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Fターム[4G062FG03]に分類される特許
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屈折率分布型光学素子の製造方法
本発明は、特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、ガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、銅化合物、有機樹脂及び有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
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高歪み点ガラス
高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、SiO2−Al2O3−P2O5三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成:55〜80%のSiO2、12〜30%のAl2O3、および2〜15%のP2O5を有する。
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アルミニウムケイリン酸塩ガラス
高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するP2O5−SiO2−Al2O3三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成:33〜75%のP2O5、2〜52%のSiO2、8〜35%のAl2O3を有する。
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Al2O3と、REOと、ZrO2および/またはHfO2と、Nb2O5および/またはTa2O5とを含むセラミックスおよびガラス、および/またはそれらを製造するための方法
(i)Nb2O5またはTa2O5の少なくとも1種と、(ii)(a)Al2O3、(b)REO、または(c)ZrO2もしくはHfO2の少なくとも1種の内の少なくとも2種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品(たとえば、平板)、繊維、粒子(たとえば、研磨粒子)、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体
化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層13を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面11及び下面12に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 (もっと読む)
Al2O3と、Y2O3と、ZrO2および/またはHfO2と、Nb2O5および/またはTa2O5とを含むセラミックス、ならびにそれらを製造するための方法
(i)Nb2O5またはTa2O5の少なくとも1種と、(ii)(a)Al2O3、(b)Y2O3、または(c)ZrO2もしくはHfO2の少なくとも1種の内の少なくとも2種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品(たとえば、平板)、繊維、粒子(たとえば、研磨粒子)、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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Al2O3と、REOと、ZrO2および/またはHfO2と、Nb2O5および/またはTa2O5とを含むセラミックスの製造方法
Al2O3と、REOと、ZrO2またはHfO2の少なくとも1種と、Nb2O5またはTa2O5の少なくとも1種とを含む、ガラス−セラミックスを製造するための方法である。本発明によるガラス−セラミックスは、ガラスビーズ、物品(たとえば、平板)、繊維、粒子、および薄層コーティングに、製造し、形成させ、または変換させることができる。本発明によるガラス−セラミック粒子のいくつかの実施態様は、研磨粒子として特に有用である。
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