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Fターム[4G062JJ04]の内容

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Fターム[4G062JJ04]に分類される特許

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【課題】ガラス小体を融着一体化させてなる着色結晶化物品であって、着色部分が均一に分散しており、かつ、着色部分と非着色部分の境界が明瞭である、意匠性に優れた着色結晶化ガラス物品を製造するための方法を提供する。
【解決手段】軟化点より高い温度で熱処理すると軟化変形しながら結晶を析出する性質を有する結晶性ガラス小体と、ガラス組成として着色成分を含有する着色結晶化ガラス小体と、を混合してガラス小体混合物を作製する工程、ガラス小体混合物を結晶性ガラス小体の軟化点以上の温度で熱処理をすることによって、結晶性ガラス小体から結晶を析出させるとともに、各ガラス小体を互いに融着一体化させる工程、を含むことを特徴とする着色結晶化ガラス物品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 光反応における太陽電池および光触媒の分野では酸化チタンが用いられているが、一般的に酸化チタンの吸収波長は紫外域であり使用目的には限界がある。
酸化チタンなどは光を照射することにより光反応を示すことが知られおり、強力な触媒機能を発揮することが知られており、消臭、汚れの除去、大腸菌などの殺菌用として応用されている。従来、酸化チタンであれば主として400nm以下の紫外光に吸収ピークがあり、光の利用効率が低かった。
【解決手段】 結晶化する温度以上での熱処理したバナジウム結晶化複合酸化物に光を照射することで長波長域まで反応する新規光反応性材として提供する。酸化チタンのバンドギャップは3.2eVであるが、本発明のバナジウム結晶化複合酸化物のバンドギャップは組成により1.0〜2.5eVあり、吸収波長域は長波長の広範囲を有する、新規光反応性材として提供する。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性が高く、かつ10-6Ωcmオーダーの低い電気抵抗率を有する電極/配線を300℃以下の低温焼成で形成することができる導電性ガラスペーストを提供する。また、該導電性ガラスペーストを用いて電極/配線が形成された電気電子部品を提供する。
【解決手段】本発明に係る導電性ガラスペーストは、無鉛ガラス粒子とAg粒子と有機溶剤とを含有する導電性ガラスペーストであって、前記導電性ガラスペーストは、更にAg2O粒子を含有し、前記無鉛ガラス粒子は、成分を酸化物で表したときに、V2O5とAg2OとTeO2とを少なくとも含有し、軟化点が300℃以下であることを特徴とする。前記導電性ガラスペーストにおける配合割合は、Ag粒子100質量部に対して、Ag2O粒子を10〜70質量部とし、無鉛ガラス粒子を10〜50質量部とすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】電子部品において、製造歩留まり、性能及び信頼性が、実用上使用できる水準を満たす電子部品を提供することである。
【解決手段】電子部品電極用ガラス組成物は、金属粒子と、ガラス相とを有する電極がシリコン基板に形成された電子部品であって、該電極中の該ガラス相が少なくともバナジウム、アンチモン、及びホウ素の酸化物を含み、さらにリン、テルル、バリウム及びタングテンの酸化物のうち1種以上を含み、前記リンの含有量が、酸化物換算で10質量%未満であり、該ガラス中の鉛含有量が1000ppm以下である酸化物ガラスであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】300nm以下の紫外域での透過性に優れた紫外域透過ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO 10%〜40%、B 10%〜40%、Al 2%〜7.0%、LiO 0〜5%、NaO 0〜8%、KO 0〜8.0%(但し、LiO+NaO+KO=0%〜10%)、CaO 0%〜40%、BaO 0%〜40%、ZnO 0〜10%(但し、CaO+BaO+MgO+SrO+ZnO=1%〜40%)、Y 0%〜17%、 ZrO 0%〜18.0%(但し、Y又はZrOの一方以上を含む)、Sb 0%〜0.5%を含有し、微細結晶を析出させることで、肉厚2.0mmの試料における250nmの透過率を60%以上とした。 (もっと読む)


【課題】本発明は、太陽電池用カバーガラスに適した高い透過率を有し、さらに風冷強化時に反りの発生を抑制し易いガラスを提供することを課題とする。
【解決手段】太陽電池用カバーガラスであり、該太陽電池用カバーガラスは平面状で厚さ2mm〜4mmのソーダ石灰系ガラスからなり、成分として、質量%で、
Alを1.1〜1.6、CaOを9〜11、MgOを2.5〜3.5、全アンチモン酸化物をSb換算で0.1〜0.5、鉄酸化物をFeに換算で0.005〜0.02有し、Fe2+が(Fe2++Fe3+)の2〜9%を占め、実質的に酸化セリウム及び酸化鉄以外の着色成分を含んでいないソーダ石灰系ガラスからなることを特徴とする太陽電池用カバーガラス。 (もっと読む)


