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ガラス基板
【課題】本発明の目的は、熱アシスト記録方式の記録媒体において情報のエラー発生率を低下させ、かつ磁気ヘッドの破損を抑制するガラス基板を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス基板は、酸化物基準の質量%表示で、SiO2:58〜68%、Al2O3:0〜5%、B2O3:0〜2%(ただしSiO2+Al2O3+B2O3=58〜68%)、Na2O:1〜6%、K2O:7〜15%(ただしNa2O+K2O=8〜21%)、MgO:2〜7%、CaO:7〜15%、BaO:0〜5%、SrO:0〜5%、ZnO:0〜5%(ただしMgO+CaO+BaO+SrO+ZnO=9〜22%)、ZrO2:6〜12%となる組成を有し、かつLi2Oを含まないことを特徴とする。
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光学ガラス、光学素子およびガラス成形体の製造方法
【課題】多量のTa2O5及びNb2O5を含有させなくとも、屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら透過率の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、La2O3成分を10.0〜40.0%、B2O3成分を10.0〜40.0%、SiO2成分を0〜15.0%、Nb2O5成分を0〜20.0%、TiO2成分を0〜10.0%含有し、1.75〜1.95の屈折率(nd)を有し、30〜40のアッベ数(νd)を有する光学ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜71%、Al2O3 8.5〜21%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜15%、Cl 0.001〜3%を含有することを特徴とする。
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光学ガラスならびに、モールドプレス成形用プリフォームおよび光学素子
【課題】低分散性の光学ガラスにおいて、ガラス転移温度(Tg)や屈伏点(At)を低下および、耐候性や成形性が向上した光学ガラスを、かかる光学ガラスを素材としたモールドプレス成形用プリフォームおよび光学素子と共に提案することを目的とする。
【解決手段】P2O5:38〜56質量%およびB2O3:0〜10質量%を、(P2O5+B2O3):38〜56質量%の範囲で含有し、Li2O:3超〜8質量%、Na2O:0〜3質量%およびK2O:0〜3質量%を、(Li2O+Na2O+K2O):3超〜8質量%の範囲で含有し、MgO:0〜4質量%、CaO:0〜4質量%、SrO:0〜17質量%およびBaO:21〜42質量%を、(MgO+CaO):0〜4質量%の範囲でかつ、(MgO+CaO+SrO+BaO):35〜53質量%の範囲で含有し、さらに、Al2O3:0〜6質量%、Gd2O3:0〜5質量%を含有する組成からなることを特徴とする。
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ガラスセラミックス、その製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式AmB2(XO4)3(式中、第一元素AはLi、Na、K、Cu、Ag、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種以上とし、第二元素BはZn、Al、Fe、Ti、Sn、Zr、Hf、V、Nb及びTaからなる群から選択される1種以上とし、第三元素XはSi、Ge、P、S、Mo及びWからなる群から選択される1種以上とし、係数mは0以上3以下とする)で表される。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、TiO2成分を5〜50%、SrO成分を2〜50%、SiO2成分を10〜85%を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムSrTiO3結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜35.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%、及びWO3成分を1.0〜25.0%含有し、Li2O成分の含量が5.0%以下である。
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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を20.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、B2O3成分を0%〜40.0%、Nb2O5成分を0%〜20.0%、La2O3成分を0%〜30.0%含有し、TeO2/(P2O5+B2O3)が1.0以上、B2O3+Nb2O5+La2O3が0%より多く60%以下であり、摩耗度が200以上800以下、ヌープ硬度が250以上650以下、粉末法耐水性クラス(RW)が1以上3以下、粉末法耐酸性クラス(RA)が1以上3以下である光学ガラス。
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光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子
【課題】アッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、WO3成分及びTa2O5成分からなる群から選択される1種以上を合計で75.0%未満含有し、0.62以上0.69以下の部分分散比[θg,F]を有し、15以上27以下のアッベ数(νd)を有する。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法
【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ndが1.89以上、アッベ数νdが28〜36であり、組成にB,Zn,La,Si,Gd,Ti,Wを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Y,Yb,Zr,Nb,Ta,Te,Ge,Bi,Alを0〜5%含んでおり、これら成分のカチオン比が、(B3+/(B3++Si4+))が0.70〜0.96、(B3+/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜2.0、((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜3.0、(B3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.8〜4.0、、((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が1.5〜5.0、等となる光学ガラスとする。
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遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
