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Fターム[4G072DD05]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 粒径 (1,792) | 1−0.1μm (350)

Fターム[4G072DD05]に分類される特許

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【課題】球状シリカの含有量を抑制でき且つ樹脂組成物に含有させた場合に流動性などの性能を十分に高くできるシリカ微粒子を提供すること。
【解決手段】体積平均粒径が1.5μm以下であって、全体の質量を基準として90%以上の破砕シリカと、体積平均粒径が0.05μm〜50μmであって、0%超10%以下の球状シリカとを有する。破砕シリカと球状シリカとを混合することにより、流動性を向上できる。1.5μm以下にすることで、樹脂組成物中に分散させたときの充填性が向上でき、樹脂組成物中に分散させ、基板などに適用した場合のガラスクロスへの含浸性を向上でき、樹脂組成物中に分散させたときの沈降が遅くなり、取り扱いが容易になり、樹脂組成物を硬化して得た硬化物の外観を滑らかにでき、加工性も向上できる。 (もっと読む)


【課題】新規な無機酸化物粒子分散体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の無機酸化物粒子分散体の製造方法は、無機酸化物からなる粒子と、表面修飾剤を含む溶液を湿式媒体ミルで撹拌する方法である。ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか1種の酸化物、またはいずれか2種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。また、表面修飾剤は、カップリング剤または界面活性剤であることが好ましい。また、水の添加において、カップリング剤に含まれるアルコキシ基のモル数に対する水のモル数の比は、0.1〜5の範囲内にあることが好ましい。また、湿式媒体ミルは、ビーズミルであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】CMP研磨における第1段研磨において、ディッシングの悪化を抑えつつ、研磨残りがなく、第2段研磨において、ファングを改善できるCMP用研磨組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)、(2)および(3)で表される少なくとも1種の基により表面改質されていることを特徴とする表面改質コロイダルシリカ、およびこれを含むCMP用研磨組成物。 (もっと読む)


【課題】芯材の表面に被覆層が均一に形成された粒子を高い量産性で容易に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】被覆層を有する粒子の製造方法は、芯材粒子が媒体に分散してなる母液20を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置13に被覆層形成用の反応物を供給し、該強分散装置13において該母液20を強分散させた状態下に該芯材粒子と該反応物とを反応させて、該芯材粒子の表面に被覆層を形成する。複数の強分散装置13が、循環経路に対して並列に又は直列に設けられていることが好ましい。また時間の経過と共に反応物の供給量及び/又は濃度を漸減させることも好ましい。 (もっと読む)


【課題】均質なメソ細孔構造を有し、粒子径が均一な中空構造又はコアシェル構造を有するメソポーラスシリカ粒子の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】中空構造又はコアシェル構造を有し、外殻部がメソ細孔構造を有するメソポーラスシリカ粒子の製造方法であって、水不溶性物質(a)を及び水を含有する分散液(A)に、陽イオン界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる1種以上の界面活性剤(b)とシリカ源(c)とを経時的に添加して反応を行う工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、鉄シリサイドナノワイヤの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の鉄シリサイドナノワイヤの製造方法は、ヒート炉及び反応室を含む生長装置を提供する第一ステップと、鉄粉及び生長基板を提供し、該鉄粉及び該生長基板を分離して、前記反応室に置く第二ステップと、前記反応室に珪素ガスを導入し、該反応室を600℃〜1200℃程度に加熱して、前記生長基板に鉄シリサイドナノワイヤを生長させる第三ステップと、を含む。 (もっと読む)


プロテアーゼを阻害するために使用するシリカが提供される。特に、胃腸菅内の有害なプロテアーゼ活性または有害なタンパク質分解と関連する、疾患または症状の、治療または予防のためのシリカが提供される。
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本発明は、表面修飾二酸化ケイ素粒子またはシリカゾルであって、その水性シリカゾルが、少なくとも1種のアルコキシシランを含む少なくとも1種の第1の修飾剤と、ハロゲンシラン、シロキサンおよびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種の第2の修飾剤とを使用して反応されて、ここで、その第1または第2の修飾剤を使用する反応の前に水分が除去されて、生成され得る表面修飾二酸化ケイ素粒子またはシリカゾルに関する。 (もっと読む)


