説明

Fターム[4G072BB06]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 形状、構造 (3,484) | 長粒状 (19)

Fターム[4G072BB06]に分類される特許

1 - 19 / 19


【課題】1〜10nmの平均細孔径なるメソ細孔構造を有するシリカ殻からなるナノ中空粒子の簡便でかつ高い生産効率の製造方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤水溶液と、ナノサイズに形状制御した炭酸カルシウムを混合することにより、界面活性剤ミセル構造を当該炭酸カルシウム表面に形成し、シリコンアルコキシドの反応により前記ミセル構造に対応したメソ細孔構造を有するシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造する。 (もっと読む)


【課題】シリカ殻の任意の部位に選択的に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子を担持させたシリカ殻からなる複合ナノ中空粒子を提供すること、またナノ粒子の分散性を維持しつつ、中空粒子が持つ特性を保持したまま安定して供給する方法を提供することである。
【解決手段】平均細孔径の異なるシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造し、シリカ殻外表面、シリカ殻内、あるいはシリカ殻内表面の少なくとも一部位に選択的に金属または金属酸化物を担持させる。 (もっと読む)


【課題】操作が簡単で、しかも、汚染や異物混入が生じ難い多結晶シリコンロッドの破砕方法を提供すること。
【解決手段】中心軸Cの方向に力学成分を有する衝撃力F1(第1の衝撃力)を、打撃等により、多結晶シリコンロッド10の一方端部に加える。この衝撃力(打撃の力)F1は、多結晶シリコンロッド10の内部に弾性波(第1の弾性波)を発生させ、この弾性波により、多結晶シリコンロッド10の中心軸Cを分断する破砕面1を有する多結晶シリコン塊に破砕する。第1の衝撃力の付与は、多結晶シリコンロッド10の一方端部とは逆の端部である他方端部を固定した状態で行われることが好ましい。多結晶シリコンロッドは結晶粒の集合であり、ロッド内部では局所的に強度のばらつきがあるため、付加された衝撃力が局所的に強度の弱い部分に有効に作用し、長尺の多結晶シリコンロッドであっても全長に渡る破砕を実現させることができる。 (もっと読む)


【課題】高いスループット及びより良い収率を達成することができる方法を提供する。
【解決手段】高純度の半導体グレードの顆粒状シリコン、及びそのような顆粒状シリコンを製造する方法を開示する。第1の化学気相蒸着(CVD)反応装置内で、シリコン・シードにシリコンをデポジットさせ、それによってシードをより大きな二次シードに成長させて、商業的品質の顆粒状シリコンを製造することができる。第2の化学気相蒸着反応装置内で、二次シードに追加のシリコンをデポジットさせる。この明細書に記載する方法を用いて、常套の方法よりも高いスループット及びより良い収率を達成することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、新規な半導体シリコン膜及びそのような半導体シリコン膜を有する半導体デバイス、並びにそれらの製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の半導体シリコン膜(160)は、複数の細長シリコン粒子(22)が短軸方向に隣接してなる半導体シリコン膜である。ここでは、細長シリコン粒子(22)は、複数のシリコン粒子の焼結体である。また、このような半導体シリコン膜(160)を製造する本発明の方法は、第1のシリコン粒子分散体を、基材(100)上に塗布し、乾燥し、光(200)を照射して、第1の半導体シリコン膜(130)を形成する工程、第2のシリコン粒子分散体を、第1の半導体シリコン膜(130)に塗布し、乾燥し、光(200)を照射する工程を含む。ここで、この方法では、第1のシリコン粒子分散体の第1のシリコン粒子の分散が5nm以上である。 (もっと読む)


【課題】目的とする組成および粒径の無機化合物粒子を容易に得ることができる無機化合物粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】互いに異なる融点を持つ複数の元素を含む合成物である無機化合物粒子の製造方法。前記複数の元素のうち、前記無機化合物の融点以上の融点を有する元素を含む第一原料粒子と、前記無機化合物の融点未満の融点を有する元素を含む第二原料粒子とを含む原材料を、前記両原料粒子を構成する前記元素の状態図上のII領域(液−固相領域)とI領域(固相領域)の共晶温度以上、かつ前記無機化合物の融点未満の温度で加熱することによって、前記第一原料粒子に第二原料粒子の溶融液を含浸させて、前記第一原料粒子内での前記両元素の合成反応により前記無機化合物粒子を得る。 (もっと読む)


【課題】 球状でなく異形のシリカ微粒子であり、特に高分散性、低凝集性を有する異形シリカ微粒子であって、トナーへの付着性、及びトナーへの流動性の付与効果が良好な異形シリカ微粒子、及び該異形シリカ微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 各工程の反応温度を40℃〜100℃の範囲内とし、一般式(1):Si(OR(1)で示される4官能性シラン化合物又はその部分加水分解縮合生成物を、塩基性物質の存在下で親水性有機溶媒と水との混合媒体中で加水分解、縮合して、親水性シリカ微粒子の核粒子を生成する工程と、異形化促進触媒を系内に添加する工程と、引き続き、前記一般式(1)で示される4官能性シラン化合物又はその部分加水分解縮合生成物を系内に添加することで異形シリカ微粒子を生成する工程とを有することを特徴とする異形シリカ微粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】カリウムイオンの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、カリウムイオンを含有し且つ透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にカリウムイオンのイオンの供給源となる化合物およびアルカリ剤を添加し、アルカリ性とした後、加熱してシリカ粒子を形成させ、続いてビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させる工程を有することにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】トリアゾールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、液相にトリアゾールを含有し、透過型電子顕微鏡による長径/短径比が1.0〜5の範囲にありかつ長径/短径比の平均値が1.2〜3である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にトリアゾールおよびアルカリ剤を添加し、アルカリ性とした後、加熱してシリカ粒子を形成させ、続いてビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させることにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】カテコールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、カテコールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にカテコールおよびアルカリ剤を添加した後、加熱してシリカ粒子を形成し、ビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させることにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】アルコールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、アルコールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜6である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にアルコールおよびアルカリ剤を添加し、アルカリ性とした後、加熱してシリカ粒子を形成させ、続いてビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させる工程を有することにより製造することができる。 (もっと読む)