【課題】屈折率が容易に変更可能であるが、他の特性は実質的に損なわれない、ケイ酸リチウムベースのガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックであって、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを提供する。
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ガラスロール及びその製造方法
【課題】
厚み0.5〜300μmの長尺なガラスフィルムを巻き取ってガラスロールを作製した際に、ガラスロールの内層部に位置するガラスフィルムの破損を抑制すること。
【解決手段】
厚みが0.5〜300μmであり、密度が2.45g/cm3未満のガラスフィルム10をロール状に巻き取ることによって、ガラスロール15を作製する。
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ガラスセラミックス、その製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%でZnO成分を10〜70%含有してもよく、さらにSiO2成分、GeO2成分、B2O3成分、及びP2O5成分からなる群より選択される1種以上の成分30〜80%を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法
【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラス、前記光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子と、前記光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】前記光学ガラスは、屈折率ndが1.86以上、アッベ数νdが28〜36、液相温度が1000℃以下であり、カチオン%表示で、
Si4+ 0〜5%
B3+ 25〜45%、
Li+ 0〜20%、
Na+ 0〜5%、
K+ 0〜5%、
Mg2+ 0〜5%、
Ca2+ 0〜5%、
Sr2+ 0〜5%、
Ba2+ 0〜5%、
Zn2+ 5〜40%、
La3+ 5〜25%、
Gd3+ 1〜15%、
Y3+ 0〜5%、
Yb3+ 0〜5%、
Zr4+ 0〜3%、
Ti4+ 1〜15%、
Nb5+ 0〜5%、
Ta5+ 0〜5%、
W6+ 1〜30%、
Te4+ 0〜5%、
Ge4+ 0〜5%、
Bi3+ 0〜5%、
Al3+ 0〜5%、
を含む。以下のカチオン比を有する。(B3+/(B3++Si4+))が0.85〜1.00、(B3+/(La3++Gd3++Y3+))が1.0〜3.0、(B3+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.5〜4.0、(Zn2+/(Zn2++Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+))が0.8〜1.0、((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.3〜2.5、Ti4+/W6+が0.1〜1.5、((Ti4++W6+)(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.8〜1.0。
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ZrO2成分を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。
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隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料
【課題】低膨張のガラス基板上に亀裂や崩れを生じさせることなく高さの高い隔壁を形成することが可能な隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料は、ガラス粉末とフィラー粉末を含む隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であって、質量%で、ガラス粉末が30〜60%、フィラー粉末が40〜70%からなり、ガラス粉末がZnO−B2O3−SiO2系結晶性ガラスからなり、フィラー粉末が球状シリカからなることを特徴とする。
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成形型及びその製造方法、並びに、光学素子及び光学機器の製造方法
【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型10は、成形面211、311を有する型母材21、31と、成形面211、311上に設けられた保護膜23、33と、を備える成形型10であって、保護膜23、33は、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有し、成形型10は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。
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光学ガラス及び分光透過率の劣化抑制方法
【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、P2O5成分、SiO2成分及びB2O3成分からなる群より選択される1種以上を合計で5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。
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ガラスブランクの製造方法、磁気録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法
【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Aに対する鉛直方向の長さBの比B/Aが0.5〜5の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が500〜1050dPa・sの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。
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ガラス板
【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機EL照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が2mm以下であり、且つ屈折率ndが1.55以上の板ガラス。ガラス組成としてBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、ZnO、ZrO↓2を合わせて10〜60%含み、あるいはBaO、Ti↓2O、Nb↓2O↓5、La↓2O↓3、Gd↓2O↓3、WO↓3、Ta↓2O↓5、ZrO↓2を合わせて10〜70%含む。
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