【課題】ガラスまたは結晶質材料における、ナトリウムおよび他の金属による汚染を減少させることが可能な、ガラスまたは結晶質材料を高温で処理する方法を提供する。
【解決手段】約３００ｐｐｍ未満の、表面領域における処理前の初期ナトリウム濃度［Ｎａ］（処理前）を有するガラスまたは結晶質材料を高温で処理する方法を提供する。材料を、Ｆ₂、Ｃｌ₂、Ｂｒ₂、ハロゲン含有化合物、およびそれらの相溶性混合物からなる群より選択される洗浄ガスを含む浄化雰囲気内で処理する。雰囲気を、熱処理の終わりに、処理された材料の表面領域において、処理後のナトリウム濃度［Ｎａ］（処理後）が、５［Ｎａ］（処理前）以下となるような純度を有するように維持する。 （もっと読む）

【課題】放射線の少ないガラスに求められる要件を高度に満たすガラス組成を提供することである。
【解決手段】本発明は、特に半導体テクノロジーにおける、放射線に敏感なセンサのための放射線の少ないカバーガラスに関するもので、α自己放射が少なく、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸塩ガラス、特に無アルカリのホウケイ酸塩ガラスから選ばれ、ＴｉＯ_２含有量が０．１重量％超１０重量％以下の範囲、特に１−８重量％の範囲であるガラス組成である。 （もっと読む）

【課題】大量生産可能な、かつ結晶成長温度の低く製造コストが低く、建築材料に適用するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＭｇＯ−Ｋ₂Ｏ−Ｆ系結晶化ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０．０〜６５．０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０．０〜２５．０％、ＭｇＯ ６．０〜１５．０％、Ｌｉ₂Ｏ ２．５〜４．０％、Ｎａ₂Ｏ ０．５〜４．０％、Ｋ₂Ｏ ２．１〜７．５％、Ｆ １．２〜４．８％、ＴｉＯ₂ ０．１〜４．０％、ＺｒＯ₂ ０．１〜４．０％、Ｐ₂Ｏ₅ ０．５〜３．０％、ＢａＯ ０〜３．０％、Ａｓ₂Ｏ₃ ０．４〜１．５％、Ｒｂ₂Ｏ ０．３〜１．６％、Ｃｓ₂Ｏ ０．０３〜０．４％、ＭｎＯ₂ ０．０６〜０．７％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０３〜０．３％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜１．５％の組成を有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＭｇＯ−Ｋ₂Ｏ−Ｆ系結晶化である。 （もっと読む）

【課題】ソラリゼーションや白金シワの発生を抑制することができる光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】排気管２１６から本溶解装置２００内の空間における気体が排気されることによって、本溶解装置２００内の容積、具体的には、溶融炉２０２の容積を基準として、本溶解装置２００内の気体の置換を２〜２０回／分となるように行う（本溶解工程）。具体的には、図示しない減圧装置を使用して、本溶解溶融ガラスＤの上方の空間の圧力を０．１ｋＰａから１００．０ｋＰａとさせることにより、本溶解溶融ガラスＤの上方の空間にある気体を、ダクト２１０から排出させることにより、本溶解装置２００内の気体の置換を行う。 （もっと読む）

【課題】良好な表面状態の誘電体層を安定して形成することが可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス粉末の作製工程、及びペーストの作製工程を含むプラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストの製造方法であって、ペースト作製工程における湿度を６０％以下に管理することを特徴とする。 （もっと読む）

