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Fターム[4G072FF04]の内容

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Fターム[4G072FF04]に分類される特許

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【課題】エネルギー密度の高い蓄電装置の構造および作製方法を提供する。
【解決手段】空気極の構造を、第1の集電体と、第1の集電体に接して設けられた凸状構造物を有する第2の集電体と、1層以上100層以下のグラフェン膜を有する触媒層と、を備える構造とする。これにより、まず、第2の集電体の効果により空気極の表面積を飛躍的に増大させることが可能となる、そして、グラフェン膜は貴金属などの触媒を用いことなく触媒反応を発現できるため、第2の集電体上に触媒層を備える構造とすることにより、蓄電装置のエネルギー密度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】サイクル特性及び充放電容量が向上させることが可能であり、活物質層に適用可能なシリコン膜の作製方法を提供する。また、当該シリコン膜を用いた蓄電装置の作製方法を提供する。
【解決手段】導電層上に、LPCVD法により、結晶性を有するシリコン膜を形成し、原料ガスの供給を停止し、当該原料ガスを排気すると共に、当該シリコン膜を加熱処理し、当該原料ガスを反応空間に供給し、LPCVD法で当該シリコン膜をウィスカー形状に成長させることである。また、ウィスカー形状に成長させたシリコン膜を負極に含まれる活物質層に用いて蓄電装置を作製することである。 (もっと読む)


【課題】エタノール中で低摩擦・低摩耗を示し、摺動部材として用いるのに適した低摩擦合金及びその製造方法を提供する。
【解決手段】αFeSi2単相、又は、αFeSi2相とFeSi相あるいはαFeSi2相とSi相の2相、又は、αFeSi2相とFeSi相と Si相の3相から構成され、合金中のFeとSiの原子比が35:65から20:80までの範囲内であり、純度90%以上のエタノール中においてSi3N4からなる部材相手に低摩擦を示すαFeSi2基低摩擦合金であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】空隙の発生を抑制しつつ、迅速に開口を埋め込むことができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】Siからなる金属膜202上に絶縁膜204が形成されたウエハ12であって、絶縁膜204の一部に開口部206が形成されこの開口部206に金属膜202が露出したウエハ12を処理室106内へ搬送し処理室106内へ少なくともDCSとCl2とを供給してウエハ12の金属膜202上に選択的に第1のSi膜252を形成し、処理室106内へ少なくともDCSを供給してウエハ12の絶縁膜204及び第1のSi膜252上に第2のSi膜254を形成する。 (もっと読む)


【課題】金属とリチウムとの合金化・脱合金化反応を利用したリチウムイオン二次電池用負極材に好適な、高容量で、充放電サイクル性に優れる複合粒子、その製造方法、それを用いたリチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池を提供すること。
【解決手段】複合粒子を、リチウムを電気化学的に吸蔵・放出できる金属Aと、前記金属Aよりも導電性が高く、且つ前記金属Aよりもリチウムの吸蔵・放出能力が低い金属Bと、を含有して構成し、粉体電気抵抗が圧力50MPaにおいて1×E1Ω・cm以上1×E8Ω・cm以下とする。 (もっと読む)


【課題】不純物汚染を十分に抑制しながら、低コストで、生産性良く気相成長を行うことができる気相成長装置及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。
【解決手段】気相成長装置10の反応チャンバー12内に配設されたサセプタ17のウェーハWの載置面が、原料ガスから生成された厚さ6〜20μmのポリシリコン膜で被覆され、かつ、前記気相成長装置10を構成する部材のうち前記反応チャンバー12内に露出した金属部材の表面が、原料ガスから生成された反応副生成物からなる膜で被覆された反応チャンバーを具備する気相成長装置とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、簡単かつ効率的に、薄片径の揃った、また、表面が平坦な薄片状物質を得ることができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機金属化合物を含み微粒子を分散させた塗布液を表面粗さRaが60〜200nmである基材上に塗布し、該基材を乾燥することで、基材上に前記微粒子を含む有機金属化合物由来の薄膜体を形成し、前記乾燥工程中、及び/または、乾燥工程後に、前記薄膜体中の微粒子またはその近傍を起点として前記薄膜体にクラックを生じせしめた後に、前記基材から薄膜体を剥離すること。 (もっと読む)


