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Fターム[4G062MM25]の内容

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Fターム[4G062MM25]に分類される特許

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【課題】フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等に好適に使用できる新たなリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び散乱中性子を1次中性子やX線から分離して測定することが可能な中性子検出用シンチレーターを提供する。
【解決手段】リチウムガラス材料20Al(PO−80LiFに対してNdF又はErFが添加されたリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター。 (もっと読む)


【課題】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、平面表示装置等の排気温度を上昇させるべく、熱処理工程でガラスに十分な量の結晶が析出すると共に、流動性と低熱膨張特性(結晶化後)が良好な封着材料を提供する。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、(1)ビスマス系ガラス粉末40〜100体積%と、耐火性フィラー粉末0〜60体積%とを含有し、(2)ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、Bi 74〜85%、B 4.5〜9.5%、ZnO 8〜16.5%、CuO 1.2〜8%含有し、(3)ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、質量分率で、ZnO/CuOの値が1〜10、ZnO/Bの値が0.9〜3であり、(4)実質的にPbOを含有しないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高い透磁率を有する基材を得ることができる磁性体ペーストを提供するとともに、このような磁性体ペーストを用いることにより、高性能な電子部品を提供する。
【解決手段】磁性体ペーストは、平均粒径が0.5〜10μmの磁性体焼結粉末、ガラス粉末および有機成分を含む。ここで、磁性体焼結粉末/ガラス粉末の質量比を80/20〜90/10の範囲とする。さらに、ガラス粉末におけるSiO2の割合を70〜90質量%とする。この磁性体ペーストを硬化させて基材12、16、22、26を作製し、基材上に電極パターン14、18、24、28を形成して、基材の積層体10を焼成することにより、高透磁率を利用したインダクタンスを有する電子部品を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶(最も析出量が多い結晶)として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル%で、ZnO 50〜80%、SiO 10〜40%、Al 0.1〜10%を含有すると共に、ウイレマイト:Al系結晶の割合が、モル比で、100:0〜99:1であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】10dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、Bが15.5モル%以上の組成を有するSiO−B−RO系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板3は封止領域5を備える。ガラス基板3の封止領域7上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層7が設けられている。枠状の封着材料層7は直線部7aとコーナー部7bとで構成されている。封着材料層7はコーナー部7bの幅L12が直線部7aの幅L11より広い。 (もっと読む)


【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、27〜33%のP25、50〜70%のSnO、0.5〜3%のTeO2、0〜10%のZnO、0〜5%のCaO、0〜5%のSrO、0〜5%のB23、0〜5%のGa23、0〜3%のGeO2、0〜3%のIn23、0〜3%のLa23、及び0〜3%のWO3を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス1の封着層6の形成に使用される。 (もっと読む)


【課題】X線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO30〜50%、Al0〜10%、B0〜20%、MgO+CaO+SrO(MgO、CaO、及びSrOの合量)0〜25%、BaO15〜35%、ZrO+TiO+La+Nb(ZrO、TiO、La、及びNbの合量)3〜40%を含有し、歪点が650℃以上、10keVにおけるX線吸収係数が150cm−1以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高信頼性を確保し、さらに環境問題に配慮したプラズマディスプレイパネルを実現することを目的としている。
【解決手段】上記の課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルは、一方の基板上に表示電極と誘電体層とが形成されたプラズマディスプレイパネルであって、誘電体層が、ビスマス成分、鉛成分を含まず、CuOとCoOのモル%で表現される含有量の合計が0.3%より大きく0.6%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低膨張、高強度であり、且つ低温で固相反応し得る耐火性フィラー粉末およびその製造方法を創案することにより、封着材料の低廉化を図るとともに、封着部位の破損及び未反応の原料に起因する封着不良を防止すること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、主結晶相がウイレマイト及びガーナイトであることを特徴とし、ウイレマイトとガーナイトの割合が、モル比で99:1〜70:30であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】450℃以下の低温域で良好に軟化流動し、且つ耐候性も良好なSnO−P系ガラスを創案することにより、近年の環境的要請を満たしつつ、電子部品や表示装置の長期信頼性を高めること。
【解決手段】本発明のSnO−P系ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%で、SnO 50〜70%、P 15〜25%(但し、25.0%を含まない)、B 0.1〜5%(但し、5.0%を含まない)、ZnO 1〜15%を含有し、且つ実質的にPbOを含有しないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】流動性の高いガラスタブレット、その製造方法およびガラスタブレット一体型排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のガラスタブレットは、ガラス粉末とフィラー粉末とからなるリング状のガラスタブレットであって、PbOを実質的に含有しないことを特徴とし、本発明のガラスタブレットの製造方法は、PbOを実質的に含有しないガラス粉末とフィラー粉末とを均一に混合する工程、前記混合粉末に熱分解性の良好なビークルを添加して顆粒とする工程、前記顆粒をプレス成形する工程、および、仮焼成する工程を含むことを特徴とする。また、本発明のタブレット一体型排気管は、ガラスからなる排気管の先端部の外周面に、PbOを実質的に含有しない、ガラス粉末とフィラー粉末とからなるガラスタブレットが固着されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 良好な隔壁パターンの形成が可能であるとともに、焼成後に得られる隔壁の反射率が高く、かつ、その面内均一性が高い隔壁を形成できる感光性ペーストを提供する。また、反射率の高い隔壁を形成し、輝度や色純度等の表示特性に優れた平面ディスプレイを提供する。
【解決手段】少なくとも無機成分ならびに感光性有機成分を含有する感光性ペーストであって、無機成分として屈折率が1.40〜1.80の範囲内である酸化物粒子により構成される平均2次粒子径が0.1〜5μmの範囲内である凝集粒子および低軟化点ガラス粉末を含有することを特徴とする感光性ペーストとする。 (もっと読む)