目下記載されたのは、（例えばポリマーの）バインダ内に部分的に埋め込まれる透明なミクロスフェアを含む舗装道路路面マーカー等の再帰反射物品である。また、記載されたのは、（例えば、ガラス−セラミック）ミクロスフェア、ミクロスフェアを作製する方法、並びにガラス材料の組成物およびガラス−セラミック材料の組成物である。一般に、ミクロスフェアは、ランタニド系列酸化物（類）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）および所望により酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）を含む。
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【課題】ＰｂＯを含有しなくても、従来の隔壁形成材料と同等の温度で焼成でき、しかも、アルカリ金属酸化物を含有しても、ドライフィルムレジスト膜の剥離性の低下を抑え、サンドブラスト法で形成可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料及びガラス組成物を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料は、ガラス粉末とセラミック粉末を含むプラズマディスプレイパネル用隔壁形成材料において、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含有せず、モル百分率でＺｎＯ ３５〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １５〜４０％、ＳｉＯ₂ １〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜８％、Ｎａ₂Ｏ ０．０２〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０．０１〜５％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ３〜１０％、Ｂ₂Ｏ₃／（Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ） ２．５〜８．０、Ｋ₂Ｏ／Ｎａ₂Ｏ＜０．５０の組成を含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低放射性のガラスを製造する方法であって、可能な限り少数の方法ステップしか有しておらず、かつ従来技術に記載された方法よりも著しく少ない手間及び費用しか必要としない方法を提供する。
【解決手段】放射線感受性のセンサ、特に半導体テクノロジーにおける放射性感受性のセンサのための、僅かなα固有放射しか伴わない低放射性のカバーガラスを、中間形状を形成することなく、平面ガラスとして直接的に形状付与することによって製造する方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】耐ソラリゼーション性に優れたＳｉＯ_２系及び／又はＢ_２Ｏ_３系の光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、下記の成分を含有する光学ガラス。
ＳｉＯ_２：３０〜７０％及び／又はＢ_２Ｏ_３：３〜２０％及び／又はＰｂＯ：０〜２％及び／又はＡｌ_２Ｏ_３：０〜６％及び／又はＬｉ_２Ｏ：０〜５％及び／又はＣａＯ：０〜２％及び／又はＴｉＯ_２：０〜０．５％及び／又はＡｓ_２Ｏ_３：０〜１％及び／又はＳｂ_２Ｏ_３：０〜１％及び／又はＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：１０〜４５％および上記酸化物の一部又は全部を置換したフッ化物のＦの合計量が０〜１１％ （もっと読む）

耐火物を被覆したガラス溶融装置において高強度ガラス繊維を形成する方法が開示される。耐火物を被覆した溶融装置は、高弾性率、及び高強度ガラスを形成するために開示されているバッチ組成物に適する。本発明の方法において使用するガラスの組成は、約７０．５質量％以下のSiO₂、約２４．５質量％以下のAl₂O₃、約２２質量％以下のアルカリ土類金属の酸化物であり、少量のアルカリ金属の酸化物及びZrO₂を含みうる。酸化物を基剤とする耐火物には、アルミナ、酸化クロム、シリカ、アルミナ-シリカ、ジルコン、ジルコニア-アルミナ-シリカ及びそれらの組合せが含まれる。酸化物を基剤とする耐火物を被覆した炉を使用することにより、ガラス繊維の製造費用が、白金を被覆した溶融炉を用いる繊維の費用と比べて実質的に低下する。本発明により形成される繊維もまた開示される。
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高弾性率、及び高強度ガラス繊維を形成するためのガラスバッチ組成物並びに繊維製品及び強化材として使用するのに適する繊維が開示されている。組成物から形成される繊維は、風車の羽根のような高強度、低質量の用途及び、複合材料において強度及び剛性が必要とされる高強度及び弾性率の用途に使用するのに特に適する。ガラスの組成は、約７０．５質量％以下のSiO₂、約２４．５質量％以下のAl₂O₃、約２２質量％以下のアルカリ土類金属の酸化物であり、少量のアルカリ金属の酸化物及びZrO₂を含みうる。風車の羽根のような繊維ガラス強化複合材料製品も開示されている。 （もっと読む）

