【課題】半導体撮像素子を搭載する小型撮像装置に好適な、レンズとしての光学的機能を有し、かつ色感度補正を可能にする近赤外光吸収性を有するレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスを精密プレス成形してなるレンズ。特に、中心軸部分における厚みをｔ₀［ｍｍ］、前記ガラス中のＣｕ²⁺の含有量をＭ_Cu［カチオニック％］としたときに、Ｍ_Cu×ｔ₀が０．９〜１．６カチオニック％・ｍｍの範囲にあるレンズ。Ｃｕ²⁺を含むフツリン酸塩ガラスからなるガラスプリフォームを精密プレス成形することを含む、このレンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】長手方向を揃えて複数本積み重ねたときに、同時に高精度にスライス加工することが可能な円柱形状を有する結晶化ガラス体、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体から結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、該結晶化ガラス基板ブランクから磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板から磁気ディスクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体を加熱処理して得られる、長さＬ［ｍｍ］、外径公差 ±０．２ｍｍ以下、真直度 ５×１０^−５×Ｌ［ｍｍ］以下の円柱形状を有することを特徴とする結晶化ガラス体であり、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体をスライスして結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、上記結晶化ガラス基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および上記磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】 近赤外光吸収機能を有する高性能なガラス製光学素子の実現を可能にする近赤外光吸収ガラス材ロットを提供する。
【解決手段】 銅を含有する近赤外光吸収ガラス素材からなる近赤外光吸収ガラス材ロットにおいて、波長５４６．０７ｎｍにおける屈折率（ｎ_ｅ）の公差が±０．００１未満のガラス材によって構成されている近赤外光吸収ガラス材ロットである。 （もっと読む）

【課題】 結晶化ガラス体の母材であるガラス成形体を安定して製造することができ、該ガラス成形体から、結晶化ガラス体、磁気ディスク基板ブランク、磁気ディスク基板および磁気ディスクを好適に作製することができる方法を提供する。
【解決手段】
中心軸が直線状の貫通孔を有する鋳型を、前記中心軸が垂直になるようにまたは水平に対して傾斜するように配置し、前記貫通孔内に熔融ガラスを流し込み、成形して、結晶化ガラス体の母材となる棒状のガラス成形体を得ることを特徴とするガラス成形体の製造方法であり、上記ガラス成形体を熱処理して結晶化ガラス体を製造する方法、上記ガラス成形体または結晶化ガラスをスライスして磁気ディスク基板ブランクを製造する方法、該磁気ディスク基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスを提供する。
【解決手段】 Ｔｂ_２Ｏ_３成分及び／又はＥｕ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準のモル％で、これら成分の少なくとも1種以上の含有量が０．０１〜１５％であり、Ｇａ_２Ｏ_３成分およびＧｅＯ_２成分を含有せず、密度が３．０ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とするガラスまたはシンチレータガラス。さらに好ましくは、上記の構成に加えて酸化物の一部又は全部をフッ化物置換したＦ成分の合計量が、酸化物基準で表わされた成分の合計に対して１〜１００％モル％であるＦ成分を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で、Ｃｅ_２Ｏ_３成分を０．００５〜１５％含有し、Ｇａ_２Ｏ_３成分及びＧｅＯ_２成分を含有せず、密度が３．０ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とするガラスまたはシンチレータガラス。さらに好ましくは、上記の構成に加えて酸化物の一部又は全部をフッ化物置換したＦ成分の合計量が、酸化物基準で表わされた成分の合計に対して１〜１００モル％である、Ｆ成分を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐結晶化特性に優れ、化学的耐久性に優れた特性を有するガラス材料や、このガラス材料を使った光ファイバー及びそれを束ねた光ファイバーアレイまたは光導波路を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される組成であることを特徴とするガラス。
aRO・bP₂O₅・cB₂O₃・・・（１）