【課題】低濃度の均一相を有するブタノール溶液から、ブタノールが高濃度で相分離しない均一相のブタノールを効率よく分離濃縮する方法を提供する。
【解決手段】低濃度の均一相を有するブタノール水溶液から、浸透気化分離法により、その濃度が80wt%以上の均一相のブタノール水溶液を得ることができ、浸透気化法に用いる膜として、25℃以上で3時間20分以上撹拌して調製した合成ゲルを用いて、種結晶を塗布した多孔質基板上に水熱合成を施すことでシリカライト膜を形成し、さらにその上にシリコンゴムコーティングを施すことにより製造されたものが用いられる。 (もっと読む)


【課題】大きな汚れを始めとする様々な汚れに対する防汚性能に優れたコーティング膜を、クラックなどの欠陥を生じさせることなく容易に形成できるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】5nm以上25nm以下の平均粒径を有する無機微粒子の一次粒子2と、5nm以上25nm以下の平均粒径を有する無機微粒子の一次粒子が凝集した二次粒子3とを水性媒体中に分散してなることを特徴とするコーティング組成物であり、前記二次粒子は、高分子凝集剤により凝集させている。 (もっと読む)


【課題】従来のインゴット(CZ法等)によらず、シリコンウエハを含む半導体ウエハを直接製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】不活性ガスを充填したチャンバ1内において、長手方向に延長した保持炉3に半導体の溶融体5を保持し、前記保持炉3の上方からウエハ基板となる金属テープ2を所定の速度で供給し、下降させて供給し、前記シリコン溶融体5上面に接触させ、前記テープ2の少なくとも1面に前記半導体を凝固付着させ、該テープ2を上方に引上げ、基板で補強されたウエハを製造する。 (もっと読む)


【課題】 金属酸化物がナノメートルオーダーのファイバー、粒子又はリボン形状を有し、これらを基本ユニットとして集合してなるナノ構造体で固体基材が被覆されている構造物とその簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程(I)と、前記工程(I)で得られたポリマー層を有する固体基材と、金属酸化物のソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中に金属酸化物を析出させナノ構造複合体被覆型構造物を得る工程と、前記工程(II)で得られたナノ構造複合体被覆型構造物を焼成する工程(III)と、を有することを特徴とする金属酸化物を主構成成分とするナノ構造体で被覆された金属酸化物被覆構造物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】可燃性溶媒を用いることなく、基板上に無機膜を安全かつ低時間、超低電力で製膜できる、工業的に極めて有利な無機膜の製膜方法を提供する。
【解決手段】泳動電着法により基板表面に無機膜を製膜する方法において、電着浴の溶媒としてハイドロフルオロエーテルを用いた無機膜を製膜する。
ハイドロフルオロエーテルとしては、好ましくは下記一般式(I)で示されるフルオロエーテルを用いる。
R1−O−R2 (I)
(R1およびR2は、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6のフルオロアルキル基であり、かつR1およびR2の少なくとも一方は炭素数1〜6のフルオロアルキル基である。) (もっと読む)


【課題】リチウム二次電池において、不可逆容量を低減し、かつ、充放電サイクル特性を向上させる。
【解決手段】リチウム二次電池用負極の製造方法は、集電体51上にケイ素を含む活物質膜53を形成する工程(A)と、チャンバー内において、減圧状態で活物質膜53にリチウム55を付与する工程(B)と、工程(B)の後、減圧状態のチャンバーに炭酸ガスを供給して、チャンバー内の圧力を上げる工程(C)と、工程(C)の後、炭酸ガスを含む雰囲気中で、活物質膜53が形成された集電体51を所定の温度で保持する工程(D)とを包含する。 (もっと読む)


