【課題】シリカをベースとし他の成分を１種以上含むガラスからなるナノレベルの粒子径を有する球状ガラス微粒子及びセラミックスの焼結を容易にするための、そのような球状ガラス粒子よりなる焼結助剤を提供する。
【解決手段】組成として，酸化物換算で，ＳｉＯ₂を４０〜９７モル％の量で含有し，Ｌｉ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ及びＫ₂Ｏよりなる群より選ばれる１種又は２種以上の金属酸化物を６０モル％以下の量で含有するか, Ｂ₂Ｏ₃を４０モル％以下の量で含有するか，又はＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ及びＢａＯよりなる群より選ばれる１種又は２種以上のアルカリ土類金属酸化物を５０モル％以下の量で含有し，平均粒子径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満であることを特徴とする，球状ガラス微粒子。 （もっと読む）

【課題】 平面表示装置用スペーサーの作製に好適な素材ガラスを提供することであり、より具体的には（１）表面に製膜しても、膜の導電性が長時間変化しない、（２）周辺材料と適合する熱膨張係数を有する、（３）高い寸法精度を有し、平面表示装置の製造工程における熱処理工程で破損や変形が起こらない、（４）機械的強度が高い、等の要求を満たす平面表示装置用スペーサーを作製することが可能な素材ガラスを提供することである。
【解決手段】 質量％でＳｉＯ₂ ２５〜８０％、ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及び／又はＢａ） ２０〜６０％、Ｒ’₂Ｏ（Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及び／又はＫ） ０〜８％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜２０％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子の視感度補正に用いられるフィルタガラスにおいて、レンズ系の近紫外線色収差に起因する輪郭ぼけなどの撮影画像の乱れを低減することのできる視感度補正フィルタガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 ＣｕＯを含有し、質量%で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜６０％、ＡｌＦ_３０〜２０％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋのうち少なくとも１種）１〜３０％、Ｒ´Ｆ_２（Ｒ´はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１種）１０〜７５％、（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）からなる基礎ガラス１００質量部に対して、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．６〜５質量部、Ｓｂ_２Ｏ_３を０．１〜５質量部含有させた。
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【課題】固体撮像素子の視感度補正に用いられるフィルタガラスにおいて、レンズ系の近紫外線色収差に起因する輪郭ぼけなどの撮影画像の乱れを低減することのできる視感度補正フィルタガラスを提供する。
【解決手段】ＣｕＯを含有し、質量%で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜６０％、ＡｌＦ_３０〜２０％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋのうち少なくとも１種）１〜３０％、Ｒ´Ｆ_２（Ｒ´はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１種）１０〜７５％、（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）からなる基礎ガラス１００質量部に対して、ＣｅＯ_２を１〜６質量部、Ｖ_２Ｏ_５を０．０１〜０．５質量部含有させた。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属を含むガラスに銀イオン交換によって銀イオンを導入すると、レーザ加工しきい値が低下する。しかし、銀イオンはガラス表面近傍で換言され、ガラス内部へ拡散させることは困難である。このため、有効なレーザ加工領域がガラス表面近傍に限られ、ガラス板に貫通孔を形成するなどガラス内部に及ぶ加工は困難である。
【解決手段】実質的に以下の酸化物からなる組成を有するレーザ加工用ガラスとする。モル％で表示して、２０≦ＳｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃≦５０（ただし１０≦Ｂ₂Ｏ₃≦５０）、２５≦ＴｉＯ₂≦４０、５≦Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ｒｂ₂Ｏ＋Ｃｓ₂Ｏ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ≦４０ （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子の視感度補正に用いられるフィルタガラスにおいて、レンズ系の近紫外線色収差に起因する輪郭ぼけなどの撮影画像の乱れを低減することのできる視感度補正フィルタガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ＣｕＯを含有し、質量%で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜６０％、ＡｌＦ_３０〜２０％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋのうち少なくとも１種）１〜３０％、Ｒ´Ｆ_２（Ｒ´はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１種）１０〜７５％、（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）からなる基礎ガラス１００質量部に対して、外割で、Ｖ_２Ｏ_５を０．０２〜０．５質量部となるように添加し、かつＶに対して酸化剤として作用する化合物成分０．１〜１０質量部を加えて溶融する。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子の視感度補正に用いられるフィルタガラスにおいて、レンズ系の近紫外線色収差に起因する輪郭ぼけなどの撮影画像の乱れを低減することのできる視感度補正フィルタガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 ＣｕＯを含有し、質量%で、Ｐ_２Ｏ_５１０〜６０％、ＡｌＦ_３０〜２０％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋのうち少なくとも１種）１〜３０％、Ｒ´Ｆ_２（Ｒ´はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１種）１０〜７５％、（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）からなる基礎ガラス１００質量部に対して、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＷＯ_３及びＣｅＯ_２からなる群から選ばれる少なくとも１種を所定量含有させた。 （もっと読む）