【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi成分を70.0%以上90.0%以下、B成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高く、より安価である光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量を基準として質量%換算で、Bを10.0〜35.0%、Laを20.0〜40.0%含有し、結晶析出温度(Tx)とガラス転移温度(Tg)との差分(ΔT)が140℃以上である光学ガラス。酸化物換算組成のガラス全質量を基準として、質量%換算で0〜5%のLiOを含有する前記記載の光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB23を合計で5〜32%、
La23、Gd23およびY23を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb25を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta25 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
23の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B23)が0.3〜1.0、La23、Gd23およびY23の合計含有量に対するGd23およびY23の合計含有量の質量比(Gd23+Y23)/(La23+Gd23+Y23)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および/またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。 (もっと読む)


【課題】屈折率(nd)が1.78〜2.2、アッベ数(νd)が16〜40未満の範囲であり、ガラス転移点が低くて精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%でBを25〜60%、TiOとNbの合計量を2〜45%、WOを1〜25%含有し、屈折率ndが1.78〜2.2、アッベ数νdが16〜40未満である光学ガラス。さらに、Laを5〜35%、ZnOを1〜40%を含有する。また、ガラス転移点(Tg)が700℃以下である。これによって、ガラスの溶融性、安定性や耐失透性に優れ、また、高い屈折率と光の高分散性を有すると共に、精密プレス成形に優れた光学ガラスとなる。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ材料コストの低減された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分とF成分を含有し、Ln成分(式中、LnはLa、Gd、Y、Yb、Luからなる群より選択される1種以上)の質量和が50.0%未満である。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量%で、SiO 75〜85%、Al 0〜5%、B 10〜20%、LiO 0〜5%、NaO 1〜10%、KO 0〜5%の組成を含有し、(LiO+NaO+KO)/(SiO+B+Al)が0.045〜0.055であり、内部の残留応力が5MPa以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にあ、色収差の補正に好ましく用いられ、且つ耐失透性の高い光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜55.0%、La成分を10.0〜55.0%含有し、Al成分及びF成分をさらに含有する。この光学ガラスは、1.57以上の屈折率(n)と、50以上のアッベ数(ν)とを有する。 (もっと読む)


【課題】環境への負荷が小さくて化学耐久性に優れ、かつ、表面電荷密度が低く、特に低耐圧用の半導体素子を被覆するために好適なガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、ZnO 52〜65%、B 5〜20%、SiO 15〜35%およびAl 3〜6%を含有し、かつ、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体素子被覆用ガラス。さらに、組成として、Ta 0〜5%、MnO 0〜5%、Nb 0〜5%、CeO 0〜3%およびSbを含有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】有機ELデバイス等の内部にガス成分を吸着する材料を設けなくても、長期信頼性の得られるレーザー封着方法。
【解決手段】レーザー封着により電子デバイスを製造する方法において、(1)ガラス基板を用意する工程と、(2)ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、(3)ガラス基板に封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、(4)塗布層を焼成して、封着材料層付きガラス基板を得る工程と、(5)封着材料層を介して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを重ね合わせる工程と、(6)レーザー封着温度が焼成温度以下になるように、レーザー光を照射して、封着材料層付きガラス基板と、封着材料層が形成されていないガラス基板とを気密封着する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、屈折率(nd)が1.75以上1.85以下を有しており、アッベ数(νd)が30.0以上45.0以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、脈理が少なく加工性が良好な光学ガラスを提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を4.0〜50.0%、質量比でLa/Bが0.8以下であり、液相温度が1030℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、低出力のレーザーでレーザー封着が可能な封着材料層付きガラス基板の製造方法を創案することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、第一の封着材料ペーストを前記ガラス基板上に塗布した後、第一の封着材料膜を形成する工程と、第二の封着材料ペーストを前記第一の封着材料膜上に塗布した後、第二の封着材料膜を形成する工程と、得られた積層膜を焼成して、前記ガラス基板上に封着材料層を形成する工程とを有すると共に、前記第一の封着材料ペーストが第一のガラス粉末を含み、且つ前記第二の封着材料ペーストが第二のガラス粉末を含み、前記第二のガラス粉末の軟化点が、前記第一のガラス粉末の軟化点より低いことを特徴とする。 (もっと読む)


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