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Fターム[4G062GA01]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Bi (5,930) |  (2,488)

Fターム[4G062GA01]に分類される特許

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0.2μg/g未満の金属含量を有している熱分解により製造された高純度の二酸化ケイ素は、30ppb未満の金属含量を有している四塩化ケイ素を火炎加水分解を用いて反応させることにより製造される。前記二酸化ケイ素は、高均質性を示すゾル−ゲル法を用いる高純度ガラスの製造に利用されることができる。これは光ファイバー紡糸用の母材として使用されることができる成形された物品の製造に使用されることができる。 (もっと読む)


生物学的、生化学的または化学的反応を実施する際に支持体として使用する、多孔性無機性基板を提供する。着色剤を用いて基板の多孔性層に色を付けたところ、この多孔性基板の自己蛍光バックグラウンドは、従来から使用されている「白色」多孔性基板と比較して約15〜20%減少した。色を付けた多孔性層は、シグナルのノイズに対する比が向上したが、このことは、生物学的または化学的結合アッセイを行う場合の検出測定において重要である。多孔性層を官能化すると、プローブ分子を多孔性層の上部または内部に固定し、マイクロアレイを作成することができる。該マイクロアレイは、従来から用いられている非多孔性無機性基板よりもプローブ濃度および保持能力が高く、非着色多孔性基板に共通の現象である比較的高い自己蛍光およびその他の損害に妨げられることもない。
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乾燥又は焼成し、マトリクス中で相互に結合した、気体を充填した中空のガラス製又はセラミック製のマイクロスフェアから作られた半導体用基板を提供する。マイクロスフェアをガラスコーティングが施されたマイクロスフェアとし、外側のガラス層を相互に焼結することによって、結合させたものとすることも出来る。半導体表面は、グレージングにより滑らかに加工することが出来る。 (もっと読む)


【解決手段】乗り物のグレイジングを開示するが、これは色付きガラスのペインを備え、少なくとも1.0から1.8重量%までの全鉄によって色付けられ、その内面上に低放射(反射)率被膜を持つ。被膜は、0.05から0.4までの放射率を持ち、及び透明な導電性酸化物(及び随意にドーパント)、又は金属層及び少なくとも1種の誘電体層を含んでよい。好ましくは、ガラスは強化ガラスである。また、ガラスの2種のプライを備える積層グレイジングを開示し、これはそれらの間を中間層物質によって積層され、そこでは、ガラスの少なくとも1種のプライ又は中間層物質のシートが色付き本体であり、前記グレイジングはその内面上に低放射率被膜を持つ。内側プライは、清澄なガラスか、又は色付きガラスでよい。中間層物質は、清澄なPVBか、又は色付きPVBでよく、及びそれは更に赤外(線)反射性であってよい。いずれのグレイジングも、ルーフのか、又は他の乗り物のグレイジングとして用いることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は赤外線に透明なガラス質組成物特にガラスセラミック型のガラス質組成物、その製造及び使用に関する。
【解決手段】前記の組成物はモル%で、Ge 5〜40、Ga <1、S+Se 40〜85、Sb+As 4〜40、MX 2〜25、Ln 0〜6、添加剤 0〜35を包含する。但しMはRb、Cs、Na、K及びZnから選んだ少なくとも1種のアルカリ金属であり、Xは塩素、臭素又はヨウ素の少なくとも1種の原子であり、Lnは少なくとも1種の希土類であり、添加剤は少なくとも1種の金属及び/又は少なくとも1種の金属塩よりなる少なくとも1種の添加剤であり、該組成物に存在する諸成分の全てのモル%の合計は100とする。 (もっと読む)


少なくとも1000℃まで又はそれ以上の使用温度を有し、使用後機械的一体性を有し、生理液中で非耐久性(可溶性)であり、且つシリカ、マグネシア、ランタニド系列元素含有化合物及び任意構成成分としてジルコニアを含有する溶融物から製造される温度耐性ガラス質無機繊維。
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【課題】 収容された新生児の目の発育や脳の発達および生育状態に悪影響を与えることがなく、雑菌繁殖のおそれもない保育器を提供する。
【解決手段】 保育器10は、新生児11を収容するベッド部12と、ベッド部12を覆う保護カバー13と、保護カバー13内の温度や湿度などを管理するためのコントロールパネル14などで構成され、保護カバー13は、構成成分として導電性酸化亜鉛を含有する透明なガラスで形成されている。保護カバー13は可視光線のみを透過し、放射線や電磁波などを効果的に遮断する。 (もっと読む)


【課題】 高純度でシラノール基含量の極めて少ない合成石英ガラスを、効率よく得ることのできる石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカを加熱し、第1加熱段階として150℃〜400℃の温度範囲に3時間以上保持した後、第2加熱段階として1100℃〜1300℃の温度範囲に1時間以上保持する。 (もっと読む)


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