本発明は、2〜250nmの平均粒子寸法を有する金属酸化物または半金属酸化物ナノ粒子であって、ナノ粒子が少なくとも2つの異なるフリーラジカル重合可能基を表面に有することを特徴とするナノ粒子に関する。本発明は更に、そのようなナノ粒子から製造されるナノ複合体に関し、それらを製造するための方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子分散体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題は、重合体粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系の分散媒中で、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、および前記工程により得られたコア・シェル粒子を加熱することにより重合体粒子を分解する工程を含むことを特徴とする。
Si(OR4−d …(1)
(式中、R、Rは独立して1価の有機基を表し、dは0〜3の整数を表す。)
シリカ系中空粒子の製造方法により達成される。 (もっと読む)


安定な表面を有する無機半導体ナノ粒子の製造方法が提供される。方法はシリコンまたはゲルマニウムのごとき無機バルク半導体物質を供し、次いで、選択された還元剤の存在下バルク半導体物質を粉砕することを含むことを特徴とする。還元剤は、半導体物質の1以上の成分元素の酸化物を化学的に還元するか、または優先的に酸化することによってかかる酸化物の形成を防止するように作用し、それにより、ナノ粒子間の電気的接触を可能にする安定な表面を有する半導体ナノ粒子を供する。粉砕はミルで行なわれ、粉砕手段および/またはミルの1以上の成分が、選択された還元剤を含む。
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【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記課題は、コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水及びアルコールの混合分散媒中に、無機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含むことを特徴とするシリカ系中空粒子の製造方法により達成される。また、前記無機酸は、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸から選ばれる少なくとも一種であることができる。そして、前記コア粒子が炭酸カルシウム粒子であることができる。 (もっと読む)


【課題】球状で,ナノレベルの微小な粒子径を有し,粒度分布が極めて狭く,低屈折率で且つ屈折率の調節が可能なシリカガラス微粒子及びその製法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシランを原料として,その加水分解反応及び重合反応により球状微粒子の形態に作製され,次いで焼成されてなるものである,平均粒子径が5nm以上1000nm未満の範囲にあり,かつ屈折率が1.35〜1.44であることを特徴とする球状シリカガラス微粒子。 (もっと読む)


【課題】銀塩写真調光沢インクジェット記録体のインク受容層が備えるべき品質を高度に実現し、かつ生産性が良好で、その製造の際における設備面で負担の少ないインクジェット記録体向け複合微粒子の提供。
【解決手段】核粒子の表面の少なくとも一部にアミノ基とM−O−Si結合(Mは2価以上の金属原子を示す)を含む被覆層を有する超微粒子と、無機顔料が、複合化されてなる複合微粒子。 (もっと読む)


BET表面積175±15m2/g、および該BET表面積に基づく18mPas・g/m2よりも大きい増粘効果を有する凝集した一次粒子形態でのフュームド二酸化ケイ素粉末がポリジメチルシロキサンで疎水化される。この疎水性フュームドシリカはBET表面積110±25m2/gを有する。それをエポキシ樹脂中で使用できる。それらのエポキシ樹脂は接着剤として使用できる。 (もっと読む)


