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携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材
【課題】薄くても非常に高い強度を持つ携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材を提供する。
【解決手段】化学強化によるカリウムイオンを含有する圧縮応力層1aを有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材1であって、前記主表面においてカリウムイオンが5000ppm以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層1aを有し、前記ガラス基材1の厚さが0.5mmとなるように構成され、前記ガラス基材1の外周の縁部を支持した状態で前記主表面の中央部を加圧子により加圧した際の破壊荷重が546N以上であることを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
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ガラス
【課題】ガラス組成中に鉛を含まなくても、放射線遮蔽性能が高いガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 15〜55%、B2O3 0〜10%、SrO 0.001〜35%、ZrO2+TiO2 0.001〜30%、La2O3+Nb2O5 0〜10%を含有し、質量比BaO/SrOが0〜40、質量比SiO2/SrOが0.1〜40であることを特徴とする。
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無鉛無ホウ素瓦用銀色釉薬
【課題】鉛以外の成分を除いた銀色無鉛釉薬の提供。
【解決手段】R12O(R12OはLi2O、Na2OおよびK2Oの1種または2種以上を表す)を0.06モル≧R12O;
CaOを0.05モル≦CaO≦0.34モル;
Al2O3を0.02モル≦Al2O3≦0.27モル;
MnOを0.65モル≦MnO≦0.95モル;および
TiO2を0.11モル≦TiO2の量で含み、ホウ素を含まない銀色無鉛釉薬。
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磁気記録媒体用ガラス基板
【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が68GPa以上で比弾性率が27MNm/kg以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より3.5mm以上外周側でかつ外周端面より3.5mm以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が0.5nm未満であることを特徴とする。
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化学強化ガラス板
【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60%以上、Al2O3を3%以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが0.4〜2.0mm、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σCが400MPa〜1GPa、前記圧縮応力層の深さDCが15〜30μmであることを特徴とする化学強化ガラス板。
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ケイ酸リチウムガラスセラミック
【課題】コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ZnOを必要とせずに達成される材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウム材料であって、機械加工によって、その器具が過度に磨耗することなく歯科用製品へと容易に加工可能であり、その後、高い強度を示すケイ酸リチウム製品へと変換され得る、ケイ酸リチウム材料。
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ガラスセラミック複合材料
【課題】内部の気孔を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック複合材料を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 30〜60%、BaO 10〜40%、CaO 0〜30%、MgO 0〜30%を含有し、質量比で、1<SiO2/BaO<3の関係を満たすガラス粉末と、Al成分を含有するセラミック粉末と、を含有するガラスセラミック複合材料であって、熱処理によって、主結晶としてセルジアン結晶を析出することを特徴とするガラスセラミック複合材料。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材を、より安価に得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%及びLa2O3成分を5.0〜30.0%含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和(TiO2+WO3+Nb2O5)が0.1〜30.0%である。
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磁性体ペーストおよびそれを用いた電子部品
【課題】高い透磁率を有する基材を得ることができる磁性体ペーストを提供するとともに、このような磁性体ペーストを用いることにより、高性能な電子部品を提供する。
【解決手段】磁性体ペーストは、平均粒径が0.5〜10μmの磁性体焼結粉末、ガラス粉末および有機成分を含む。ここで、磁性体焼結粉末/ガラス粉末の質量比を80/20〜90/10の範囲とする。さらに、ガラス粉末におけるSiO2の割合を70〜90質量%とする。この磁性体ペーストを硬化させて基材12、16、22、26を作製し、基材上に電極パターン14、18、24、28を形成して、基材の積層体10を焼成することにより、高透磁率を利用したインダクタンスを有する電子部品を得ることができる。
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調理面として、強度が高く、着色された、両面が滑らかなガラスセラミック
【課題】改善された使用特性によって優れており、例えばディスプレイ表示の良好な表示品質を可能にし且つ/又は加熱素子及び/若しくはセンサーユニットの機能を改善するガラスセラミック表面を作り出す。