ここで、RはMg，Ca，Sr，Ba，Mn，Ni，Cu，Zn，Cd，Sn，Pbから選ばれる少なくとも１種類の金属元素であり、a、b、cはそれぞれ0.38≦a≦0.55、0.38≦b≦0.55、0.001≦c≦0.20の範囲の数値を示し、かつa＋b＋c＝１を満たす。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜６５％、ＳｉＯ_２ ２〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ５〜４５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ２〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜１５％、から本質的になり、ＺｎＯを含有する場合その含有量が５モル％未満であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

約１．６以上の高い屈折指数（ｎＤ）、スペクトルの近赤外線部分での高透過率、および広範なガラス形成域を有する、レーザー用のドープまたは共ドープされたフルオロリン酸ビスマスガラスの、新しい、改良された組成物が開示される。開示されているガラスシステムＡｌ（ＰＯ３）３‐Ｂａ（ＰＯ３）２‐Ｂｉ（ＰＯ３）３‐ＢａＦ２＋ＲＦｘ＋ドーパントは、ガラスベース組成物の１００パーセント（重量％）を超えて、ＭｎＯおよびその混合物に加え、希土類元素Ｎｄ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｔｂ、Ｈｏ、Ｓｍ、ＥｕおよびＰｒの酸化物およびまたはフッ化物の群からのドーパントを使用する。これらのガラスは、高い化学的耐久性、放射線抵抗、赤外線および青色スペクトルにおけるレーザー使用の効率、ならびに、改良された発光持続時間を有する。 （もっと読む）

【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ＺｒＯ_２ 及びＳｉＯ_２ を主成分とするガラスで構成されており、前記ガラス中の各含有量が、１モルのＳｉＯ_２ に対して、ＺｒＯ_２ ：０．７〜１．３モルである焼結助剤を、前記主成分１００モルに対して１〜７モル（但し１モルと７モルを除く）添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
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【課題】 玄武岩（バサルト）原石に対し、網目状形成体、ガラス修飾体を形成・維持し、バサルト繊維の結晶化及び固着を抑制すること、及びバサルト繊維の耐熱性を従来の７５０℃から８５０〜９００℃まで大幅に向上させ、かつ従来品と比べて大幅な低コスト化を達成する。
【解決手段】 玄武岩を原料とし、該玄武岩にＡｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＣａＯ、ＭｇＯから選択される酸化物の１種以上を添加したバサルト繊維材料、及び、含有する元素量の異なる２種の玄武岩を原料としたバサルト繊維材料。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１５〜４０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を１０〜７０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を５％以上かつ２５％未満、ＲＯ＋Ｒｎ_２Ｏを５〜６０％（ＲはＺｎ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇからなる群より選択される１種以上を示す。また、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上を示す。）の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点（Ｔｇ）が５２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が５５０ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．８５以上で、アッベ数（ν_ｄ）が１０〜３０の範囲であり、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２を３〜６０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を２５〜８０％、ＲＯ＋Ｒｎ_２Ｏを５〜６０％（ＲはＺｎ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇからなる群より選択される１種以上を示す。また、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上を示す。）の範囲で各成分を含有し、可視域での透明性が高く、転移点（Ｔｇ）が４８０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。波長が６００ｎｍで１０ｍｍ厚の分光透過率が７０％以上であること特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 本発明は実質的に鉛を含まず、かつ各種部材の接合、封着に使用することができる封着部の気密性を向上させるプレスフリットを提供することを目的としている。
