【課題】コバールを導入金属とし、耐ソラリゼーション性に優れた細径蛍光ランプを作製することが可能な細径蛍光ランプ用外囲器と、これを用いて作製した細径蛍光ランプを提供する。
【解決手段】蛍光ランプの外囲器として、Ｓｂ₂ Ｏ₃ を重量百分率で０．１〜４％ガラス組成中に含有し、３０〜３８０℃における線膨張係数が４３〜５５×１０^-7／℃（４３×１０^-7／℃を除く）であるホウケイ酸ガラスで構成された外径５．２ｍｍ以下、肉厚０．６ｍｍ以下の管状ガラスからなるものを使用する。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、軽量で、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７３〜１．８０未満、アッベ数（ν_d）が４３〜５５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｎＯ及びＬｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分、弗素成分を含まず、質量％の比率でＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃が０．３０〜１．５５、かつＹ₂Ｏ₃／Ｌａ₂Ｏ₃が０．１５〜１．００、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６２０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。Ｌｉ_２Ｏを１％より多く含有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５７０℃以下であることを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．８７であり、かつアッベ数（νｄ）が３０〜４５であって、Ｔａ₂Ｏ₅を含まなくとも低温軟化性に優れ、かつ低コスト化を達成し得る光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃を３０〜４５％、ＳｉＯ₂を２〜１５％、Ｌａ₂Ｏ₃を１０〜２０％、ＴｉＯ₂を１〜１０％、ＺｎＯを１０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏを２〜１５％、ＷＯ₃を０％超かつ１０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅を０〜１５％、ＺｒＯ₂を０〜１０％含み、上記成分の合計量が９５％超であり、かつ屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．８７、アッベ数（νｄ）が３０〜４５の範囲である光学ガラス。このガラスよりなる精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子。この光学ガラスよりなる精密プレス成形用プリフォームを成形する精密プレス成形用プリフォームの製造方法。この成形用プリフォームを使用する光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が高いガラス素材であっても、容量が小さい場合であっても、形状が一定で、ガラス容量も一定である複数のガラス素材またはガラス素材群を、高い生産効率で歩留よく製造する方法、このガラス素材または上記ガラス素材群を構成するガラス素材を用いて、ガラス光学素子を高い生産効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】100〜300℃の平均線膨張係数αhが120×10^-7/℃ 以上である光学ガラスからなる溶融ガラスを流出パイプから順次受け型に滴下し、又は流下しつつ分離し、冷却して、複数の予備成形したガラス素球を調製し、このガラス素球を、（転移温度−80℃）〜（転移温度＋50℃）の範囲に加熱し、冷却する加熱処理を行い、加熱処理後の複数のガラス素球の表面の少なくとも一部または全部を、機械的加工により除去して精密ガラス球とする成形用ガラス素材の製造方法。上記方法により製造したガラス素材を、加熱により軟化した状態で成形型によってプレス成形する、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い密度と高い発光効率を実現したガラス好ましくはシンチレータガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】フッ化物結晶を含有し、Ｅｕ^２＋を含有することを特徴とするガラスセラミックス。 該ガラスセラミックスは原ガラスの原料として少なくともＡｌＦ_３を用い、該原料を還元剤を添加しておよび／または還元雰囲気で溶融した後、原ガラスを成形し、該原ガラスを熱処理することにより結晶を析出させることによって作製される。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性と耐熱衝撃性に優れ、しかも成形時に失透が発生しにくいＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の結晶化ガラスは、質量％で、ＳｉＯ₂ ５５〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ ２０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏ ３．１〜７％、ＴｉＯ₂ １〜５％、ＺｒＯ₂ ０．５〜３％、Ｐ₂Ｏ₅ ０．５〜５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０．１〜２．４％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０．３〜５％、ＢａＯ ０．１〜３％、Ｐ₂Ｏ₅／Ｂ₂Ｏ₃が１．２超の組成を含有し、ガラス転移点が６２０℃以上であり、結晶化前の原ガラスの作業温度域（成形温度と液相温度との差）が８０℃以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有するガラスにおいて、良好な透過率を有する光学ガラス成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】構成成分としてＢｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラス成形品を製造する方法であって、成形された光学ガラス及び／又は成形中の光学ガラスを、酸化性雰囲気又は非還元性雰囲気中で熱処理する工程を含むことを特徴とする方法。光学ガラスが、その構成成分として酸化物基準でＢ_２Ｏ_３成分を含有するため、透過率を改善させることができる。 （もっと読む）

【課題】濡れ性を石英ガラスるつぼ内表面に作り出すことによって、この石英ガラスるつぼを用いてシリコン単結晶を引き上げる際にシリコンメルトの湯面振動を抑制することができるようにしたシリコン単結晶引き上げ用大口径石英ガラスるつぼ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半透明石英ガラス層のるつぼ基体３と、るつぼ基体３の内壁面に形成された透明石英ガラス層からなるシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼであり、石英ガラスるつぼの内表面の表面張力が、５０ｍＮ／ｍ以下であって、石英ガラスるつぼの内表面の表面粗さを調整することによって表面張力の値を所定範囲に設定する。 （もっと読む）

