Fターム[4G072AA04]の内容
Fターム[4G072AA04]に分類される特許
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酸化物カプセル化材料の水素化の強化方法
【課題】多結晶シリコン膜及びデバイス等の酸化物カプセル化材料を不動態化するために必要とされる水素化の時間が短縮され、多結晶シリコン薄膜トランジスタの電気的遷移特性が改良される、酸化物カプセル化材料の水素化の強化方法を提供する。
【解決手段】単原子水素の反射率が低い注入層を酸化物カプセル化材料上に形成した後、水素プラズマ等の原子水素源で水素化する。注入層はAu、Pt、水素化アモルファスシリコン等が好ましい。
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水素製造方法
【課題】 炭素源から離れて実行し得る水素製造方法を提供する。
【解決手段】本発明はアモルファスシリコンを、水、アルコール、もしくは、カルボン酸と反応させることにより水素を製造するための方法に関する。本発明方法は炭素源及び水源から切り離して実施可能であり、また、水素の運搬や貯蔵の問題も無く本来の場所で実行可能である。
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