【課題】ビスマス系ガラスは構造的に不安定なガラスが多く、焼成途中で結晶化し、結晶化することで流動性が損なわれ、十分な接着強度、気密性が得にくいという問題があった。従って、本発明は透明で、焼成時に結晶化し難いビスマス系ガラスを得ることを目的とした。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｎＯを含むビスマス系ガラス組成物であり、質量％でＢｉ_２Ｏ_３を５５〜８０、ＲＯ（ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．１〜５含み、３０℃〜３００℃における線膨張係数が（６５〜９５）×１０^−７／℃、軟化点が４５０℃以上５３０℃以下であることを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、プリフォームの生産性、モールドプレス性が良好な光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％でＢｉ_２Ｏ_３を１０％以上９０％未満含有し、屈折率［ｎｄ］が１．７０以上、アッベ数［νｄ］が１０以上の光学恒数を有し、液相温度における粘性が０．４Ｐａ・ｓ以上である光学ガラスである。さらに、ガラスの屈伏点［Ａｔ］が６００℃以下、液相温度が９５０℃以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラス組成物の焼成後に生じるベース基板との段差を平坦化して、キャビティの内部と外部の導通性を確保することができるガラスパッケージの製造方法、ガラスパッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】貫通孔２１，２２と金属芯材３１との間に充填された結晶性ガラス体３２は、酸化物換算の質量％表示でＢｉ₂Ｏ₃６０〜８０％、ＳｉＯ₂５〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃０．５〜８％、Ｂ₂Ｏ₃０．５〜１３％、及びＺｎＯ０〜１２％を含有するビスマス系ガラス組成物を焼成により焼結してなるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、（１）ガラス基板を用意する工程と、（２）ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、（３）ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、（４）塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、（５）封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、（６）レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板１１を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板１１上に塗布した後、第一の封着材料膜１２を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜１２上に塗布した後、第二の封着材料膜１３を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板１１上に封着材料層１４を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一の封着材料を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二の封着材料を含み、前記第二の封着材料中の耐火性フィラーの含有量が、前記第一の封着材料中の耐火性フィラーの含有量より少ないことを特徴とする封着材料層付きガラス基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が無機粉末と顔料を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が１０〜３５体積％であり、封着材料層の表面粗さＲａが０．５μｍ未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 （もっと読む）

【課題】２５０℃以上での耐熱性と絶縁性を保持しつつ、−５０℃〜２００℃の熱サイクルでも、半導体素子と封止材、および、半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離することがなく、しかも、封止するために封止材を１ｍｍ以上の厚さで用いた場合でもクラックが生じることのない、ガラスフリット複合材料を提供する。
【解決手段】熱硬化性シリコーン樹脂３〜４０重量％、１〜１０００ｐｐｍのアルカリ金属を含有するシリカ１〜２０重量％、鉛を含有しないガラスフリット１〜３０重量％、コージライト３０〜９０重量％、を含有することを特徴とするガラスフリット複合材料。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れた絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末を５０〜９０質量％、有機成分を１０〜５０質量％含む絶縁ペーストであって、該ガラス粉末が酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムを含有し、該ガラス粉末中の酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムの含有率の合計が５５〜８０質量％の範囲内であることを特徴とする絶縁ペースト。 （もっと読む）

【課題】相対屈折率の温度係数（ｄｎ／ｄＴ）が高く、結像特性等の影響を補正できる性質を有し、アッベ数（ν_ｄ）が低く、可視光に対する透過率が高く、且つガラス環境への悪影響のない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５５．０〜９５．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を４．０〜３５．０％含有し、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が３．０×１０^−６（℃^−１）以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率かつ高分散である、（４）可視域または近紫外域において優れた透過率を達成しやすい、（５）プリフォームガラス成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率が１．８５以上、アッベ数が３０以下、ガラス転移点が４５０℃以下であり、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ４０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｅＯ_２ ０．１％〜１９％を含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯがそれぞれ１％未満であり、かつ、鉛成分、ヒ素成分、フッ素成分、ＧｅＯ_２を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ヨウ素電解液に侵食され難く、且つ低融点特性を有する封止材料等を創案することにより、色素増感型太陽電池の長期耐久性を高めると共に、ガラス板の変形を防止することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の色素増感型太陽電池用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ６０〜８７％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１５％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｐ_２Ｏ_５ ０．０１〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス粉末とビーズの適合性を改良することにより、封着工程で封着材料が流動不良を引き起こす事態を防止する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とビーズとを含む封着材料において、ビーズの平均粒子径Ｄ_５０が３５〜２７０μｍであり、ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ２５〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜４０％、ＺｎＯ １〜３９％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散の特性を得ながらも、モールドプレス成形時における金型の消耗を低減し、且つ表面の曲面が滑らかで均一な光学素子を得ることが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成の全質量に対する質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５０．０〜８０．０％及びＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、屈折率（ｎｄ）が１．９０以上であり、液相温度における粘性が０．２５Ｐａ・ｓ以上である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、屈折率（ｎｄ）が１．８５以上を有しアッベ数（νｄ）が２５以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。

【解決手段】 必須成分として、Ｐ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２を含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を１０．０〜４４．０％、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を０．１〜５０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を２０．０〜６０．０％、ＴｉＯ_２成分を０．１〜２０．０％含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】感光性ガラスペーストパターンの蛇行や剥れが発生させることなく、細幅の隔壁を形成するできる誘電体ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末、エチレン性不飽和基を有する化合物、熱重合開始剤および光重合開始剤を含有することを特徴とする誘電体ペースト。 （もっと読む）

【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量％で
ＳｉＯ_２を１〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を５〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを５〜３５、ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を５〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を０．１〜６、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜６０、を含むことを特徴とする導電性ペースト。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下であるガラス組成物。Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル％表示で、５〜５０％のＢ_２Ｏ_３、５〜９０％のＢｉ_２Ｏ_３、５〜７０％のＺｎＯの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル％表示でＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３の比の値が０．２以上かつＺｎＯ／Ｂｉ_２Ｏ_３の比の値が０．２以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）