超疎水性コーティング、超疎水性コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびに超疎水性コーティングを調製する方法が提供される。例示的な超疎水性デバイスは、基材構成部分と、この基材構成部分を覆って配置された1層または複数の超疎水性コーティングであり、これらの1層または複数の超疎水性コーティングの少なくとも1層が、少なくとも約150°の水接触角および約1°未満の接触角ヒステリシスを有する超疎水性コーティングとを含むことができる。これらの1層または複数の超疎水性コーティングは、超高水分含量酸触媒作用によるポリシリケートゲルを含むことができ、このポリシリケートゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】簡単な操作で、しかも基材に熱影響を与えずに短時間に、緻密なシリカ膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材1の表面1aにポリシラザン含有膜3を形成する工程と、大気圧プラズマ領域を通過させたキャリアガスPを前記ポリシラザン含有膜3に吹き付けてシリカ膜4へ転化させる工程と、を有することを特徴とするシリカ膜4の形成方法を用いることにより、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】排ガス触媒、光触媒、カーボンナノチューブ合成用触媒などに用いた時に、微粒子が持つ機能を最大限に発揮させることが可能な微粒子充填メソポーラス体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】表面に開口した細孔を有するメソポーラス体と、前記細孔内に担持された金属又は金属酸化物からなる微粒子とを備え、前記細孔の内径は、前記微粒子の直径より大きく、かつ、微粒子の表面を覆う有機物がない微粒子充填メソポーラス体。金属又は金属酸化物からなり、表面が有機物で被覆された微粒子を細孔内に内包するメソポーラス材料からなる有機物被覆微粒子充填メソポーラス体を製造する有機物被覆微粒子充填メソポーラス体製造工程と、前記有機物を除去する有機物除去工程とを備えた微粒子充填メソポーラス体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 任意形状の固体基材表面がシリカで被覆されている構造物、更にその被覆層中に金属イオン、金属ナノ粒子、有機色素分子が含まれている構造物、及びこれら構造物の簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程(1)と、前記で得られたポリマー層を有する固体基材と、シリカソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中にシリカを析出させ、ナノ構造複合体を形成させる工程(2)と、を有することを特徴とするナノ構造複合体被覆型構造物の製造方法及び該製法で得られる、固体基材の表面が、ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーとシリカとを含有するナノ構造複合体で被覆されていることを特徴とするナノ構造複合体被覆型構造物。 (もっと読む)


【課題】航空機及び航空宇宙機用の金属表面保護被膜の構成成分としてのナノ構造材料とその製造方法の提供。
【解決手段】式(1)、(2)または(3):Z4−xSi((R’)−F)(1)Z4−x−y(F’−(R’)Si((R’)−F)(2)n−ma−mb(F’−L)maM(L−F)mb(3)の官能化剤を少なくとも2種用いて官能化された、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタンまたは酸化セリウム(IV)を主成分とする少なくとも1種のナノビルディングブロックを含む。 (もっと読む)


本発明は、1つ又は複数の研磨性フィラーを含有する無機ガラス質マトリクスを含む超硬複合体層を有する金属支持体に関する。本発明によれば、該フィラー粒子の直径、又は該フィラー粒子が小板状幾何学形状である場合には該フィラー粒子の厚みが、上記超硬複合体層の厚みよりも小さい。 (もっと読む)


【課題】メソ細孔が基板上に略垂直に配向したメソポーラスシリカ膜、メソポーラスシリカ膜構造体、及び該構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】(1)平均細孔周期が1.5〜6nmのメソ細孔構造を有するシリカ膜であって、該メソ細孔が膜表面に対して75〜90°の方向に配向しているメソポーラスシリカ膜、(2)該メソポーラスシリカ膜が基板上に形成された構造体、及び(3)特定の陽イオン界面活性剤を特定量含有する水溶液を調製し、該水溶液中に基板を浸し、加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源を特定量加え、10〜100℃の温度で撹拌して、基板表面にメソポーラスシリカ膜を形成した後、陽イオン界面活性剤を除去するメソポーラスシリカ膜構造体の製造方法である。 (もっと読む)


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