【解決手段】ガラスセラミック材料が、主要素を成している結晶相として高温石英混晶を有するガラスセラミック調理面において、下面3が平らに、構造化されておらず且つ上面2に対して面平行に形成されていることによって解決される。
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薄膜太陽電池用ガラス板
【課題】歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高品位の光電変換膜を成膜し得るガラス板を創案する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池用ガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜60%、Al2O3 8.0超〜18%、B2O3 0〜15%(但し、15%を含まず)、MgO+CaO+SrO+BaO 1〜40%、Na2O+K2O 1〜30%を含有し、且つ歪点が580℃超であることを特徴とする。
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リチウムイオン伝導性無機物質
【課題】電池の充放電電圧をより高めることができ、且つ、電池の充放電特性をより高めることが可能なリチウムイオン伝導性無機物質を提供する。
【解決手段】リチウムイオン伝導性無機物質は、酸化物基準の質量%で、ZrO2成分を2.6〜52.0%含有する。このリチウムイオン伝導性無機物質は、正極層及び負極層と、これら正極層及び負極層の間に介在する固体電解質を含んだ固体電解質層と、を備えるリチウムイオン二次電池に用いられることが好ましい。
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ガラスペースト、プラズマディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイ用部材
【課題】 ペースト安定性、密着性に優れ、クロストークやノイズを防止し低消費電力のプラズマディスプレイを実現可能な封着層を高精度に形成することができる感光性ガラスペーストを提供する。
【解決手段】 有機溶剤と重合性有機成分および光重合開始剤を含む有機固形分とガラス転移点が380℃〜480℃の範囲内である低融点ガラスを含む無機固形分とを含有し、前記低融点ガラスのB2O3の含有量が20〜50質量%の範囲内であり、SiO2、ZnOおよびAl2O3の含有量の合計が25〜55質量%の範囲内、かつLiO2、Na2O3およびK2Oの含有量の合計が15〜25質量%の範囲内であることを特徴とした感光性ガラスペーストとする。
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絶縁ペーストおよびそれを用いた多層構造体の製造方法
【課題】耐薬品性に優れた絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末を50〜90質量%、有機成分を10〜50質量%含む絶縁ペーストであって、該ガラス粉末が酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムを含有し、該ガラス粉末中の酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムの含有率の合計が55〜80質量%の範囲内であることを特徴とする絶縁ペースト。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、分光透過率が70%を示す波長(λ70)が500nm以下である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜3である。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を10.0〜60.0%、及びTa2O5成分を0%より多く含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。
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Bi系非晶質材料及びそれを用いた超伝導材料の製造方法
【課題】超伝導結晶の臨界温度を高め得る材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】組成として、モル%表記で、Bi2O310〜30%、SrO20〜50%、CaO10〜30%、CuO20〜45%、アルカリ金属酸化物0.1〜10%を含有する超伝導性を有するBi系非晶質材料であることを特徴とする。また、超伝導材料とするための製造方法は、上記のBi系非晶質材料を熱処理することにより、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】モールドプレス成形に好適な高屈折率かつ低分散の光学特性を有し、部分分散比が小さく、かつ、モールドプレス成形時における金型の劣化が少なく、量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル%で、TeO2 1〜47.5%、B2O3 0.1〜31%、ZnO 0.1〜29.5%、Nb2O5 0〜10%、WO3 0〜2%、La2O3 0〜11.5%、GeO2 0〜3%、GaO2 0〜3%を含有し、PbOを実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子とその製造方法ならびに光学素子ブランクの製造方法
【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB2O3を合計で5〜32%、
La2O3、Gd2O3およびY2O3を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb2O5を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta2O5 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
B2O3の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B2O3)が0.3〜1.0、La2O3、Gd2O3およびY2O3の合計含有量に対するGd2O3およびY2O3の合計含有量の質量比(Gd2O3+Y2O3)/(La2O3+Gd2O3+Y2O3)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。
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