【課題】 未結晶化ガラス製の歯冠成形体を結晶化させるための加熱工程において変形が少なく、得られた歯冠補綴物においてスプルー部の切断痕の外観に高度に優れ、且つ簡便な方法で実施でき、多数の未結晶化ガラス製の歯冠成形体を並列的に結晶化させることも容易な、結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法を開発すること。
【解決手段】 歯冠鋳造型を用いて、ディオプサイド系結晶化ガラス等の原料ガラスである未結晶化ガラス製の歯冠成形体を鋳造した後、該未結晶化ガラス製の歯冠成形体を歯冠鋳造型から取り出し、結合するスプルー部を切り取った後、上記未結晶化ガラスの結晶化温度で安定な石膏等の硬化性材料の硬化体中に包埋させた状態で加熱して結晶化させることを特徴とする結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
紫外域のレーザによりガラスの揮発を起こすレーザ加工用のシリカガラス又は珪酸塩ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
フッ素化合物をラザフォード後方散乱法(RBS法)による計測で１モル％以上含有することを特徴とするレーザアブレーション用シリカガラス及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】建築材料に必要な特性を向上させた、高級感のある新規な外観を有する模様入りガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の模様入り結晶化ガラス物品１は、析出結晶量が５〜５０質量％の結晶化ガラスの基層２と、結晶化ガラスと非晶質ガラスとが反応して基層２の一面の実質的に全表面を覆う反応層３ａと、その表面積の２０〜８０％を分散して覆う非晶質ガラス部３ｂによる透光面部３ｄとが模様を形成してなる表層３を有する。また、本発明の製造方法は、耐火容器内に、結晶性ガラス小体を集積して集積層とし、その実質的に全表面を覆って、かつ焼成後の表層３に、集積層の上面の結晶性ガラス小体との反応による反応層３ａによる光散乱面部３ｃが部分的に出現する量の非晶質ガラス小体を分散させて積層体とし、積層体をガラスの粘度が１０⁴から１０⁵ポイズを示す温度域で焼成することにより、結晶化ガラス物品１を製造するものである。 （もっと読む）

【課題】
シリカ・チタニアガラス基板においてＥＵＶリソグラフィー用の光学系に許されない脈理を一方向あるいは三方向に除去し、シリカ・チタニアガラスの均質性を向上させることができるシリカ・チタニアガラスの製造方法及び一方向あるいは三方向に脈理の存在しないシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料ガス及びチタニア原料ガスを酸水素火炎中に導入し、シリカ及びチタニア微粒子を水平に保持された基体上に層状に堆積して円筒状の多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を透明化し、同心円状の層状脈理を有する円筒状のシリカ・チタニアガラス体を作製した後、該ガラス体から円弧状の層状脈理を有する棒状ガラス体を切り出し、該棒状ガラス体の両端部を一対の回転可能な保持手段で保持し、前記脈理に対して垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施すようにした。 （もっと読む）

【課題】破壊強度を維持しつつ、基板表面上に形成される金属層との密着強度を高めることが可能なガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶化度が１０〜２５％であるガラス基板によると、磁気記録媒体に要求される破壊強度を維持しつつ、基板表面上に形成される金属層との密着強度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大気中で溶融でき、失透しにくいとともに低温でプレス成型可能であり、かつ種々の光学部品用途に好適に使用可能な光学ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、モル％表示で、Ａｇ₂Ｏ ２０〜６０％、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜６０％、ＴｅＯ₂ ２〜５０％を含有することを特徴とする。さらに、別の態様として、本発明の光学ガラスは、ガラス成分としてＡｇ₂Ｏを含有し、波長４６０ｎｍにおける透過率が６５％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ３１３ｎｍ等の長波長側の紫外線遮蔽が可能であり、しかもＴｉＯ₂系の結晶を生じたり、分相を起こしたりし難い照明用ガラスを提供する。
【解決手段】 質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ １２〜２５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜３．２％未満、Ｌｉ₂Ｏ ０〜０．５％未満、Ｎａ₂Ｏ ０〜７％、Ｋ₂Ｏ ３〜１５％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ６〜１５％、Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｌｉ₂Ｏ ０〜３．２％、ＢａＯ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜１５％、ＴｉＯ₂ ２．５〜４．９％、Ａｓ₂Ｏ₃＋Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜５％含有し、３０〜３８０℃における熱膨張係数が４５〜５８×１０^-7／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＰｂＯを実質的に含有せず、５００℃程度で仮焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３５〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％、ＢａＯ １〜１５％、ＣｕＯ＋Ｆｅ₂Ｏ₃ １〜１１％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．１〜５％を含有するビスマス系ガラス組成物と耐火性フィラー粉末とを混合した封着材料であって、混合割合を体積％表示で、ビスマス系ガラス組成物が４０〜９０％、耐火性フィラー粉末が６０〜１０％とする。 （もっと読む）

【課題】 特に、抵抗値のばらつきが小さく、温度係数の小さい抵抗体を形成するための抵抗体ペースト、及び前記抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体、ならびに、前記抵抗体を用いて形成された回路基板を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態における抵抗体ペーストは、鉛を含有しないガラス組成物と、ＲｕＯ_２と、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７と、有機ビヒクルとを有する。Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の合成温度は、１１００℃〜１３００℃程度と高温であるため、前記抵抗体ペーストを焼成する温度で分解されることはなく、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を形成することが可能になる。また、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の温度係数は負であり、ＲｕＯ_２の温度係数は正であり、これらの混合により、抵抗体の温度係数の絶対値を適切に且つ簡単に小さくすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】超低膨張率シリカ・チタニアガラス中の脈理を減少させる。
【解決手段】ガラスを、１６００℃を超える温度で７２〜２８８時間の範囲の間熱処理する。一つの実施例において、本発明はガラスを流動させずまたは動かさずに熱処理する。本発明は、超低膨張率ガラス中の脈理の大きさを５００％も減少させ、特に高い周波数の脈理の大部分を減少させることが判明した。 （もっと読む）