【課題】可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を７５．０％以上、酸化物基準の質量％でＭｇＯ成分、ＣａＯ成分、ＳｒＯ成分及びＢａＯ成分のうちいずれか１種以上を１０．０％未満、酸化物基準の質量％でＺｎＯ成分を１０．０％未満、酸化物基準の質量％でＴｅＯ_２成分を１０．０％未満の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】画素−レンズ間の距離が短く、且つ適正な透明導電膜等を有する３Ｄディスプレイの視域制御部を得ることができる板厚が小さい、撓み難い液晶レンズ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１５％、ＭｇＯ０〜１５％、ＣａＯ０〜１５％を含有し、且つ板厚が４００μｍ以下であり、且つ板厚が４００μｍ以下であることをことを特徴とする液晶レンズ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】高屈折率であるとともに優れた製造適性を有する光学ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺を０〜３０％、Ｂ³⁺を１５〜６０％、Ｌｉ⁺を０〜１０％、Ｎａ⁺を０〜１０％、Ｋ⁺を０〜１５％、Ｍｇ²⁺を０〜２０％、Ｃａ²⁺を０〜１５％、Ｓｒ²⁺を０〜２０％、Ｂａ²⁺を０〜２０％、Ｚｎ²⁺を１３〜４０％、Ｌａ³⁺を０〜１１％、Ｇｄ³⁺を０〜１０％、Ｙ³⁺を０〜６％、Ｙｂ³⁺を０〜６％、Ｚｒ⁴⁺を０〜５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜１０％、Ｎｂ⁵⁺を２〜２０％、Ｔａ⁵⁺を０〜５％、Ｗ⁶⁺を０〜１０％、Ｔｅ⁴⁺を０〜５％、Ｇｅ⁴⁺を０〜５％、Ｂｉ³⁺を０〜５％、Ａｌ³⁺を０〜５％を含む、Ｐｂを含有しない酸化物ガラスであり、屈折率ｎｄが１．７５０〜１．８５０、アッベ数νdが２９．０〜４０．０、かつガラス転移温度が６３０℃未満であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】相対屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄＴ）が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数（ν_ｄ）が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５５．０〜９５．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜３５．０％含有し、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が３．０×１０^−６（℃^−１）以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率かつ高分散である、（４）可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、（５）プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が１．８５以上、アッベ数が３０以下、ガラス転移点が４５０℃以下であり、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ４０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｅＯ_２ ０．１％〜１９％を含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯがそれぞれ１％未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、ＧｅＯ_２を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】リヒートプレス法でも失透しない優れた熱的安定性を有し、接合レンズの作製に好適な高屈折率高分散光学ガラスを提供すること。
【解決手段】質量％表示にて、SiO₂を2〜37％、B₂O₃を0〜25％、GeO₂を0〜10％、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOを合計で18〜55％、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計で27〜55％含み、SiO₂とB₂O₃の合計含有量に対するSiO₂含有量の質量比（SiO₂／（SiO₂+B₂O₃））が0.1〜1の範囲であり、Li₂O、Na₂O、K₂O、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するLi₂O含有量の質量比（Li₂O／（Li₂O+Na₂O+K₂O+CaO+SrO+BaO）が0〜0.4の範囲であり、TiO₂、Nb₂O₅およびWO₃を合計含有量に対するTiO₂含有量の質量比（TiO₂／（TiO₂+Nb₂O₅+WO₃））が0.35〜1の範囲であり、屈折率ndが1.860〜1.990の範囲であり、かつアッベ数νdが21〜29の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１０％、ＭｇＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜２５％、ＢａＯ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＺｒＯ_２０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする太陽電池用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いガラスをより安価に得ることが可能な、光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１．０〜３０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５５．０％含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が１３．０％未満である。この光学ガラスは、１．７５以上の屈折率（ｎ_ｄ）を有し、３０以上５０以下のアッベ数（ν_ｄ）を有することが好ましい。光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２を４０〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２０重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ_２を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】所望の修復物に有利に加工され得る、ガラスセラミックおよび／またはガラスが使用され得る、歯科用修復物を調製するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、４１〜７９の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。 （もっと読む）

【課題】溶融性、成形性、耐失透性が高いと共に、複数回の熱処理工程を経ても、ガラス基板間の間隙寸法を均一化し得る封着用ガラスビーズ及びこれを用いた封着材料を創案する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とガラスビーズとを含む封着材料において、ガラスビーズの平均粒子径Ｄ_５０が３５〜２７０μｍであり、ガラスビーズが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜３０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５０．０〜８０．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、屈折率（ｎｄ）が１．９０以上であり、液相温度における粘性が０．２５Ｐａ・ｓ以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】高いプロトン伝導性又はプロトン・電子混合伝導性を有すると共に、中温域で動作可能であり、しかも緻密な構造を有する伝導性材料を創案する。
【解決手段】本発明の伝導性材料は、組成として、下記成分換算のモル％表示で、ＳｎＯ₂ ３．５〜２５％、Ｐ₂Ｏ₅ １２〜４０％、ＳｉＯ₂ １０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １〜４０％、Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃＋Ｉｎ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃（Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、及びＹ₂Ｏ₃の合量） ０．１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、屈折率（ｎｄ）が１．８５以上を有しアッベ数（νｄ）が２５以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。

【解決手段】 必須成分として、Ｐ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２を含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜４４．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０．１〜５０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を２０．０〜６０．０％、ＴｉＯ_２成分を０．１〜２０．０％含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】可視域透過率を高く維持しつつ、近赤外域透過率を低く抑えることができる近赤外線カットフィルタガラスを低コストで提供すること。
【解決手段】下記酸化物換算の質量％表示で、Ｐ_２Ｏ_５ ６５〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０．５〜３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ３〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ ３〜１５％、ＭｇＯ ０〜２％、ＣａＯ ０〜２％、ＳｒＯ ０〜５％、ＢａＯ ３〜９％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ３〜１５％、ＣｕＯ ０．５〜２０％、を含み、Ｋ_２Ｏを実質的に含まず、Ｎａ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ） ０．５〜３、であることを特徴とする近赤外線カットフィルタガラス。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率（ｎ_ＥＬ）から前記基板層の屈折率（ｎ_sub）を減じた数（Δｎ）が０．２以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が１．６以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。 （もっと読む）