説明

Fターム[4G062FK01]の内容

ガラス組成物 (224,797) | La (4,489) |  (2,553)

Fターム[4G062FK01]に分類される特許

81 - 100 / 2,553


【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート2の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末1を得る工程と、混合粉末1をロールプレス成形することによりガラス複合シート2を得る成形工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】化学強化用のアルカリおよびアルミニウム高含有ケイ酸塩ガラス組成物の提供。
【解決手段】ガラス組成物は、モル%で、SiO2が64.5-73、Al2O3が6.5-11.5、B2O3が0-2、Na2Oが13-19、K2Oが0.3-1.2、MgOが3.5-7.2、ZnOが0.05-2.5、TiO2が0.05-1、Y2O3が0-0.6、Ga2O3が0-0.4、GeO2が0-1.2、並びに、SnO2、Sb2O3、Cl及びSO3からなる群から選択される少なくとも1の成分であって含有量がSnO2が0-0.15、Sb2O3が0-0.1、Clが0-0.5及びSO3が0-0.3である成分を含む。前記ガラスは、化学強化後、その表面に圧縮応力300MPa以上、厚み40μm以上の圧縮応力層を備え、ディスプレイ製品のスクリーン表面の保護用のガラス材料として用いられうる。 (もっと読む)


【課題】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、耐候性に優れ、かつ、複雑な形状に容易に加工することが可能なガラス、それを用いた集光型太陽光発電装置用光学素子、および、集光型太陽光発電装置を提供する。
【解決手段】集光型太陽光発電装置用光学素子に用いられるガラスであって、質量%で、SiO 30〜80%、B 0〜40%、Al 0〜20%、LiO 0.1%以上およびZrO 0.1%以上を含有することを特徴とするガラス。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等に好適に使用できる新たなリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び散乱中性子を1次中性子やX線から分離して測定することが可能な中性子検出用シンチレーターを提供する。
【解決手段】リチウムガラス材料20Al(PO−80LiFに対してNdF又はErFが添加されたリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター。 (もっと読む)


【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO45〜75%、Al3〜15%、LiO0〜12%、NaO0.3〜20%、KO0〜10%、MgO+CaO1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ベロ法もしくはダンナー法などの慣用の方法によって管引きして、ガラス管を形成でき、これらのガラス管が形状変化(収縮及び屈曲)を受ける傾向と700℃までの更なる加工温度で互いにくっつく傾向が、理想的にはほとんどないガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物を基礎とするモル%で、SiO2 74〜81、B23 8.5〜14.5、Al23 0.5〜3.5、Na2O 1.5〜3.5、K2O 1.0〜2.0、Li2O 0〜1.0、MgO 0.5〜1.5、CaO 0.5〜1.5、BaO 0〜0.6、TiO2 2.0〜3.5、ZrO2 0〜1.0、及び清澄剤として、Sb23 0〜0.15、CeO2 0〜0.5、SnO2 0〜0.5を含み、かつ0.4<Na2O/(Na2O+K2O)≦0.72のモル比を有する、ホウケイ酸ガラスによって解決される。 (もっと読む)


【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(%)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板(特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板)を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のSiOの含有量を、ガラス板の表面から深さ1μmの内部領域に比べて、質量基準で1.03倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】C12A7系酸化物の組成を有し、電子濃度2×1018/cm3以上2.3×1021/cm3以下を包接する、C12A7系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が3.0〜4.1eVであり、上記融液を酸素分圧1Pa以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO 45〜75%、Al 0〜30%、LiO+NaO+KO 0.1〜30%含有し、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、200〜400℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積30,000nm3以上の凹状欠陥がないEUVリソグラフィ用部材、特にEUVリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少
ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B23
:5〜20%,Al23:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,S
rO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5
%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2
+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の
一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 (もっと読む)


【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiOを12%〜45%、Bを10%〜40%、Alを0〜9.0%、LiO、NaO、KOの任意の組合せを総量で1%〜10%、BaO、CaO、MgO、SrO、ZnOの任意の組合せを総量で1%〜40%、Yを0%〜20%、ZrOを0%〜7.0%、及び、Hoを1.0%〜20.0%含有し、波長範囲270〜300nmに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側10nmの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程(1)および(2)を含むガラス板の製造方法に関する。
(1)Alを3モル%以上含有し、LiOおよびNaOの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量ROに対するLiOまたはNaOの含有量のモル比LiO/ROまたはNaO/ROが、0.9以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
(2)工程(1)で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 (もっと読む)


【課題】ガラス表面を粗面化することなく、十分な表面強度を有して、可視域を超える広い範囲でフラットな透過率特性を有する光拡散ガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス中に結晶相を有し、酸化物換算による重量%表示で、SiOを35〜70%、Alを0〜8.0%、Bを15〜35%、NaO、KO、LiOから選択される成分を全体で3〜10%、CaO、Yから選択される成分を全体で6〜20%、及び、Sbを0〜1%、を含有して構成され、厚さ2.0mmの部材で評価して、波長400nm〜2500nmについて全光線平均透過率が5〜50%であり、前記全光線平均透過率に対する透過率偏差の平均値が、400nm〜2500nmの波長領域において4.0%以下である。 (もっと読む)


【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%、TiO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ液相粘度が105.0dPa・s以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】原料を加熱・溶解する原料処理部材を備えた従来の原料溶解炉と比べて、原料処理管内にて原料をより長時間加熱・溶解することを容易とすること。
【解決手段】原料Mを投入する投入口22および原料Mが溶解した溶解物が流出する流出口24を備え、投入口22が流出口24よりも上方に位置するように配置された原料処理部材20と、原料処理部材20内を、投入口22側から流出口24側へと移動する原料Mを加熱する加熱手段と、を少なくとも備え、原料処理部材20内に、原料処理管20内を溶解しながら移動する原料Mを原料処理部材20内に一時的に滞留させる滞留部Sが設けられたことを特徴とする原料溶解炉。 (もっと読む)


【課題】質量分析用途に用いる成形用セラミックスを提供する。
【解決手段】RF部材のオーバーモールドに適した、アルカリ土類金属酸化物、例えばSrOを含むガラスセラミックは、良好なRF応答および良好な機械的強度を提供する。具体的には、SrOは、RFおよび機械的性能を維持しながら、セラミックの流動温度を低下させる。得られるガラス配合物は、10〜50モル%のSrO、5〜30モル%のAlおよび20〜60モル%のBを含有する。 (もっと読む)


【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。 (もっと読む)


81 - 100 / 2,553