【課題】均細孔径1nm未満のマイクロ細孔構造を有する中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(1)中空シリカ粒子であって、粉末X線回折測定において、結晶格子面間隔(d)が1〜10nmの範囲に相当する回折角(2θ)に1本以上のピークを示し、結晶格子面間隔(d)が1nm未満の範囲に相当する回折角(2θ)にピークを示さず、かつ外殻部が平均細孔径1nm未満のマイクロ細孔構造を有する中空シリカ粒子、(2)外殻部が平均細孔径1〜10nmのメソ細孔構造を有する中空シリカ粒子(A)をシラン化合物(B)処理、又は700〜950℃で焼成処理する工程を含む、前記中空シリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】多孔性構造のコアのシリカ粒子内部の連通孔に蛍光色素化合物、吸光色素化合物等の機能性化合物を閉じ込めたコア‐シェル構造のシリカナノ粒子の提供。
【解決手段】次の工程(a)及び(b)を含んでなることを特徴とするコア‐シェル構造のシリカナノ粒子の製造方法。(a)オルガノアルコキシシラン化合物をテトラアルコキシシランとともにアンモニア水含有溶媒中で加水分解した後に縮重合させ、連通孔を有するシリカ粒子を調製する工程、及び(b)前記アンモニア水含有溶媒に機能性化合物をあらかじめ溶解させておき、前記工程(a)により前記シリカ粒子を調製した後に、前記アンモニア水含有溶媒にテトラアルコキシシランを追加的に含有させ、前記シリカ粒子の表面上を包囲してなる緻密シリカのシェルを共有結合により形成することにより、前記シリカ粒子内部の前記連通孔に前記機能性化合物を前記シェルにより閉じ込める工程。 (もっと読む)


【課題】 アレルギーを発生させるタンパク質や神経伝達物質などのラジカル性官能基及び過酸物を作る脂質、DNAやRNAを電気的に吸着する超微粒子、特に界面活性剤を使用せずに超音波だけで完全分散可能な超微粒子を提供し、該粒子表面電位により正負又は中性域に帯電する生理活性物質を直接電気吸着しアレルゲンなどの有害物質を除去することを課題としている。
【解決手段】 プラズマ等のナノ結晶工学により、表面処理をせずに完全分散できUV全域を遮蔽できるナノ粒子、又はその水分散体を作ること、また、等電位点を酸性側にシフトさせ中性域での分散性を極めて高めるため、必要に応じて結晶構造中に異種金属イオン又は原子を注入せしめて一体化するとともに、活性酸素を排出させない結晶構造を創製せしめて、同時に超音波分散又は及び遠心分離法により正又は負に帯電せしめ有機物質を直接吸着できる超微粒子を得る。
また、これらの微粒子をエマルション、水分散体、接着剤に均質混合させたり、フィルター状不織布などに直接吸着させて複合体を得る。 (もっと読む)


【課題】疎水性に優れると共に一次粒子径の変動係数が小さいシリカ粒子、およびその製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子は、メトキシ基および/またはエトキシ基と、炭素数4〜18のアルコキシ基と、−OSiR23(R2はアルキル基、アリール基、およびアルケニル基から選択された一種または二種以上の基を表す)とが表面に結合し、一次粒子径の変動係数が10.0%以下であるシリカ粒子である。この粒子は、R5mSiR6(4-m)(R5は置換基を有していても良いアルキル基等から選択された一種または二種以上の基を表し、R6はメトキシ基、およびエトキシ基から選択された一種または二種以上の基を表し、mは0〜3の整数を表す)を溶媒中で加水分解縮合させて得た分散液の前駆体粒子(I)の表面に、炭素数4〜18のアルコキシ基を結合させ、更にシリル化剤で表面処理することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】 流動性と成形性に優れ、バリの発生が更に少ない樹脂組成物、特に半導体封止材料を提供することであり、それに好適な超微粉末と超微粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】 SiO及びAlの酸化物換算の含有率が99.5質量%以上、平均粒子径が0.05〜1.0μm、粒度分布の変動係数が10〜100%であり、Alの酸化物換算の含有率が10〜99質量%である超微粉末。この超微粉末を0.5〜20質量%含有してなる平均粒子径が5〜50μmの無機質粉末。可燃ガスと助燃ガスとによって形成された高温火炎中にSi源物質とAl源物質を噴射し加熱処理して製造する超微粉末の製造方法であって、Si源物質とAl源物質は別々のバーナーから噴射し、Al源物質よりもSi源物質を1〜20cm下部から噴射する本発明の超微粉末の製造方法。 (もっと読む)


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