【解決手段】珪素粒子と二酸化珪素粒子との混合物を、非酸化雰囲気下1000〜1400℃で焼結させてなり、ゆるめ嵩密度が0.7〜2.0g/cm3、かつBET1点法で測定した比表面積が0.01〜30m2/gであることを特徴とする酸化珪素製造用原料。
【効果】本発明の酸化珪素製造用原料及びその製造方法によれば、酸化珪素製造時の反応性を低下させることなく、反応器単位容積あたりの原料充填率を高め、さらに吸湿を抑制し、安定した物性の酸化珪素を効率よく製造でき、装置部材の劣化を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、さらに、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】シリカ粒子の長径/短径比が1.1〜15であって、長径/短径比の平均値が1.2〜4である非球状の異形粒子群となっているコロイダルシリカである。これは,珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にアルギニンを加えて加熱し、ビルドアップの手法で粒子成長を行うことにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、さらに、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材やレジスト剥離・研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】シリカ粒子の長径/短径比が1.5〜15であって、長径/短径比の平均値が2.5〜6である非球状の異形粒子群となっているコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にヒドラジンを加えて加熱し、ビルドアップの手法で粒子成長を行うことにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、さらに、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】シリカ粒子の長径/短径比が1.5〜15であって、長径/短径比の平均値が2.5〜6である非球状の異形粒子群となっているコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にイミダゾール類を加えて加熱し、ビルドアップの手法で粒子成長を行うことにより製造することができる。 (もっと読む)


本発明は、1つ又は複数の研磨性フィラーを含有する無機ガラス質マトリクスを含む超硬複合体層を有する金属支持体に関する。本発明によれば、該フィラー粒子の直径、又は該フィラー粒子が小板状幾何学形状である場合には該フィラー粒子の厚みが、上記超硬複合体層の厚みよりも小さい。 (もっと読む)


【課題】 金属複合酸化物で被覆された鎖状シリカ系微粒子群を含有する水分散液の製造方法および前記シリカ系微粒子群を含有する水分散液並びにその有機溶媒分散液に関する。
【解決手段】少なくともジルコニウム、ケイ素および酸素からなる複合酸化物で被覆されたシリカ系微粒子を、該シリカ系微粒子の被覆物質または該被覆物質から延びた前記複合酸化物の帯状物質を介して複数個、連結してなる鎖状シリカ系微粒子群を含有する水分散液を製造する方法、該水分散液およびこれを溶媒置換して得られる有機溶媒分散液。 (もっと読む)


部分凝集疎水性コロイドシリカを調製する方法であって、該方法が:
(a)少なくとも1つの部分凝集親水性コロイドシリカを含むシリカゾルを
(b)(i)式RSiX4−a−bを持つ少なくとも1つの有機シラン;
(ii)式(RSiO)を持つ少なくとも1つの有機シクロシロキサン;
(iii)式RSiO(RSiO)SiRを持つ少なくとも1つの有機シロキサン;および
(iv)(i)〜(iii)の内の少なくとも2つを含む混合物
から選択される有機シリコン化合物と
(c)水;
(d)有効量の水混和性有機溶媒;および
(e)酸触媒
の存在下に反応させ、該部分凝集疎水性コロイドシリカおよび水相を生成させることを含み、式中、
が、ヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル;
Xが、加水分解可能な基;
aが、0、1、2、もしくは3;
bが、0もしくは1;
a+b=1、2、もしくは3、但し、b=1の場合a+b=2もしくは3;
mが、3〜10の平均値を持ち;
nが、0〜10の平均値を持つ
方法、ならびに該方法により生成された部分凝集疎水性コロイドシリカ。本発明はまた、
(A)硬化可能なシリコーン組成物;および
(B)部分凝集疎水性コロイドシリカ5〜60重量/重量%
を含む充填シリコーン組成物、ならびに該充填シリコーン組成物の反応生成物を含む硬化シリコーン生成物をも提供する。 (もっと読む)


【課題】 鱗片状シリカとは形態的に異なる針状の低結晶性シリカを、ケイ灰石やアルミノケイ酸塩を経ることなく、水熱反応により創出する。
【解決手段】 アルカリ性のリチウム源及びシリカ源を含む水溶液又は水スラリーを出発原料とし、水熱処理することにより、低結晶性の針状シリカを得ることができ、特にアルカリ性のリチウム源として水酸化リチウム等を使用し、シリカ源としてシリカゾル等を使用するか、アルカリ性のリチウム源及びシリカ源としてケイ酸リチウムを使用することにより、直径が0.001〜1μmの針状シリカであり、アスペクト比が5〜200である針状シリカが提供される。 (もっと読む)


1 - 19 / 19