６０％、ＴｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５の合計量を２〜４５％、ＷＯ_３を１〜２５％含有し、屈折率ｎｄが１．７８〜２．２、アッベ数νｄが１６〜４０未満である光学ガラス。さらに、Ｌａ_２Ｏ_３を５〜３５％、ＺｎＯを１〜４０％を含有する。また、ガラス転移点（Ｔｇ）が７００℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂に配合するガラスフィラーに好適に用いられ得るガラス組成物を提供する。
【解決手段】
質量％で表して、４５≦ＳｉＯ₂≦６５、０．５≦Ｂ₂Ｏ₃＜２、５≦Ａｌ₂Ｏ₃≦１５、５≦ＣａＯ≦２５、０．１≦ＭｇＯ≦１０、７＜ＴｉＯ₂≦１２、０≦（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）＜２、の成分を含有するガラス組成物を提供する。このガラス組成物は、１．５７５〜１．５９５の屈折率ｎ_dと、４５〜４９のアッベ数ν_dとを有することができる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分とＦ成分を含有し、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＬａ、Ｇｄ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上）の質量和が５０．０％未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜４０％を含有し、且つ保護膜がＳｒ含有硫酸塩及び／又はＢａ含有硫酸塩を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２ ７５〜８５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％の組成を含有し、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０４５〜０．０５５であり、内部の残留応力が５ＭＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物（特にＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｇｄ_２Ｏ_３）の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ｎｄに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ２０〜６０％、ＴｉＯ_２ ０．０００１〜２０％、ＺｒＯ_２ ０〜２０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜５５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３成分及びＦ成分をさらに含有する。この光学ガラスは、１．５７以上の屈折率（ｎ_ｄ）と、５０以上のアッベ数（ν_ｄ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】 酸化錫を用いて泡品位に優れた珪酸塩ガラスを製造する方法を提供するものである。
【解決手段】 珪酸塩ガラスを製造するに当たり、清澄剤としてメディアン粒径Ｄ_５０が２〜５０μｍの範囲にある酸化錫粉末を用いることを特徴とする。珪酸塩ガラスとしては、無アルカリガラスやリチウムアルミノ珪酸塩系結晶化ガラスを例示することができる。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔２１，２２と金属芯材３１との間に充填された結晶性ガラス体３２は、酸化物換算の質量％表示でＢｉ₂Ｏ₃６０〜８０％、ＳｉＯ₂５〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃０．５〜８％、Ｂ₂Ｏ₃０．５〜１３％、及びＺｎＯ０〜１２％を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、（１）ガラス基板を用意する工程と、（２）ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、（３）ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、（４）塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、（５）封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、（６）レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎdが１．７０以上、アッベ数νdが５０以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．７２以上、アッベ数νｄが５０以上であって、モル％表示にて、Ｂ₂Ｏ₃ ４０〜７５％、ＳｉＯ₂ ０％を超え１５％以下、Ｌｉ₂Ｏ １〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２２％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ３〜２０％、Ｙ₂Ｏ₃ ０％以上１％未満、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ０〜５％、ＳｒＯ ０〜５％、Ｆ ０〜５％を含み、Ｌｉ₂ＯおよびＺｎＯの合計量が５〜１５モル％であり、かつモル比（ＺｎＯ／Ｌｉ₂Ｏ）が０．４以上２．５以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス粉末を原料とするガラスセラミック誘電体用材料であって、グリーンシート成形時において、スラリーの粘度変化が生じにくく、かつ、流動性が高くレベリング性に優れたガラスセラミック誘電体用材料を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸ガラス粉末を４９．９〜８９．９質量％、アルミナ粉末および／または石英粉末を１０〜５０質量％、ならびに、ホウ酸アルミニウム粉末および／またはホウ酸シリカ系化合物粉末を０．１〜４質量％含有することを特徴とするガラスセラミック誘電体用材料。 （もっと読む）