【課題】化学的耐久性に優れ、ＰＤＰ背面基板の電極被覆に用いることが可能な電極被覆用無鉛ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２ ２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ４〜２５％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２ ０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下であり、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合（ＴｉＯ_２＋４モル％）≧（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）である電極被覆用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明はパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペーストに関して、タック性を解消して、結果として露光時のフォトマスクの汚れなどを生じない感光性ペースト組成物を提供する。
【課題手段】ガラス粉末と無機フィラーと感光性有機成分を有する感光性ペースト組成物であって、ガラス粉末が酸化ビスマスを含み、かつ無機フィラーが酸化マグネシウムを含む感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】真空断熱材の芯材に用いるガラス繊維の素材強度を高め、大気圧縮による芯材の高密度化及び繊維接触部の増大を抑制し、芯材部における固体成分の熱伝導を低減することで断熱性能を向上させる。
【解決手段】ガラス繊維からなる芯材２がガスバリア性を有する外包材４で減圧密閉された真空断熱材１であって、前記ガラス繊維は、Ｂ₂Ｏ₃が５乃至１２重量％、Ａｌ₂Ｏ₃とＣａＯとの合計が９乃至１２．８重量％を含むアルカリホウケイ酸ガラスであり、ガラスのヤング率が７７．８ＧＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５であり、かつ低温軟化性と優れた耐候性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】 屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５６０℃以下であり、かつヘイズ値が３％以下の耐候性を有する光学ガラス、あるいは、モル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ２２〜４０％、ＳｉＯ₂ １２〜４０％、Ｌｉ₂Ｏ ２〜２０％、ＣａＯ ５〜１５％、ＺｎＯ ２〜１４％、Ｌａ₂Ｏ₃ ０．５〜４％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜３％、Ｙ₂Ｏ₃ ０〜３％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃とＹ₂Ｏ₃との合計１％以上）、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＺｒＯ₂ ０〜３％およびＢａＯ ０〜５％を含み、上記成分の合計量が９６％より多く、かつ屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５の光学ガラスなどである。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＳｂ成分を含むガラス原料調合物を白金を含む耐火物を用いた溶融設備で溶融しても、清澄効果を低下させることなく、白金ブツの発生を抑えることが可能な光学ガラス及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、Ｓｂ成分を含有する光学ガラスにおいて、Ｓｂ³⁺／全Ｓｂの割合が０．４５以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３少なくとも３５重量パーセント及び３マイクロメートル未満の平均セルサイズを有する複数のセルを含むセラミック材料及び物品。
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【課題】鉛を実質的に含まず、低温、特に７００℃以下の温度で焼成可能な、気密性及び化学的耐久性、特に耐酸性が優れたオーバーコート用ガラスペーストであって、厚膜抵抗素子のプリコートガラスとして用いたときには、抵抗体の安定性を損なうことなくレーザートリミングを容易に行うことができるオーバーコート用ガラスペーストを提供する。
【解決手段】低融点ガラス粉末と有機ビヒクルとを含むガラスペーストであって、前記低融点ガラスが、実質的にＰｂを含有せず、酸化物換算のモル%表示で、ＳｉＯ_２ ２０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０.５〜１０％、ＢａＯ及びＳｒＯからなる群から選択された少なくとも１種を５〜３５％、ＺｎＯ ５〜３５％、ＴｉＯ_２ １〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏからなる群から選択された少なくとも１種を１〜１３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、及びＷＯ_３及びＭｏＯ_３からなる群から選択された少なくとも１種を０〜５％で含有することを特徴とするオーバーコート用ガラスペースト。 （もっと読む）

【課題】フツリン酸ガラスからなるガラス素材から精密モールドプレスによりガラス光学素子を得る方法であって、ガラス素材と成形面との融着抑止を防止して、クモリ、割れ等のない優れた光学性能を有するガラス光学素子を得る方法を提供する。
【解決手段】フツリン酸ガラスからなるガラス素材を、成形型によってプレス成形して、プレス成形によって形成された光学機能面を機械加工することなしにガラス光学素子を製造する方法。前記ガラス素材は表面にコート層を有さず、ガラス表面を前記成形型の成形面で直接押圧して成形面形状を転写して、前記ガラス光学素子を得る。 （もっと読む）

【課題】 パターニング精度の低下が抑制されたビスマス系無鉛ガラスを提供することを課題としている。
【解決手段】 光照射によりパターニングされる光パターニングガラス材料に用いられ、３６５ｎｍの波長の光に対する吸収係数が３００〜３０００ｃｍ^-1であることを特徴とするビスマス系無鉛ガラスを提供する。 （もっと読む）

