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Fターム[4G062FH02]に分類される特許
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モールドプレス成形用光学ガラス
光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ光学機器の軽量化に寄与しうる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜55.0%、La2O3成分を10.0〜55.0%含有し、F成分をさらに含有し、Gd2O3成分の含有量が25.0%未満である。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】より幅広い温度範囲で、所望の結像特性等の光学特性を得ることができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、カチオン成分としてP5+、Al3+及びMg2+を含有し、アニオン成分としてO2−及びF−を含有するものであり、相対屈折率(589.29nm)の温度係数(20〜40℃)が−6.0×10−6(℃−1)以上である。プリフォーム及び光学素子は、このような光学ガラスからなる。
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3成分ドープのシリカ・チタニアの重要部分を有している、2成分系シリカ・チタニアガラス製品
【課題】従来の火炎加水分解法や、新たなスート押圧法、ゾル・ゲル法などの方法で作製することが困難な、ドープされたシリカ・チタニアガラスを使用した、EUVLの投影光学系の大型部品を提供する。
【解決手段】5℃から35℃の温度範囲に亘ってCTEが0±30ppb/℃以下である材料から成る素子ブランク10が、ドープされたシリカ・チタニアガラスから成る、インサート14を備える。シリカ・チタニアガラスに加えられたドーパントは、酸化アルミニウムと選択された遷移金属酸化物とから成る群から選択されたものであり、また素子ブランク10の材料は、ガラスとガラスセラミックとから成る群から選択される。このインサート14は、フリットを用いて、またはフリットを用いることなく、ブランク10に融合接合される。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高く、より安価である光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量を基準として質量%換算で、B2O3を10.0〜35.0%、La2O3を20.0〜40.0%含有し、結晶析出温度(Tx)とガラス転移温度(Tg)との差分(ΔT)が140℃以上である光学ガラス。酸化物換算組成のガラス全質量を基準として、質量%換算で0〜5%のLi2Oを含有する前記記載の光学ガラス。
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バリウム−フリーのX線不透過性ガラス及びその使用
【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するBaO−フリー及びPbO−フリーのX線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きBaO−フリー及びPbO−フリーであるX線不透過性ガラスは、La2O3とZrO2を付加したSiO2−Al2O3−SrO−R2O系であり、酸化物基準の質量%表示で、SiO2 55〜75%、B2O3 0〜9%、Al2O3 0.5〜4%、Li2O 0〜2%、Na2O 0〜7%、K2O 0〜9%、Cs2O 0〜15%、SrO 4〜17%、CaO 0〜11%、MgO 0〜<3%、ZrO2 1〜<11%、La2O3 1〜10%、SnO2 0〜4%、Li2O+Na2O+K2O 0.5〜12%、SrO+Cs2O+La2O3+SnO2+ZrO2 ≧10%を含有し、1.50〜1.58の屈折率nd及び少なくとも300%のアルミニウム等価厚を有する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi2O3成分を70.0%以上90.0%以下、B2O3成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO2成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78〜2.2、アッベ数(νd)が16〜40未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%でB2O3を25〜60%、TiO2とNb2O5の合計量を2〜45%、WO3を1〜25%含有し、屈折率ndが1.78〜2.2、アッベ数νdが16〜40未満である光学ガラス。さらに、La2O3を5〜35%、ZnOを1〜40%を含有する。また、ガラス転移点(Tg)が700℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜55.0%、La2O3成分を10.0〜55.0%含有し、Al2O3成分及びF成分をさらに含有する。この光学ガラスは、1.57以上の屈折率(nd)と、50以上のアッベ数(νd)とを有する。
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電子デバイスの製造方法
【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。
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半導体素子被覆用ガラス
【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、ZnO 52〜65%、B2O3 5〜20%、SiO2 15〜35%およびAl2O3 3〜6%を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ta2O5 0〜5%、MnO2 0〜5%、Nb2O5 0〜5%、CeO2 0〜3%およびSb2O3を含有することが好ましい。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法
【課題】屈折率ndが1.70以上、アッベ数νdが50以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率ndが1.72以上、アッベ数νdが50以上であって、モル%表示にて、B2O3 40〜75%、SiO2 0%を超え15%以下、Li2O 1〜10%、ZnO 0〜15%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 3〜20%、Y2O3 0%以上1%未満、ZrO2 0〜10%、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%、F 0〜5%を含み、Li2OおよびZnOの合計量が5〜15モル%であり、かつモル比(ZnO/Li2O)が0.4以上2.5以下である光学ガラス。
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結晶性ガラス組成物およびそれを用いた接着材料
【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてMgO系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル%で、La2O3+Nb2O5+Y2O3+Ta2O5+Yb2O3 0.1〜30%を含有し、かつ、R2O(RはLi、NaまたはKを示す)およびP2O5を実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。
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3成分ドープの重要部分を含んだシリカ・チタニアガラスを作製する方法
【課題】Tzcに対する許容値、CTE対温度の傾き、およびTzcの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ25nm未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ200μm以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を4.0〜50.0%、質量比でLa2O3/B2O3が0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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封着材料層付きガラス基板
【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。
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集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子および集光型太陽光発電装置
【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量%で、SiO2 30〜80%、B2O3 0〜40%、Al2O3 0〜20%、Li2O 0.1%以上およびZrO2 0.1%以上を含有することを特徴とするガラス。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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