【解決手段】 実質的に鉛成分を含有せず、酸化ビスマスを主成分とするガラス粉末を含有するフリット、有機バインダーおよび溶剤とを混練する造粒工程と、造粒したものを乾燥して前記溶剤を取り除く乾燥工程と、この乾燥工程により得られたものを篩分けし 顆粒状粉末を得る篩分け工程と、前記顆粒状粉末をプレスし成型体を得るプレス成型工程と、前記成型体から前記有機バインダーを除去する加熱処理工程と、この加熱処理工程後前記成型体を前記ガラス粉末の軟化点付近まで加熱する焼結工程とを備えることを特徴とする充填率６７％以上のプレスフリットの製造方法。
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【課題】 低融点無鉛のガラス組成物であって、PDP等のFPDの背面基板に形成される誘電体層及び隔壁の形成素材として有用なガラス組成物を提供する。
【解決手段】 無鉛低融点ガラス組成物であって、その組成が重量％で、P₂O₅ 5%以上〜20％未満、Al₂O₃5〜15％、B₂O₃ 15〜25％、SiO₂ 0〜10％、ZnO 10〜40％、MgO、CaO、SrO及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜40％、Li₂O、Na₂O及びK₂Oからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜5％、F₂ 0〜3％、La₂O₃0〜5%及びV₂O₅ 0〜5%であることを特徴とするP₂O₅-ZnO-B₂O₃系低融点ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】チタン含有ガラス基材の表面形状を制御する。
【解決手段】チタン含有ガラス基材の表面に設定された加工対象面に、１パルス当たりの照射エネルギが、チタン含有ガラス基材表面がアブレーションまたは蒸発可能な値から２Ｊ／ｃｍ^２の範囲、１パルス当たりの照射時間が１〜１００ｎｓｅｃ、パルス数が１〜１００００のレーザ光を照射して、加工対象面にレーザ光の照射部分に形成される照射形状と異なる微細構造を形成させることにより表面微細加工チタン含有ガラス基材を製造する。 （もっと読む）

ＳｉＯ_２，Ｂ_２Ｏ_３，Ｎａ_２Ｏ，Ｋ_２Ｏ，ＭｇＯ，Ａｌ_２Ｏ_３からなり、部分結晶を含み、温度５０℃から１５０℃までの範囲の平均熱膨張係数が１２５×１０^−７Ｋ^−１のガラスは、熱膨張係数が高い。そのため多層膜フィルタ用基板に適用すると、フィルタ特性の温度変動が十分に小さくなる。
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黄色着色問題を解決したディスプレイ基板用ガラスの提供を目的とする。Ｔｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｙ、Ｎｂ、Ｌａ、ＣｅおよびＷからなる群から選ばれた少なくとも１種以上を、酸化物換算にして０．１〜１０質量％含有するディスプレイ基板用ガラス板。
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【課題】電界印加による帯電が発生しにくく、また破壊靭性が高く欠けやクラックが発生しにくいフィールドエミッションディスプレイ用結晶化ガラススペーサーの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスに、水素中または水素および窒素混合雰囲気中で６００〜９００℃で還元結晶化熱処理を施すことにより、モル百分率表示で本質的に、ＳｉＯ_２：２０〜５０％、ＴｉＯ_２：２５〜４５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：２０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１０％、およびＺｒＯ_２：０〜１０％を含有し、主結晶として、Ｂａ_ＸＴｉ_８Ｏ_１６系結晶（Ｘ＝０．８〜１．５）、Ｂａ_２ＴｉＳｉ_２Ｏ_８系結晶およびＴｉＯ_２系結晶のうち少なくとも１つの結晶を含むことを特徴とするＦＥＤ用結晶化ガラススペーサーを提供する。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性に優れ、肉厚０．３ｍｍ程度の薄板でも７００ｎｍにおける吸収特性が良好で、なおかつ耐熱衝撃性が高く薄肉への加工が容易なフィルタガラスを供給すること。
【解決手段】 質量％で、Ｐ_２Ｏ_５４６〜７０％、ＭｇＦ_２＋ＣａＦ_２＋ＳｒＦ_２＋ＢａＦ_２１〜５０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ０〜２５％、ＡｌＦ_３０．２〜２０％以下、ただし、Ｆ０．５〜３２％、Ｏ２６〜５４％を含有する基礎ガラス１００重量部に対し、ＣｕＯ７．５〜１６重量部を含有させた。
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