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Fターム[4G062GE03]の内容

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Fターム[4G062GE03]に分類される特許

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【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ光学機器の軽量化に寄与しうる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜55.0%、La成分を10.0〜55.0%含有し、F成分をさらに含有し、Gd成分の含有量が25.0%未満である。 (もっと読む)


【課題】300nm以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO 10%〜40%、B 10%〜40%、Al 2%〜7.0%、LiO 0〜5%、NaO 0〜8%、KO 0〜8.0%(但し、LiO+NaO+KO=0%〜10%)、CaO 0%〜40%、BaO 0%〜40%、ZnO 0〜10%(但し、CaO+BaO+MgO+SrO+ZnO=1%〜40%)、Y 0%〜17%、 ZrO 0%〜18.0%(但し、Y又はZrOの一方以上を含む)、Sb 0%〜0.5%を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚2.0mmの試料における250nmの透過率を60%以上とした。 (もっと読む)


【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および/またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜55.0%、La成分を10.0〜55.0%含有し、Al成分及びF成分をさらに含有する。この光学ガラスは、1.57以上の屈折率(n)と、50以上のアッベ数(ν)とを有する。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分とF成分を含有し、Ln成分(式中、LnはLa、Gd、Y、Yb、Luからなる群より選択される1種以上)の質量和が50.0%未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜70%、Al 0〜20%、B 0〜15%、NaO+KO 0〜30%、SrO+BaO 1〜40%を含有し、且つ保護膜がSr含有硫酸塩及び/又はBa含有硫酸塩を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、錫リン酸系ガラスの耐水性を改善すると同時に、低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気で良好に封着できるとともに、490℃以下の低温で封着可能であり、且つ熱的安定性の良好な封着用ガラス組成物および封着材料を得ることを技術課題とする。
【解決手段】本発明の封着用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示で、SnO 30〜80%、P 10〜25%(但し、25%は含まない)、B 0〜20%、ZnO 0〜20%、SiO 0〜10%、Al 0〜10%、WO 0〜20%、RO(RはLi、Na、K、Csを指す) 0〜20%含有し、且つ低酸素雰囲気、特に減圧雰囲気における封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B成分、La成分及びF成分を含有し、1.70以上の屈折率(n)と、39以上52未満のアッベ数(ν)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で(θg,F)≧(−2.0×10−3×ν+0.6498)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、B 0〜6%、LiO 0〜1%、NaO 7〜20%、KO 0〜4%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】通過域における透過率が高く、且つ、紫外域においてフラットな透過特性を有する光学ガラスフィルターを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO 40%〜70%、B 1%〜20%、Al 3%〜10%、KO 0〜10%、NaO 0〜5%、及び、LiO 0〜3%(但し、KO+NaO+LiOで2%〜10%)を含有し、更に、ハロゲン化カリウム、及び、CoO 0.05%〜0.5%を含有し、肉厚2.0mmの試料において、330nm〜450nmの波長範囲の透過率が70%以上である。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル%表示で実質的に、
モル%表示で実質的に、
SiO2 60〜64%
Al23 0〜12%、
23 5〜10%
MgO 1〜18%、
CaO 0〜18%、
SrO 0〜18%、
BaO 0〜2%、
CaO+SrO 12〜25%、
MgO+CaO+SrO+BaO 15.5〜30%
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がlogη=2となる温度T2 が1580℃ 以下である無アルカリガラス基板。 (もっと読む)


【課題】紫外スペクトルにより環境中の有害細菌を有効的に抑制又は殺滅する方法。
【解決手段】類地紫外スペクトル自体放出のガラスセラミックス材を利用して抗菌する新方法であり、前記ガラスセラミックスは電源を要らずに地球自然環境中の赤外線、可視光線又は紫外線により励起され、自体から類地紫外スペクトルを放出するものであることを特徴とする方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】Liイオン伝導性の高い硫化物固体電解質材料を提供する。
【解決手段】Li、A(Aは、P、Si、Ge、AlおよびBの少なくとも一種である)、X(Xはハロゲンである)、Sを有し、ガラスセラミックスであり、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=20.2°、23.6°にピークを有することを特徴とする硫化物固体電解質材料を提供する。該硫化物固体電解質材料はLi、A(Aは、P、Si、Ge、AlおよびBの少なくとも一種である)、およびSを有するイオン伝導体と、LiX(Xはハロゲンである)とから構成されている。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
、TeO、Al、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点(Tg)で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低出力のレーザにより、適正にレーザ封着が可能な封着材料ペースト及び封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機EL素子パッケージを備える有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料ペーストは、無機粉末とビークルを含む封着材料ペーストにおいて、無機粉末がSnO含有ガラス粉末を含み、ビークルが樹脂バインダーと溶剤を含み、質量比で無機粉末/ビークルの値が0.45〜1.65であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜70%、Al 12〜21%、LiO 0〜3.5%、NaO 7〜20%、KO 0〜3%を含有し、質量比KO/NaOが0〜0.2であることを特徴とする。 (もっと読む)


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