Fターム[4G062FG01]の内容
Fターム[4G062FG01]に分類される特許
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石英ガラスの製造方法
【課題】 高純度でシラノール基含量の極めて少ない合成石英ガラスを、効率よく得ることのできる石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカを加熱し、第1加熱段階として150℃〜400℃の温度範囲に3時間以上保持した後、第2加熱段階として1100℃〜1300℃の温度範囲に1時間以上保持する。
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