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Fターム[4G062GA01]の内容

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Fターム[4G062GA01]に分類される特許

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【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン%表示で、P5+ 25〜37%、Al3+ 16.2〜25%、 R 0.5〜40%(ただし、Rは、Li、Na、及びKの合量を表す)、R2+ 0.5〜45%(ただし、R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、及びZn2+の合量を表す)、Cu2+ 2〜10%、Sb3+ 0〜1%を含有すると共に、アニオン%表示で、O2− 30〜85%、F 15〜70%、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 (もっと読む)


【課題】高温成形性に優れ、精密プレス成形に好適なプレス成形予備体を与えることができる高屈折率・低分散特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】必須成分として、B23、La23、Gd23およびZnOを含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83、アッベ数が45〜55、ガラス転移温度が630℃以下および液相温度における粘度が0.6Pa・s以上である光学ガラス、並びにモル%表示で、B23 45〜65%、La23 5〜22%、Gd23 1〜20%(ただし、La23とGd23の合計含有量が14〜30%)、ZnO 5〜30%、SiO2 0〜10%、ZrO2 0〜6.5%およびSb23 0〜1%を含むとともに、鉛およびフッ素を実質上含まず、かつ屈折率が1.72〜1.83およびアッベ数が45〜55の光学ガラスである。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)が所望の範囲内にありながら、アッベ数(ν)が小さく、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を10.0%以上60.0%以下、BaO成分を0%より多く25.0%以下、La成分を0%より多く15.0%以下、及びNb成分を0より多く20.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00275×νd+0.68125)の関係を満たし、νd>31の範囲において(−0.00162×νd+0.63822)≦(θg,F)≦(−0.00162×νd+0.64622)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】熱的耐久性および機械的強度に優れ、かつ、外観として高級感があり、優れた意匠性を付与することが可能な結晶化ガラス物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶性ガラス小体を集積し、熱処理により融着一体化かつ結晶化させてなる結晶化ガラス物品であって、LiO−Al−SiO系結晶を20〜70質量%を含み、かつ、RO−Al−SiO系結晶(R=Mg、Ca、Sr、Ba)またはR’O−Al−SiO系結晶(R’=Na、K)を1〜75質量%を含むことを特徴とする結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】一体感があり、漏水を生じるような隙間がなく、角張った屈曲角部にも施工可能であり、更なる軽量化を図ることができる結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶化ガラス物品10は、互いに融着した複数のガラス小領域同士の界面から内部に向けて針状結晶が析出した結晶化ガラスよりなる第一焼結体11と、同様な結晶化ガラスよりなる第二焼結体12と、を備え、第一焼結体11が、第二焼結体12の一の面の一部に融着一体化されてなる。 (もっと読む)


【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Cr含有量が2ppm以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも1種類の無機化合物を含む。1つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも1種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約1シード/cm3未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約1シード/cm3未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。 (もっと読む)


【課題】600℃〜900℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を提供する。
【解決手段】モル%で、20〜30%のSiO2、0〜15%のSrO、0〜8%のK2O、0〜6%のMgO、20〜30%のCaO、0〜10%のAl23、35〜45%のB23の組成を有し、アルカリの総量が10モル%未満であるガラスフリットを含む封止材料。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 0〜21%、B 6.5〜30%、ZnO 0〜15.5%、ZrO 0〜8%、La 36.6〜65%、Gd 0〜16%、Ta 1〜18%、Nb 0〜8%未満、WO 0.1〜25%、LiO 0.1〜5%を含有し、屈折率が1.86以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】Feの含有量を制限することなく、安定した白色度を示すことができる白色結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のガラス小領域1bが互いに融着しており、ガラス小領域1b間の界面3から内部に向けて主結晶として針状結晶4が析出している結晶化ガラスにより構成されている白色結晶化ガラス物品であって、白色着色剤2が0.3〜2質量%の範囲で含有されていることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がC面又はR面の形状を有する。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO成分を60.0%以下、及び、Ta成分を25.0%以下含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.00160×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×ν+0.75573)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.00250×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×ν+0.70000)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす100μm以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が10〜200μmのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、(徐冷点+200℃)〜(徐冷点+50℃)の温度範囲における平均冷却速度を300〜2500℃/分の範囲に調節することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低温での加熱処理により相分離処理を行い、孔径、空孔率の制御が可能な多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 SiOの濃度が50wt%以上70wt%以下、Bの濃度が15wt%以上40wt%以下、LiOの濃度が1.0wt%以上8.0wt%以下、NaOの濃度が2.0wt%以上8.0wt%以下、KOの濃度が0.3wt%以上5.0wt%以下であり、LiOとNaOとKOの濃度の合計が3.5wt%以上15wt%以下であり、KOの濃度がLiOとNaOとKOの濃度の合計に対して0.10以上0.30以下の比率である母体ガラスを、300℃以上500℃以下の温度、3時間以上50時間以下で加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、相分離ガラスをエッチングして多孔質ガラスを形成する工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 酸化ケイ素の含有割合が多くても相分離を起し、強度が高い多孔質ガラスを製造することができるホウケイ酸塩ガラスおよびそれを用いた多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ケイ素60重量%以上72重量%以下、酸化ホウ素18重量%以上30重量%以下、酸化ナトリウム9.5重量%以上15重量%以下、酸化セリウム0.1重量%以上5.0重量%以下を含有するホウケイ酸塩ガラス。前記ホウケイ酸塩ガラスを加熱による分相処理をしてシリカリッチ相と非シリカリッチ相に相分離させる工程、前記非シリカリッチ相を溶液によるエッチングにより溶出させる工程を有する多孔質ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶(最も析出量が多い結晶)として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル%で、ZnO 50〜80%、SiO 10〜40%、Al 0.1〜10%を含有すると共に、ウイレマイト:Al系結晶の割合が、モル比で、100:0〜99:1であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から10℃/分の速度で昇温し、保持温度450℃で10時間保持し、10℃/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときの熱収縮率の絶対値が50ppm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】CdSeやCdSの有害物質を添加しなくとも、その有害物質を添加した赤色ガラスの色調と同様な、鮮やかな赤色の色調の赤色ガラスを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の赤色ガラスは、ソーダ石灰ガラスの酸化物組成がSiO及びAlに、LiO、NaOなどのアルカリ金属酸化物及びCaOなどのアルカリ土類金属酸化物を含有し、着色剤が上記ソーダ石灰ガラスの酸化物組成の全重量に対して、モリブデンを0.03〜0.09重量%の範囲で、ネオジムを0.9〜3.7重量%の範囲で含有し、着色助剤が炭素を0.6〜1.3重量%の範囲で、硫黄を0.29〜0.47重量%の範囲で含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】(1)環境上好ましくない成分を含有しない、(2)低ガラス転移点を達成しやすい、(3)高屈折率特性を達成しやすい、(4)可視光透過率に優れている、(5)モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、(6)耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、SnO 43.5〜90%、P+B+SiO 0.1〜56.5%を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


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