本発明は、ストロンチウム及び二酸化珪素を具える生物活性バラス、このガラスの製造方法、及び、医療における前記生物活性ガラスの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での比誘電率が６〜１０である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル％で、ＳｉＯ_２ ２３〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ ３０〜５０％、ＣａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜４％、ＺｎＯ ２〜１２％、等からなり、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、ＳｉＯ_２ ３６〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ ２０〜４５％、ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が１５×１０^−７／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス中にフッ素雲母結晶が分散した快削性ガラスセラミックスにおいて、フッ素雲母結晶の成長を制御し、切削性、機械的強度を改善する。
【解決手段】フッ素以外は酸化物換算に基づく質量％で、ＳｉＯ_２：３５〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜２０％、ＭｇＯ：１０〜３５％、Ｋ_２Ｏ：５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３：２〜１０％、ＺｒＯ_２：０〜１０％およびＦ：１〜１５％の組成をなすように調整された原料配合物から得られたガラス体を、不活性ガスまたは不活性ガスと酸素との混合ガスを圧力媒体とする熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）法により結晶化熱処理する。ＨＩＰ処理は５０ＭＰａ以上で６５０〜８５０℃の温度の第１段(結晶核生成)と、８０ＭＰａ以上で９００〜１１００℃の第２段(結晶成長)とで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】フッ化物結晶を含有し、Ｅｕ^２＋を含有することを特徴とするガラスセラミックス。 該ガラスセラミックスは原ガラスの原料として少なくともＡｌＦ_３を用い、該原料を還元剤を添加しておよび／または還元雰囲気で溶融した後、原ガラスを成形し、該原ガラスを熱処理することにより結晶を析出させることによって作製される。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３少なくとも３５重量パーセント及び３マイクロメートル未満の平均セルサイズを有する複数のセルを含むセラミック材料及び物品。
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直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】多層ＬＴＣＣ回路の製造に適用するのに適したガラス、ペーストおよびテープの組成物を提供すること。
【解決手段】モル％ベースで、４６〜５６％のＢ_２Ｏ_３、０．５〜８．５％のＰ_２Ｏ_５、ＳｉＯ_２およびそれらの混合物、２０〜５０％のＣａＯ、２〜１５％のＬｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類元素およびそれらの混合物からなる群から選択される）、０〜６％のＭ’_２Ｏ（Ｍ’はアルカリ元素からなる群から選択される）ならびに０〜１０％のＡｌ_２Ｏ_３からなるガラス組成物であって、但し、その組成物は水系で粉砕可能である。 （もっと読む）

【課題】実質的にアルカリ金属を含まない高膨張性の結晶化ガラス形成用の、９００℃以下で焼成することにより金属とセラミックスを封着することができる粉末組成物を提供することを。
【解決手段】実質的にアルカリ金属を含まず、酸化物換算で、
ＳｉＯ₂・・・１０〜３０質量％、Ｂ₂Ｏ₃・・・２０〜３０質量％、ＣａＯ・・・１０〜４０質量％、ＭｇＯ・・・１５〜４０質量％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ・・・０〜１０質量％、Ｌａ₂Ｏ₃０〜５質量％、Ａｌ₂Ｏ₃・・・０〜５質量％、及びＲＯ₂・・・０〜３質量％（ここに、Ｒは、Ｚｒ、Ｔｉ、又はＳｎを表す。）を含有するガラス粉末より構成される粉末組成物であって、９００±５０℃の温度でこれを焼成することにより形成される結晶化ガラスの５０〜５５０℃における熱膨張係数が９０〜１２０×１０^-7／℃である、封着用結晶化ガラス形成用粉末組成物。 （もっと読む）

【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での比誘電率が６〜１０である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル％で、ＳｉＯ_２ ２３〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ ３０〜５０％、ＣａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜４％、ＺｎＯ ２〜１２％、等からなり、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、ＳｉＯ_２ ３６〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ ２０〜４５％、ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が１５×１０^−７／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】より高いアッベ数を有し、かつ、より成形性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、Ａｌ₂Ｏ₃の含有率が８ｗｔ％以上１２ｗｔ％以下であり、ＢａＯの含有率が０ｗｔ％以上６ｗｔ％以下であり、Ｐ₂Ｏ₅の含有率が３５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下であり、ＡｌＦ₃とＢａＦ₂とＳｒＦ₂とＣａＦ₂とＭｇＦ₂との合計の含有率が２５ｗｔ％以上３３ｗｔ％以下であり、ＬｉＦとＮａＦとＫＦとの合計の含有率が１２ｗｔ％以上２６ｗｔ％以下であり、Ｌｉ₂Ｏの含有率が０．３ｗｔ％以上２．０ｗｔ％以下であるように構成されたものである。これにより、より高いアッベ数を確保すると共に低融点化を図ることができる。 （もっと読む）