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発光素子及び発光素子用基板材料
【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率(nEL)から前記基板層の屈折率(nsub)を減じた数(Δn)が0.2以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。
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磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を25.0%以上55.0%以下、Ln2O3成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb2O5成分を0%超25.0%以下含有し、ZrO2成分の含有量が10.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。
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磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性の高い光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を25.0%以上55.0%以下、Ln2O3成分を6.0%以上30.0%以下(式中、LnはLa、Gd、Y、Ybからなる群より選択される1種以上)、及びNb2O5成分を0より多く25.0%以下含有し、ZrO2成分の含有量が15.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)を満たし、νd>31の範囲で(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)を満たす。
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ガラスおよび化学強化ガラス
【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を50〜75%、Al2O3を1〜15%、Na2Oを6〜21%、K2Oを0〜15%、MgOを0〜15%、CaOを0〜20%、ΣRO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn)を0〜21%、ZrO2を0〜5%、Fe2O3を1.5〜6%、Co3O4を0.1〜1%含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
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圧粉磁心及びその製造方法
【課題】 特に、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能な圧粉磁心及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 軟磁性粉末5及び絶縁性結着材6を有する混合物を圧縮成形し、熱処理して得られる圧粉磁心であって、前記絶縁性結着材6は、バインダー樹脂と、ガラスとを有してなり、前記ガラスのガラス転移温度(Tg)は前記熱処理の温度よりも低いことを特徴とするものである。本発明の圧粉磁心及びその製造方法によれば、初透磁率の熱安定性を向上させることが可能になる。また、絶縁性結着材にガラスのみならず軟磁性粉末よりも粒径の小さい磁性微粒子を添加することで、初透磁率(初期)を高めることができ、また初透磁率のみならず鉄損の熱安定性を向上させることができる。
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光学ガラス
【課題】中屈折率(屈折率1.58以上)、低分散(アッベ数47以上)、低屈伏点で、成形時の耐失透性が改善され、且つレアアース含有量を抑制した、精密モールドプレス成形等のモールド成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】B2O3:20.0〜40.0重量%、SiO2:1.0〜10.0重量%、Al2O3:0.1〜8.0重量%、R12O:3.0〜15.0重量%、R2O:10.0〜40.0重量%、ZnO:10.0〜40.0重量%、WO3:1.0〜15.0重量%、Ln2O3:12.0重量%以下含有する光学ガラスである。ただし、R1はLi、Na、Kの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示し、R2はMg、Ca、Sr、Baの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示し、LnはY、La、Gdの中から選ばれる1種若しくは2種以上の元素を示すものとする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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ガラス基板の製造方法
【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ZrO2含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Zr源として、P2O5含有量が0.4質量%以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。
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近赤外線カットフィルタガラス
【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン%表示で、P5+ 25〜37%、Al3+ 16.2〜25%、 R+ 0.5〜40%(ただし、R+は、Li+、Na+、及びK+の合量を表す)、R2+ 0.5〜45%(ただし、R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、及びZn2+の合量を表す)、Cu2+ 2〜10%、Sb3+ 0〜1%を含有すると共に、アニオン%表示で、O2− 30〜85%、F− 15〜70%、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く20.0%以下、La2O3成分を0%より多く15.0%以下、及びNb2O5成分を0より多く19.5%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)及び部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を20.0%以上60.0%以下、CaO成分を20.0%より多く50.0%以下含有し、BaO成分及びK2O成分を合計で0%より多く20.0%以下含有し、Nb2O5成分の含有量が30.0%以下であり、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(νd)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La2O3成分を0%より多く15.0%以下、及びNb2O5成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。
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ガラス基板の製造方法
【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。
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結晶化ガラス物品及びその製造方法
【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品10は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向けて針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体11と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体12と、を備え、第一焼結体11が、第二焼結体12の一の面の一部に融着一体化されてなる。
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白色結晶化ガラス物品及びその製造方法
【課題】Fe2O3の含有量を制限することなく、安定した白色度を示すことができる白色結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のガラス小領域1bが互いに融着しており、ガラス小領域1b間の界面3から内部に向けて主結晶として針状結晶4が析出している結晶化ガラスにより構成されている白色結晶化ガラス物品であって、白色着色剤2が0.3〜2質量%の範囲で含有されていることを特徴としている。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を60.0%以下、及び、Ta2O5成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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ガラス基板の製造方法及びガラス基板
【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす100μm以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が10〜200μmのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、(徐冷点+200℃)〜(徐冷点+50℃)の温度範囲における平均冷却速度を300〜2500℃/分の範囲に調節することを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜21%、B2O3 6.5〜30%、ZnO 0〜15.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 36.6〜65%、Gd2O3 0〜16%、Ta2O5 1〜18%、Nb2O5 0〜8%未満、WO3 0.1〜25%、Li2O 0.1〜5%を含有し、屈折率が1.86以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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