【課題】低転移温度と共に屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有の環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ち Ｂｉ_２Ｏ_３を５５〜７０、ＧｅＯ_２を１３〜２１、ＳｉＯ_２を０〜９、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１０、Ｌｉ_２Ｏを０〜５、 Ｎａ_２Ｏを０〜５、Ｋ_２Ｏを０〜５、Ｃｓ_２Ｏを０〜６、ＭｇＯを０〜１０、ＣａＯを０〜１０、ＳｒＯを０〜１０、ＢａＯを０〜１０、ＺｎＯを０〜１０、ＴｉＯ_２を０〜５、Ｌａ_２Ｏ_３を０〜７、Ｗｏ_３を０〜６、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜６、Σアルカリ酸化物を０〜５、Σアルカリ土類酸化物を０〜１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）を０〜８、通常の清澄剤を０〜２を含んで成り、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数が大きく、開気孔率の低いガラスセラミックス焼結体、およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】クォーツ結晶とＣｅＯ_２結晶とガラス相とを主成分とする焼結体からなり、前記主成分が前記クォーツ結晶を４０〜６５質量％および前記ＣｅＯ_２結晶を１〜１０質量％含有し、残部を前記ガラス相が占めることを特徴とし、特に、前記主成分の組成割合がＳｉをＳｉＯ_２換算で５０〜７０質量％、ＢａをＢａＯ換算で１５〜３５質量％、ＣｅをＣｅＯ_２換算で１〜１０質量％、ＢをＢ_２Ｏ_３換算で１〜８質量％、ＡｌをＡｌ_２Ｏ_３換算で１〜８質量％およびＣａをＣａＯ換算で１〜８質量％であることを特徴とするガラスセラミック焼結体。
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【課題】ステップカバレッジが良く、高温、高圧に耐えられるグリーンシートを基板に転写して誘電体層を形成することによって工程時間を短縮し、且つ性能に優れた誘電体層を提供する。
【解決手段】本発明は、誘電体層用ペースト組成物、グリーンシート及びプラズマディスプレイパネルの誘電体層製造方法に関するものである。そのプラズマディスプレイパネルの誘電体層製造方法は、支持フィルム上にＰｂＯ系ガラス粉末、結合樹脂、分散剤、可塑剤及び溶剤を含むペースト組成物を塗布して形成された膜形成材料層を有するグリーンシートを形成する第１段階と、グリーンシートの膜形成材料層を電極が形成された基板上に転写する第２段階と、基板上に転写した膜形成材料層を焼成する第３段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄に対して優れた耐性を有し、低分散特性を示す光学素子のための光学ガラス、前記光学素子とその製法、前記光学素子を作るためのガラスプリフォームとその製法を提供する。
【解決手段】５モル%以上のP₂O₅を含み、アッベ数（νd）が５８以上、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５７０℃以下、表面を光学研磨して50℃、0.01モル／リットルのNaOH水溶液に浸漬したときの質量減少量が17μg/（cm²・時）以下の耐アルカリ性を有する光学ガラス。流出パイプから流出する熔融ガラス流から所要質量の熔融ガラスを分離するか、熔融ガラスを流出、成形してガラス成形体を作製し、前記ガラス成形体を機械加工して、上記光学ガラスよりなる精密プレス成形用プリフォームを作製する方法。上記光学ガラスよりなる光学素子。プリフォームを加熱し、プレス成形型を用いて精密プレス成形する光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＰｂＯを含有せずＢｉ_２Ｏ_３を含有する電極被覆用ガラスであって銀電極を被覆したときに銀発色等を抑制できるガラスの提供。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有しＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラスであって、ＣｅＯ_２およびＭｎＯ_２を含有する電極被覆用ガラス。モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜６０％、ＳｉＯ_２ ０〜１８％、ＺｎＯ ０〜６０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ７〜１８％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜０．２％、ＭｎＯ_２ ０．０５〜０．２％、から本質的になりＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。 （もっと読む）

開示には約３００ｎｍより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるＯＤドープ合成石英ガラスが含まれる。ＯＤドープ合成石英ガラスはＯＨ濃度が同程度の無ＯＤドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ＯＤドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約１９３ｎｍにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 （もっと読む）

【課題】 光学機器の小型、高性能化に対応可能な高屈折率を有し、カラーバランスの補正が可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分としてＴｉＯ_２を含むホウ酸塩系の組成を有する光学ガラスにおいて、添加剤の種類と量の制御または熱処理により、厚さ１０．０ｍｍにおける外部透過率が７０％となる波長をλ７０［ｎｍ］とした場合、下記（１）式
λ７０≦９０９×（ｎｄ）^２−３００９×ｎｄ＋２８４２ …（１）
の関係を満たす透過率特性を有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】高透過であって低コストで量産できる導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】シリカを主成分とし、着色成分として、重量％で表示して、０．０２〜０．０６％（０．０６％を含まず）のＦｅ₂Ｏ₃に換算した全酸化鉄（Ｔ−Ｆｅ₂Ｏ₃）、０．０２４％より少ないＦｅＯ、および０〜０．５％のＣｅＯを含有し、０．０２〜０．２％（０．２％を含まず）のＴｉＯ₂を含有し、且つＦｅ₂Ｏ₃に換算したＦｅＯのＴ−Ｆｅ₂Ｏ₃に対する割合が４０％未満である組成からなり、３．２ｍｍの厚みにおいて、日射透過率が８７．５％以上、Ｃ光源を用いて測定した可視光透過率が９０％以上であるガラス板が、互いに平行な一対の主表面を有し、主表面の一方に３層構造の透明導電膜が形成され、主表面の他方に反射抑制膜が形成されており、反射抑制膜が急冷工程を含む方法により形成され、ガラス板が前記急冷工程により強化されている導電膜付きガラス板とする。 （もっと読む）

本発明は、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ、ＲｈおよびＲｕからなる群から選ばれた一種類の貴金属およびそれらの混合物が添加されて、還元性雰囲気に曝すことなしに銀イオンを核化しかつ析出させた銀含有アルミノ硼珪酸偏光ガラス組成物に関する。本発明はさらに、本発明のガラス組成物を作成する方法に関する。本発明の組成物および方法を用いて、選択されたヌル透過率域を有するガラスを調製することができる。
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