本発明は、20〜300℃の温度範囲での8〜10×10−6/Kの範囲内の熱膨張係数、580℃〜640℃の範囲内の変態点Tgならびに1065℃〜1140℃の範囲内の作業温度VAを有し、かつしたがってソーダ石灰ガラスに対する代替物として使用することができるアルミノケイ酸塩ガラスに関する。本発明の対象は、ガラスの高い熱負荷容量が有利である適用への、とりわけ半導体技術の分野における基板ガラス、スーパーストレートガラス及び/又はカバーガラスとしての、好ましくはCd−Te太陽光発電もしくはCIS太陽光発電ないしはCIGS太陽光発電への適用のための、そしてソーラー技術の他の適用への本発明によるガラスの使用でもある。 (もっと読む)


【課題】レーザー光等による局所加熱を適正に実行可能な封着材料を創案することにより、アクティブ素子等の劣化を防止しつつ、有機ELディスプレイ等の気密性および信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、遷移金属酸化物が1質量%以上ドープされていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】非常に良好な耐加水分解性と好適な熱膨張係数α20/300のほかに可能な限り高い紫外線透過率を有するガラスを提供すること。
【解決手段】以下のガラス組成を含有するかまたはそれらからなるホウケイ酸ガラスを提供する(組成は酸化物ベースの重量%で示されている):SiO 65〜72;B 15〜<20;Al 4〜6;NaO 0.5〜3.5;KO 1〜3.5;LiO 0.3〜1.5;CaO 0〜1.0;BaO 0.5〜4.0;LiO+NaO+KOの合計 3.8〜5.5;CaO+BaOの合計 1〜4;ならびに1または複数の非酸化性気泡除去剤 0.1〜2.0;および1または複数の還元剤 0.05〜0.5。 (もっと読む)


【課題】ダウンドロー法により熱収縮率の小さなガラス基板を直接製造し得るガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、ダウンドロー法により溶融ガラスをリボン状のガラスリボンに形成する形成工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、徐冷工程の後に、ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程とを備えるガラス基板の製造方法に関する。本発明に係るガラス基板の製造方法では、徐冷工程において、ガラスリボンの徐冷点からガラスリボンの徐冷点よりも50℃低い温度までの間の温度範囲におけるガラスリボンの平均冷却速度が下記式を満たすようにガラスリボンを冷却する。
log10R≦0.00018361Ta−0.23414Ta+75.29
但し、
R:ガラスリボンの平均冷却速度(℃/分)、
Ta:ガラスリボンの徐冷点(℃)、
である。 (もっと読む)


本発明は、高性能ガラスセラミック、また該ガラスセラミックの製造方法に関する。60〜73のSiO、15〜25のAl、2.2〜5のLiO、0〜5のCaO+SrO+BaO、0〜5のTiO、0〜5のZrO、0〜4のZnO、0〜3のSb、0〜3のMgO、0〜3のSnO、0〜9のP、0〜1.5のAs、0〜1のNaO、0〜0.5のKO、0〜1.2のNaO+KO、及び0〜1の着色酸化物の組成を重量%で有するリチウムアルミニウムシリケート(LAS)であり得る、ガラス又はガラスセラミック材料が使用される。素地に、所定の加熱速度で室温〜660℃、所定のプロセス時間で加熱速度をゼロまで徐々に減少させ、一定とするセラミック化熱処理を施し、所定の最大温度に加熱し、最大温度での保持時間を有さず、所定の冷却速度で室温まで冷却する。 (もっと読む)


【課題】耐電圧が高い誘電体層を備え、誘電体層やガラス基板の黄変を抑制するとともに絶縁破壊も抑制された信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、互いに交差する表示電極5とアドレス電極10とを有し、表示電極5およびアドレス電極10から選ばれる少なくとも1つの電極が第1のガラスを含む第1の誘電体層6で被覆されているプラズマディスプレイパネルである。前記第1のガラスは、MoO3を0.1〜4wt%含み、かつ、WO3を含まない。第1の誘電体層6で被覆されている前記電極は、銀および銅から選ばれる少なくとも1種を含む。 (もっと読む)


【課題】Al配線上に絶縁層を形成しても、焼成時にガラス中に発泡が生じ難く、また低温で焼成可能であり、しかも熱的安定性が良好であり、焼成時にガラスに失透が発生し難い絶縁層形成用ガラス組成物および絶縁層形成材料を創案することにより、発泡が少なく、且つ表面平滑性が良好な絶縁層を形成し、蛍光表示管等の高輝度化や高精細化に寄与すること。
【解決手段】本発明の絶縁層形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、モル%で、ZnO 15〜35%、B 25〜45%、SiO 5〜25%、CuO+Fe(CuO、Feの合量) 0.1〜15%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


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