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Fターム[4G062JJ07]に分類される特許
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チタニアドープ石英ガラス及びその製造方法
【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、200〜400℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積30,000nm3以上の凹状欠陥がないEUVリソグラフィ用部材、特にEUVリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。
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光拡散ガラス部材
【課題】ガラス表面を粗面化することなく、十分な表面強度を有して、可視域を超える広い範囲でフラットな透過率特性を有する光拡散ガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス中に結晶相を有し、酸化物換算による重量%表示で、SiO2を35〜70%、Al2O3を0〜8.0%、B2O3を15〜35%、Na2O、K2O、Li2Oから選択される成分を全体で3〜10%、CaO、Y2O3から選択される成分を全体で6〜20%、及び、Sb2O3を0〜1%、を含有して構成され、厚さ2.0mmの部材で評価して、波長400nm〜2500nmについて全光線平均透過率が5〜50%であり、前記全光線平均透過率に対する透過率偏差の平均値が、400nm〜2500nmの波長領域において4.0%以下である。
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計測器校正用の光学ガラスフィルタ
【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2を12%〜45%、B2O3を10%〜40%、Al2O3を0〜9.0%、Li2O、Na2O、K2Oの任意の組合せを総量で1%〜10%、BaO、CaO、MgO、SrO、ZnOの任意の組合せを総量で1%〜40%、Y2O3を0%〜20%、ZrO2を0%〜7.0%、及び、Ho2O3を1.0%〜20.0%含有し、波長範囲270〜300nmに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側10nmの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。
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ガラス板の製造方法およびディスプレイ装置用化学強化ガラス
【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程(1)および(2)を含むガラス板の製造方法に関する。
(1)Al2O3を3モル%以上含有し、Li2OおよびNa2Oの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量R2Oに対するLi2OまたはNa2Oの含有量のモル比Li2O/R2OまたはNa2O/R2Oが、0.9以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
(2)工程(1)で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程
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ガラス組成物、それを含むガラスフリット、それを含むガラスペースト、およびそれを利用した電気電子部品
【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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半導体パッケージ用カバーガラス
【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%、TiO2 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ液相粘度が105.0dPa・s以上であることを特徴とする。
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原料溶解炉
【課題】原料を加熱・溶解する原料処理部材を備えた従来の原料溶解炉と比べて、原料処理管内にて原料をより長時間加熱・溶解することを容易とすること。
【解決手段】原料Mを投入する投入口22および原料Mが溶解した溶解物が流出する流出口24を備え、投入口22が流出口24よりも上方に位置するように配置された原料処理部材20と、原料処理部材20内を、投入口22側から流出口24側へと移動する原料Mを加熱する加熱手段と、を少なくとも備え、原料処理部材20内に、原料処理管20内を溶解しながら移動する原料Mを原料処理部材20内に一時的に滞留させる滞留部Sが設けられたことを特徴とする原料溶解炉。
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質量分析用途に用いる成形用セラミックス
【課題】質量分析用途に用いる成形用セラミックスを提供する。
【解決手段】RF部材のオーバーモールドに適した、アルカリ土類金属酸化物、例えばSrOを含むガラスセラミックは、良好なRF応答および良好な機械的強度を提供する。具体的には、SrOは、RFおよび機械的性能を維持しながら、セラミックの流動温度を低下させる。得られるガラス配合物は、10〜50モル%のSrO、5〜30モル%のAl2O3および20〜60モル%のB2O3を含有する。
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透明微小球
【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約75重量%の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび/またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。
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電気化学リアクター
【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター(20)は、固体電解質を備える電気化学セル(10)と導電性接続部材(24)との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材(30)を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成:
SiO2 60〜75質量%;
Al2O3 5〜15質量%;
Na2O及び/又はK2O 15〜25質量%;
CaO及び/又はMgO 1〜5質量%;
から実質的に構成されている。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを0〜9%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%である基板用ガラス。
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光学ガラス
【課題】屈折率(nd)が1.78以上、アッベ数(νd)が30以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比(θg,F)が0.624以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてSiO2、Nb2O5を含有し、質量%の比率でNb2O5が40%より多いことを特徴とする光学ガラス。質量%の比率でK2Oが2%未満、TiO2/(ZrO2+Nb2O5)が0.32未満、かつSiO2、B2O3、TiO2、ZrO2、Nb2O5、WO3、ZnO、SrO、Li2O、Na2Oの合計含有量が90%より多いことを特徴とする前記光学ガラス。
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ディスプレイ用カバーガラス
【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO2:50〜70、Al2O3:1〜22、ZrO2:0〜8、B2O3:0〜8、R2O:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はR2OとしてLi2Oを少なくとも1質量%有し、Al2O3とZrO2とを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。
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結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板
【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO240%〜60%、Al2O37%〜23%、TiO21〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P2O50%〜7%、B2O30%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO2+Al2O3)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 10〜48%、B2O3 3〜15%(ただし、15%は含まない)、Al2O3 2〜15%、Li2O 0〜20%、Na2O 0.1〜20%、K2O 0〜15%、CaO 0.1〜25%、SrO 0〜25%、BaO 0.1〜25%(ただし、25%は含まない)、La2O3 0〜4.5%、Nb2O5 0〜4.9%、ZrO2 0〜7%およびTiO2 0〜5%を含有し、かつ、Pb成分、P成分およびF成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。
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光学ガラスフィルター
【課題】通過域における透過率が高く、且つ、紫外域においてフラットな透過特性を有する光学ガラスフィルターを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2 40%〜70%、B2O3 1%〜20%、Al2O3 3%〜10%、K2O 0〜10%、Na2O 0〜5%、及び、Li2O 0〜3%(但し、K2O+Na2O+Li2Oで2%〜10%)を含有し、更に、ハロゲン化カリウム、及び、CoO 0.05%〜0.5%を含有し、肉厚2.0mmの試料において、330nm〜450nmの波長範囲の透過率が70%以上である。
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ガラス
【課題】本発明は、歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高温粘度が低いガラス(特にガラス板)を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜55%(但し、55%を含まず)、Al2O3 10.0超〜15%、B2O3 0〜15%、MgO 0〜3.7%未満、CaO 2.9超〜8%、SrO 4.0超〜15%、BaO 2.0超〜14%未満(但し、14.0%を含まず)、Li2O 0〜10%、Na2O 4.0超〜15%、K2O 0〜10%、ZrO2 0〜7%、Fe2O3 0.01〜1%を含有することを特徴とする。
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