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光学ガラス
光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】より幅広い温度範囲で、所望の結像特性等の光学特性を得ることができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、カチオン成分としてP5+、Al3+及びMg2+を含有し、アニオン成分としてO2−及びF−を含有するものであり、相対屈折率(589.29nm)の温度係数(20〜40℃)が−6.0×10−6(℃−1)以上である。プリフォーム及び光学素子は、このような光学ガラスからなる。
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紫外線透過ガラス
【課題】300nm以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2 10%〜40%、B2O3 10%〜40%、Al2O3 2%〜7.0%、Li2O 0〜5%、Na2O 0〜8%、K2O 0〜8.0%(但し、Li2O+Na2O+K2O=0%〜10%)、CaO 0%〜40%、BaO 0%〜40%、ZnO 0〜10%(但し、CaO+BaO+MgO+SrO+ZnO=1%〜40%)、Y2O3 0%〜17%、 ZrO2 0%〜18.0%(但し、Y2O3又はZrO2の一方以上を含む)、Sb2O3 0%〜0.5%を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚2.0mmの試料における250nmの透過率を60%以上とした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi2O3成分を70.0%以上90.0%以下、B2O3成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO2成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。
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バリウム−フリーのX線不透過性ガラス及びその使用
【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するBaO−フリー及びPbO−フリーのX線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きBaO−フリー及びPbO−フリーであるX線不透過性ガラスは、La2O3とZrO2を付加したSiO2−Al2O3−SrO−R2O系であり、酸化物基準の質量%表示で、SiO2 55〜75%、B2O3 0〜9%、Al2O3 0.5〜4%、Li2O 0〜2%、Na2O 0〜7%、K2O 0〜9%、Cs2O 0〜15%、SrO 4〜17%、CaO 0〜11%、MgO 0〜<3%、ZrO2 1〜<11%、La2O3 1〜10%、SnO2 0〜4%、Li2O+Na2O+K2O 0.5〜12%、SrO+Cs2O+La2O3+SnO2+ZrO2 ≧10%を含有し、1.50〜1.58の屈折率nd及び少なくとも300%のアルミニウム等価厚を有する。
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熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法
【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、およびBaOと、任意にSrOとを含むアルカリを含まないガラスであって、このガラスの組成が、
(a)[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.15:1±0.15:1±0.15、および
(b)1.15≦Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al2O3)≦1.55
という関係を満たす。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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熱および化学安定性が高いガラス組成物ならびにその製造方法
【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO2 64.0−72.0
Al2O3 9.0−16.0
B2O3 1.0−5.0
MgO+La2O3 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、
ここで、モルパーセントにおけるBaO/SrO比が、2.0以上であり、
700℃以上のひずみ点を有する。
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78〜2.2、アッベ数(νd)が16〜40未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%でB2O3を25〜60%、TiO2とNb2O5の合計量を2〜45%、WO3を1〜25%含有し、屈折率ndが1.78〜2.2、アッベ数νdが16〜40未満である光学ガラス。さらに、La2O3を5〜35%、ZnOを1〜40%を含有する。また、ガラス転移点(Tg)が700℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。
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高屈折率ガラス
【課題】本発明の技術的課題は、レアメタル酸化物(特にLa2O3、Nb2O5、Gd2O3)の含有量が少ないにもかかわらず、有機発光素子や透明導電膜の屈折率ndに整合し、しかも耐失透性、耐酸性が良好な高屈折率ガラスを創案することである。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 30〜60%、B2O3 0〜15%、Al2O3 0〜15%、Li2O 0〜10%、Na2O 0〜10%、K2O 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO 20〜60%、TiO2 0.0001〜20%、ZrO2 0〜20%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、屈折率ndが1.55〜2.3であることを特徴とする。
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電子レンジ用耐熱ガラスおよび電子レンジ用耐熱ガラスの製造方法
【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量%で、SiO2 75〜85%、Al2O3 0〜5%、B2O3 10〜20%、Li2O 0〜5%、Na2O 1〜10%、K2O 0〜5%の組成を含有し、(Li2O+Na2O+K2O)/(SiO2+B2O3+Al2O3)が0.045〜0.055であり、内部の残留応力が5MPa以下であることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分とF成分を含有し、Ln2O3成分(式中、LnはLa、Gd、Y、Yb、Luからなる群より選択される1種以上)の質量和が50.0%未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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電子デバイスの製造方法
【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。
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結晶性ガラス組成物およびそれを用いた接着材料
【課題】熱処理後に高い熱膨張係数を示すとともに、流動性に優れ、また、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発が発生しにくい結晶性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてMgO系結晶を析出する結晶性ガラス組成物であって、ガラス組成としてモル%で、La2O3+Nb2O5+Y2O3+Ta2O5+Yb2O3 0.1〜30%を含有し、かつ、R2O(RはLi、NaまたはKを示す)およびP2O5を実質的に含有しないことを特徴とする結晶性ガラス組成物。
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光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法、光学素子およびその製造方法
【課題】屈折率ndが1.70以上、アッベ数νdが50以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率ndが1.72以上、アッベ数νdが50以上であって、モル%表示にて、B2O3 40〜75%、SiO2 0%を超え15%以下、Li2O 1〜10%、ZnO 0〜15%、La2O3 5〜22%、Gd2O3 3〜20%、Y2O3 0%以上1%未満、ZrO2 0〜10%、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%、F 0〜5%を含み、Li2OおよびZnOの合計量が5〜15モル%であり、かつモル比(ZnO/Li2O)が0.4以上2.5以下である光学ガラス。
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封着材料層付きガラス基板
【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。
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フツリン酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルター
【課題】近赤外光を吸収しつつも可視光の吸収は抑える程度の量のCu2+を加えること
ができるよう設定されたO2−/P5+比を製造後でも有する、耐候性を備えたフツリン
酸ガラス及びその製造方法並びに近赤外光吸収フィルターを提供する。
【解決手段】Cu2+を含有することにより近赤外光を吸収するフツリン酸ガラスにおい
て、前記フツリン酸ガラスでのP5+含有量に対するO2−含有量のモル比(O2−/P
5+)は3.2以上3.4未満であり、前記フツリン酸ガラスでのO2−及びF−の合計
含有量に対するF−含有量のモル比(F−/(O2−+F−))は0.05以上0.25
以下である。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を4.0〜50.0%、質量比でLa2O3/B2O3が0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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封着材料層付きガラス基板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。
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赤外発光ガラス
【課題】過度に限定的なガラス組成でなくともビスマスによる赤外発光が得られ、且つ溶融法を利用したガラスの製造時に均質性を確保し易く、しかも耐失透性が良好であり、モールドプレス成形に適した赤外発光ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100モル%とし、酸化物組成として、
(1)P2O5:45〜75モル%、
(2)Al2O3:3〜25モル%、
(3)RをMg、Ca、Sr、Ba及びZnからなる群から選択される少なくとも1種とし、RO:5モル%以上30モル%未満、並びに
(4)Bi2O3:0.1〜5モル%、
を含有するガラス組成物からなり、励起光の照射により赤外波長域で蛍光発光することを特徴とする赤外発光ガラス。
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