複合物品（例えば、研磨物品（例えば、研磨ホイール及びホーニング砥石）、切削工具、及び切削工具インサート）であって、セラミックマトリックス内に分散したガラスセラミックを含んでいる。
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直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】 放射線特にＸ線を照射しても、光量減少が少なく、耐放射線に対しての劣化が少ない長期信頼性の高い光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化珪素を主成分として、フッ素ドープ量を１〜９ｐｐｍ、ＯＨ基濃度８００〜１２００ｐｐｍ、遷移金属類、アルカリ土金属類、アルカリ金属をそれぞれ２０ｐｐｍ未満、塩素含有量１ｐｐｍ未満とすることで、放射線照射に対して安定な光学ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】エネルギー効率が良好で、温度分布が生じ難く、誘電体前駆層を均一に焼成することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２と、該ガラス基板２上に配設された誘電体層とを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、（ｉ）前記ガラス基板２上にガラスフリット及び有機樹脂バインダーを含む誘電体前駆層１を形成する工程と、（ｉｉ）前記ガラス基板上に形成された前記誘電体前駆層に300MHz〜300GHzのマイクロ波を照射して、該誘電体前駆層から誘電体層を生成させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】機械強度、美観および清掃性を損なうことなく、照明等から発生する光を適切に散乱する調理器用トッププレートを提供することを課題とする。また、これらの特性が付与された調理器用トッププレートを容易に作製することができる調理器用トッププレートの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、少なくとも結晶化ガラスの一方の表面に粗面を形成し、その粗面の平均表面粗さ（Ｒａ）を０．１〜２０μｍとする。また、結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートの製造方法において、サンドブラスト法を用いて、少なくとも結晶化ガラスの一方の表面を切削した後、フッ酸含有溶液を用いて、切削した部位をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】著しいショート・フリント特性、良好な化学安定性、優れた結晶化安定性、良好なソラリゼーション安定性と共に１．６０≦ｎ_ｄ≦１．８０の屈折率ｎ_ｄ及び／又は３０≦ν_ｄ≦４０のアッベ数ν_ｄを有し、画像、センサー、鏡検法、医療技術、デジタル映写、フォトリソグラフィー、レーザー技術、ウェハー／チップ技術の応用分野や、電気通信、光通信技術及び自動車部門でのオプチクス／照明等の応用分野に用いる光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物基準の質量％表示で以下の組成：ＳｉＯ_２ １９〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜７．５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ２５〜３１％、Ｋ_２Ｏ ２〜８％、ＴｉＯ_２ ０．１〜２％、ＺｒＯ_２ ６〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０．５〜８％を有する。 （もっと読む）

【課題】 広いバンド幅で大きいコントラスト比を有する偏光ガラス品を提供する。
【解決手段】 偏光ガラス品において、大きさが２００〜５０００Åの範囲にある銀、銅、または銅−カドミウムのハロゲン化物結晶のガラス内での析出により相分離され、ハロゲン化物結晶上または結晶内に形成された、延伸アスペクト比が少なくとも２：１の、銀、銅、または銅−カドミウムの延伸金属粒子を含有し、少なくとも１００，０００のコントラスト比を少なくとも３００ｎｍの範囲にわたって有する。 （もっと読む）

【課題】５００℃以下の温度で焼成が可能であるとともに、ＰｂＯを含有しないために環境問題が生じたり、電気絶縁性が低下する恐れがないガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、モル分率で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＢａＯ＋ＳｒＯ １〜１０％、ＺｎＯ ０〜３０％、ＣｕＯ ０〜２０％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜５％、Ｃｓ₂Ｏ ０〜５％、Ｆ₂ ０〜２０％の組成を有し、かつ、Ｂｉ₂Ｏ₃／（ＢａＯ＋ＳｒＯ）が３．５〜３５．０の関係を満たし、本質的にＰｂＯを含まないことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明の主題は、１００ポアズ（１０Ｐａ．ｓ）の粘度に相当する温度（Ｔｌｏｇ２）が１４８０℃以上であるガラスの精製方法であって、硫化物が精製剤として使用されることを特徴とする。またこの方法によって得ることができるガラス製品にも関係する。 （もっと読む）

【課題】モールドプレス成形用光学ガラスとして要求される特性を満足し、特に、屈折率（ｎｄ）が１．５８５〜１．５９５、アッベ数（νｄ）が５９以上であり、耐侯性に優れ、しかも、鉛及びフッ化物を含まないモールドプレス成形用光学ガラスを提供することである。
【解決手段】本発明のモールドプレス成形用光学ガラスは、ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−Ｒ"₂Ｏ₃（Ｒ"はＬａ、Ｇｄの一種以上）−ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの一種以上）系ガラスからなり、質量％で、ＳｉＯ₂ ３９〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １９〜３５％、ＳｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃ ５９〜７５％、Ｒ"₂Ｏ₃ ０．１〜２５％、Ａｌ₂Ｏ₃ １．５〜４.８％、ＲＯ １２〜２３％、ＲＯ＋Ｒ"₂Ｏ₃ １５〜２７％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラスを結晶化させたり、イオン強化したりしなくても、十分な機械的強度を有する情報記録ディスク用のガラス基板を提供する。
【解決手段】 質量％表示でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ７〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ７〜１７％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＳｒＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜３０％含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含まず、（仮想温度-ガラス転移温度）が０℃以上であることを特徴とする。 （もっと読む）